JP2006301580A - 有機電界発光素子、及びこの発光素子にディスプレイ信号を供給する構造とその形成方法 - Google Patents
有機電界発光素子、及びこの発光素子にディスプレイ信号を供給する構造とその形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006301580A JP2006301580A JP2005374760A JP2005374760A JP2006301580A JP 2006301580 A JP2006301580 A JP 2006301580A JP 2005374760 A JP2005374760 A JP 2005374760A JP 2005374760 A JP2005374760 A JP 2005374760A JP 2006301580 A JP2006301580 A JP 2006301580A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode layer
- layer
- scan line
- disposed
- sub
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 13
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 601
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 55
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 17
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 14
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 14
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 8
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- -1 for example Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/179—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
- H10K59/1795—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals comprising structures specially adapted for lowering the resistance
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】アノード電極層200とカソード電極層202が交差して形成される発光領域204を含む発光素子は、アノード電極層と離隔されるように形成され、上面に形成されたビアホール208及びカソード電極層202と同一の導電性を有する物質からなる導電層216を含むスキャンライン201を含み、導電層216はビアホール208を通じてカソード電極層202にそれぞれ電気的に接続される。導電層216とカソード電極層202を全部アルミニウムのような同一物質で形成すれば、抵抗がかなり減少し、広い接触面積を提供できる。
【選択図】図2
Description
図1(a)は、従来の有機電界発光素子を示した平面図である。図示するように、従来の有機電界発光素子は、アノード電極層100、カソード電極層102及びスキャンライン101を含む。
サブ電極層114の抵抗値が相対的に大きい。また、サブ電極層114とカソード電極層102との間の接触面積が相対的に小さい。従って、スキャンライン電極層112及びサブ電極層114を通じて、カソード電極層102に伝送されるスキャン信号は、かなり減衰される。
好ましくは、前記スキャンラインは、スキャンライン電極層、第1サブ電極層、前記導電層及び第2サブ電極層が順次積層され、前記少なくとも一つのビアホールは導電層まで延びるように前記第2サブ電極層に形成される。また、前記導電層とカソード電極層はアルミニウムからなっていてもよく、前記サブ電極層は、モリブデンまたはクロムからなっていてもよい。
好ましくは、前記各スキャンラインは、スキャンライン電極層、第1サブ電極層、前記導電層及び第2サブ電極層が順次積層される。また、前記導電層とカソード電極層はアルミニウムからなり、前記サブ電極層は、モリブデンまたはクロムからなる。
好ましくは、前記スキャンラインは、スキャンライン電極層、第1サブ電極層、前記導電層及び第2サブ電極層が順次積層される。また、前記導電層とカソード電極層は、アルミニウムからなり、前記サブ電極層は、モリブデンまたはクロムからなる。
好ましくは、前記スキャンラインは、スキャンライン電極層,第1サブ電極層,前記導電層及び第2サブ電極層が順次積層される。また、前記導電層とカソード電極層は、アルミニウムからなり、前記サブ電極層は、モリブデンまたはクロムからなる。
ここで、前記カソード電極層及び前記導電層は、アルミニウムで形成され得る。
図2(b)を参照すると、各ピクセル204(「ピクセル領域または単位ピクセル」と称する。)はアノード電極層200、発光層222及びカソード電極層202を含む。発光層222として有機物層が例示される。ピクセル領域は、一般に有機物層によって被せられた基板上の領域として理解することができる。有機物層222は正孔輸送層(HTL)、発光層(EML)及び電子輸送層(ETL)を含む。
第2サブ電極層218は、導電層216の酸化を防止する。やはりモリブデンまたはクロムが第2サブ電極層218を形成するために使われ得る。発光素子製造工程で水分が導電層216に浸透するとき、第2サブ電極層218は前記水分が導電層216に浸透することを防止する。
導電層216は、金属、例えば、アルミニウム(Al)からなる。
全体的な抵抗値を低くするために、導電層216とカソード電極層202の導電性が実質的に同じであることが好ましい。例えば、もし導電層216とカソード電極層202の全てがアルミニウムのような同じ物質で形成されるものあれば、2層の導電性は相互間で同一になる。
図4(a)に示されるように、基板400上にアノード電極層402及びスキャンライン電極層404が蒸着される。例えば、基板400上にITO層が蒸着され、その後、前記ITO層がパターニングされて、アノード電極層402及びスキャンライン電極層404が形成される。
基板500上に、アノード電極層502及びスキャンライン501を相互離隔されるように形成する。スキャンライン501は、スキャンライン電極層512、第1サブ電極層506、導電層508及び第2サブ電極層516を順次積層して形成する。ここで、導電層508は、アルミニウムが好ましく、第1サブ電極層506及び/または第2サブ電極層516は、モリブデン(Mo)またはクロムが好ましい。
基板700上に、アノード電極層702及びスキャンライン701を相互離隔するように形成する。スキャンライン701は、スキャンライン電極層704、第1サブ電極層706、導電層708及び第2サブ電極層716を順次積層して形成される。ここで、導電層708は、アルミニウムが好ましく、第1サブ電極層706及び/または第2サブ電極層716は、モリブデンまたはクロムが好ましい。次いで、スキャンライン701の終端一部がエッチングされて導電層708が露出するように、切り欠き部712が形成される。
基板800上にアノード電極層802及びスキャンライン801を相互離隔するように形成する。スキャンライン801は、スキャンライン電極層804、第1サブ電極層806、導電層808及び第2サブ電極層816を順次積層して形成される。ここで、導電層808は、アルミニウムが好ましく、第1サブ電極層806及び/または第2サブ電極層816はモリブデンまたはクロムが好ましい。導電層808は、スキャンライン801とアノード電極層802との間の空間まで延びるように形成される。
201 スキャンライン
202 カソード電極層
204 ピクセル
208 ビアホール
212 スキャンライン電極層
214 第1サブ電極層
216 導電層
218 第2サブ電極層
220 絶縁層
222 発光層
Claims (46)
- 基板と、
該基板のスキャンライン領域内で前記基板上に配置されたスキャンライン電極層、
前記スキャンライン領域内で前記スキャンライン電極層上に配置され、前記スキャンライン電極層と電気的に接続するように構成された第1サブ電極層と、
前記スキャンライン領域内で前記第1サブ電極層上に配置され、前記第1サブ電極層と電気的に接続するように構成された導電層と、
前記スキャンライン領域で前記導電層上に配置された第2サブ電極層と、
前記基板のピクセル領域内で前記基板上に配置されたアノード電極層と、
前記ピクセル領域内で前記アノード電極層上に配置された有機物層と、
前記ピクセル領域内で有機物層上に配置されたカソード電極層とを含み、
前記スキャンライン領域は、前記スキャンライン電極層によって被せられた基板領域として形成され、前記ピクセル領域は、前記有機物層によって被せられた基板領域として形成され、
前記カソード電極層は、前記ピクセル領域から前記スキャンライン領域に向かって延びて前記導電層と電気的に接続され、
前記導電層の電気導電性は、前記カソード電極層の電気導電性と実質的に同一であることを特徴とする有機電界発光素子。 - 前記カソード電極層は、前記導電層と直接的に接触するように配置されることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。
- 前記スキャンライン領域内で前記第2サブ電極層上に配置される絶縁層をさらに含み、
少なくとも一つのビアホールが前記絶縁層及び前記第2サブ電極層に形成されて、前記導電層の一部を露出させ、
前記カソード電極層は、前記導電層上及び前記少なくとも一つのビアホール内に配置されたことを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。 - 前記絶縁層は前記スキャンライン領域から前記ピクセル領域まで前記基板上に配置され、
前記カソード電極層は、前記絶縁層上に配置されることを特徴とする請求項3に記載の有機電界発光素子。 - 前記カソード電極層は、前記導電層の側部と電気的に接続するように配置されることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。
- 前記カソード電極層は、前記導電層の高さと実質的に同一の高さで、前記スキャンライン領域から前記ピクセル領域まで水平に延びることを特徴とする請求項5に記載の有機電界発光素子。
- 前記スキャンライン領域から前記ピクセル領域まで前記基板上に配置され、前記導電層の高さと実質的に同一の高さで、前記カソード電極層を支持する支持層をさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の有機電界発光素子。
- 前記スキャンライン電極層、第1サブ電極層、導電層及び第2サブ電極層は、全部前記スキャンライン領域上で、少なくとも前記基板の一部を露出するように配置され、
前記カソード電極層は、前記スキャンライン領域上で、少なくとも前記基板の一部を充填するように配置されることを特徴とする請求項5に記載の有機電界発光素子。 - 前記導電層は、前記スキャンライン領域から前記スキャンライン領域と前記ピクセル領域との間の一部の前記基板上に延びるように配置され、
前記カソード電極層は、前記ピクセル領域から前記スキャンライン領域と前記ピクセル領域との間の一部の前記基板上に延びるように配置され、前記スキャンライン領域と前記ピクセル領域との間の一部で、前記導電層と電気的に接続されることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。 - 前記スキャンライン領域内では、前記スキャンライン電極層は前記基板上に配置され、前記第1サブ電極層は前記スキャンライン電極層上に配置され、前記導電層は前記第1サブ電極層上に配置され、前記第2サブ電極層は前記導電層上に配置され、
前記ピクセル領域では、前記アノード電極層は前記基板上に配置され、前記有機物層は前記アノード電極層上に配置され、前記カソード電極層は前記有機物層上に配置されることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。 - 前記カソード電極層及び前記導電層は、同じ導電性物質で形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。
- 前記導電性物質はアルミニウムであることを特徴とする請求項11に記載の有機電界発光素子。
- 前記第1サブ電極層及び第2サブ電極層の両方またはいずれか一つは、モリブデンまたはクロムで形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光素子。
- 発光素子にディスプレイ信号を供給するための構造であって、
基板上に配置されるスキャンライン電極層と、
前記スキャンライン電極層上に配置され、前記スキャンライン電極層と電気的に接続するように構成された導電層と、
発光素子のピクセル領域から延びるように前記基板上に配置されるカソード電極層とを含み、
前記導電層及び前記カソード電極層は、相互間に電気的に接続するように構成され、
前記導電層の電気導電性は、前記カソード電極層の電気導電性と実質的に同一であることを特徴とする構造。 - 前記カソード電極層は、前記導電層と直接的に接触するように配置されることを特徴とする請求項14に記載の構造。
- 前記カソード電極層及び前記導電層は、同じ導電性物質で形成されることを特徴とする請求項14に記載の構造。
- 前記導電性物質はアルミニウムであることを特徴とする請求項16に記載の構造。
- 導電層上に配置されたサブ電極層をさらに含み、
前記サブ電極層は、前記導電層と異なる物質で形成されることを特徴とする請求項14に記載の構造。 - 前記サブ電極層は、モリブデンまたはクロムで形成されることを特徴とする請求項18に記載の構造。
- 前記サブ電極層は第2サブ電極層であり、さらに、
前記スキャンライン電極層と前記導電層との間に配置される第1サブ電極層を含み、
該第1サブ電極層は、前記導電層と異なる物質で形成されることを特徴とする請求項18に記載の構造。 - 第1サブ電極層は、モリブデンまたはクロムで形成されることを特徴とする請求項20に記載の構造。
- 少なくとも一つのビアホールが前記サブ電極層に形成されて、前記導電層の一部を露出させ、前記カソード電極層は、前記少なくとも一つのビアホール内に配置されることを特徴とする請求項18に記載の構造。
- 前記サブ電極層上に配置された絶縁層をさらに含み、
前記少なくとも一つのビアホールは、前記絶縁層にも形成されることを特徴とする請求項22に記載の構造。 - 前記絶縁層は、前記発光素子の前記ピクセル領域まで延びるように前記基板上に配置され、
前記カソード電極層は、前記絶縁層上に配置されることを特徴とする請求項23に記載の構造。 - 前記カソード電極層は、前記導電層の側部と電気的に接続するように配置されることを特徴とする請求項14に記載の構造。
- 前記カソード電極層は、前記導電層の高さと実質的に同一の高さで、水平に延びるように配置されることを特徴とする請求項25に記載の構造。
- 前記導電層の高さと実質的に同一の高さで、前記カソード電極層を支持するように前記基板上に配置される支持層をさらに含むことを特徴とする請求項26に記載の構造。
- 前記スキャンライン電極層と前記導電層との間に配置される第1サブ電極層と、
前記導電層上に配置された第2サブ電極層とをさらに含み、
前記第1及び第2サブ電極層は、前記導電層と異なる物質で形成されることを特徴とする請求項26に記載の構造。 - 前記スキャンライン電極層及び前記導電層は、全部少なくとも前記基板の一部を露出させるように配置され、
前記カソード電極層は、少なくとも前記基板の一部を充填するように配置されることを特徴とする請求項25に記載の構造。 - 少なくとも前記基板の一部の上を除いて、前記スキャンライン電極層と前記導電層との間に配置される第1サブ電極層と、
少なくとも前記基板の一部の上を除いて前記導電層上に配置される第2サブ電極層とをさらに含み、
第1及び第2サブ電極層は、前記導電層と異なる物質で形成されることを特徴とする請求項29に記載の構造。 - 前記導電層は、前記スキャンライン電極層によって被せられない前記基板の領域内で前記基板上に延びるように配置され、
前記カソード電極層は、前記基板上の前記ピクセル領域から延びるように配置され、前記スキャンライン電極層によって被せられない前記基板の領域で前記導電層と電気的に接続することを特徴とする請求項14に記載の構造。 - 前記スキャンライン電極層と前記導電層との間に配置される第1サブ電極層と、
前記導電層上に配置される第2サブ電極層とをさらに含み、
前記第1及び第2サブ電極層は、前記導電層と異なる物質で形成されることを特徴とする請求項31に記載の構造。 - 前記発光素子の前記ピクセル領域から延びるように前記基板上に配置されたアノード電極層と、
前記アノード電極層上に配置される発光層とをさらに含み、
前記カソード電極層は、前記発光層上に配置されることを特徴とする請求項14に記載の構造。 - 前記発光層は有機物層であることを特徴とする請求項33に記載の構造。
- 前記発光素子は有機電界発光素子であることを特徴とする請求項14に記載の構造。
- 前記スキャンライン電極層は前記基板上に配置されることを特徴とする請求項14に記載の構造。
- 前記スキャンライン電極層上に配置される第1サブ電極層と、
前記導電層上に配置される第2サブ電極層とをさらに含み、
前記導電層は前記第1サブ電極層上に配置され、
前記第1及び第2サブ電極層は、前記導電層と異なる物質で形成されることを特徴とする請求項36に記載の構造。 - 発光素子にディスプレイ信号を供給するための構造を形成する方法であって、
基板上にスキャンライン電極層を形成する段階、
前記スキャンライン電極層と電気的に接続するように前記スキャンライン電極層上に導電層を形成する段階、及び
前記導電層の導電性と実質的に同じ導電性を有する物質を使用して、発光素子のピクセル領域から延びるように前記基板上にカソード電極層を形成して、前記導電層及び前記カソード電極層が相互間に電気的に接続する段階、を含むことを特徴とする構造形成方法。 - 前記カソード電極層は、前記導電層と直接的に接触するように形成されることを特徴とする請求項38に記載の構造形成方法。
- 前記カソード電極層を形成するために使われた物質は、前記導電層を形成するために使われた物質と同一であることを特徴とする請求項38に記載の構造形成方法。
- 前記導電層と異なる物質を使用して前記導電層上にサブ電極を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項38に記載の構造形成方法。
- 前記サブ電極層は第2サブ電極層であり、さらに、
前記導電層と異なる物質を使用して、前記スキャンライン電極層と前記導電層との間に第1サブ電極層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項41に記載の構造形成方法。 - 前記導電層の一部を露出させるように前記サブ電極層に少なくとも一つのビアホールを形成する段階をさらに含み、
前記カソード電極層を形成する段階は、前記少なくとも一つのビアホール中にカソード電極層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項41に記載の構造形成方法。 - 前記カソード電極層を形成する段階は、前記導電層の側部と電気的に接続するように前記カソード電極層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項38に記載の構造形成方法。
- 前記カソード電極層を形成する段階は、前記導電層の高さと実質的に同一の高さで、水平に延びるように前記カソード電極層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項44に記載の構造形成方法。
- 前記導電層の側部と電気的に接続するように前記カソード電極層を形成する段階は、
少なくとも前記基板の一部が露出するように前記スキャンライン電極層及び前記導電層を形成する段階、及び
少なくとも前記基板の一部分を充填するように前記カソード電極層を形成する段階を含むことを特徴とする請求項44に記載の構造形成方法。
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2005-0032438 | 2005-04-19 | ||
KR1020050032438A KR100625034B1 (ko) | 2005-04-19 | 2005-04-19 | 유기 전계발광표시소자 및 그 제조방법 |
KR10-2005-0032437 | 2005-04-19 | ||
KR1020050032426A KR100696440B1 (ko) | 2005-04-19 | 2005-04-19 | 유기 전계발광 표시소자 및 그 제조방법 |
KR10-2005-0032426 | 2005-04-19 | ||
KR1020050032437A KR100696593B1 (ko) | 2005-04-19 | 2005-04-19 | 유기 전계발광 표시소자 및 그 제조방법 |
KR10-2005-0037826 | 2005-05-06 | ||
KR1020050037826A KR100696450B1 (ko) | 2005-05-06 | 2005-05-06 | 유기 전계 발광 소자 및 이를 제조하는 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006301580A true JP2006301580A (ja) | 2006-11-02 |
JP4957986B2 JP4957986B2 (ja) | 2012-06-20 |
Family
ID=36608741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005374760A Expired - Fee Related JP4957986B2 (ja) | 2005-04-19 | 2005-12-27 | 有機電界発光素子、及びこの発光素子にディスプレイ信号を供給する構造とその形成方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7687889B2 (ja) |
EP (1) | EP1715533B1 (ja) |
JP (1) | JP4957986B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7759675B2 (en) * | 2005-06-17 | 2010-07-20 | Lg Display Co., Ltd. | Organic electroluminescent device |
KR100736576B1 (ko) | 2006-04-10 | 2007-07-06 | 엘지전자 주식회사 | 전계발광소자와 그 제조방법 |
KR101258259B1 (ko) * | 2009-09-17 | 2013-04-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003086022A1 (fr) * | 2002-04-11 | 2003-10-16 | Optrex Corporation | Element d'affichage electroluminescent organique, afficheur et procede de fabrication correspondant |
JP2004296297A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Optrex Corp | 有機el表示装置用配線基板の製造方法および有機el表示装置 |
US20040263059A1 (en) * | 2003-06-30 | 2004-12-30 | Wu Chao Chin | Display panel, electrode panel and electrode substrate thereof |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06163585A (ja) * | 1992-11-18 | 1994-06-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 薄膜トランジスタアレイの製造方法 |
JP4096399B2 (ja) | 1998-04-09 | 2008-06-04 | 株式会社ニコン | 大口径ズームレンズ |
US6104042A (en) * | 1999-06-10 | 2000-08-15 | Chi Mei Optoelectronics Corp. | Thin film transistor with a multi-metal structure a method of manufacturing the same |
KR100825317B1 (ko) * | 2001-12-31 | 2008-04-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광소자 |
TW588299B (en) * | 2003-04-04 | 2004-05-21 | Au Optronics Corp | Active-matrix organic electroluminescence display device and fabricating method thereof |
US7132667B2 (en) * | 2004-02-11 | 2006-11-07 | General Electric Company | Method and apparatus for improved data acquisition using a solid state digital X-ray detector |
KR100615212B1 (ko) * | 2004-03-08 | 2006-08-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판 표시 장치 |
-
2005
- 2005-12-27 EP EP05028521.2A patent/EP1715533B1/en active Active
- 2005-12-27 JP JP2005374760A patent/JP4957986B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-12-27 US US11/317,170 patent/US7687889B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003086022A1 (fr) * | 2002-04-11 | 2003-10-16 | Optrex Corporation | Element d'affichage electroluminescent organique, afficheur et procede de fabrication correspondant |
JP2004296297A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Optrex Corp | 有機el表示装置用配線基板の製造方法および有機el表示装置 |
US20040263059A1 (en) * | 2003-06-30 | 2004-12-30 | Wu Chao Chin | Display panel, electrode panel and electrode substrate thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1715533B1 (en) | 2013-05-08 |
JP4957986B2 (ja) | 2012-06-20 |
US7687889B2 (en) | 2010-03-30 |
US20060231831A1 (en) | 2006-10-19 |
EP1715533A3 (en) | 2011-10-19 |
EP1715533A2 (en) | 2006-10-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20170125505A1 (en) | Organic light emitting display device | |
JP2018097361A (ja) | 有機発光表示装置およびその製造方法 | |
JP6640599B2 (ja) | 表示装置 | |
WO2018179728A1 (ja) | タッチセンサ内蔵表示装置 | |
JP2005157341A (ja) | 平板表示素子 | |
JP2019106331A (ja) | 有機el表示装置 | |
KR20220031889A (ko) | 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법 | |
JP2006010986A (ja) | 画像表示装置 | |
JP2021033289A (ja) | ディスプレイ装置 | |
JP2019067254A (ja) | タッチセンサ内蔵表示装置、及びタッチセンサ内蔵表示装置の製造方法 | |
JP4957986B2 (ja) | 有機電界発光素子、及びこの発光素子にディスプレイ信号を供給する構造とその形成方法 | |
US7786519B2 (en) | Light emitting device and method for manufacturing the same | |
JP2006019266A (ja) | 電子発光素子 | |
JP2006261058A (ja) | 有機el素子、表示装置、有機el素子の製造方法 | |
KR20050049688A (ko) | 이중 화소분리구조를 갖는 유기전계발광표시장치 | |
JP2008218330A (ja) | 有機el表示装置 | |
CN1856197B (zh) | 发光显示器件及其制造方法 | |
KR20060131263A (ko) | 유기 전계 발광 소자 | |
JP2019012615A (ja) | 有機el表示装置 | |
JP6341692B2 (ja) | 発光装置 | |
KR100612129B1 (ko) | 유기 전계 발광 소자 및 이를 제조하는 방법 | |
JP2019083226A (ja) | 電子機器及びその製造方法 | |
WO2021049464A1 (ja) | 発光装置 | |
KR100696450B1 (ko) | 유기 전계 발광 소자 및 이를 제조하는 방법 | |
KR100761123B1 (ko) | 전계발광표시 장치 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110615 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111005 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120208 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120308 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150330 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |