JP2006301242A - 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 表示ムラを抑制できる液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 第１基板２及び第２基板３によって挟持された電気光学物質２３を具備し、複数のドットからなる表示領域９ａにて表示を行う電気光学装置１であって、第１基板２と第２基板３との間に配設されたギャップ部材２４によって電気光学物質２３の層厚が規定され、表示領域９ａにはドットから出射される光の光路上に設けられた表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと、ドットの相互間に位置する遮光膜３３と、遮光膜３３の延在線上においてドットの角部に位置する遮光拡張部３２とが設けられ、ドットの角部において少なくとも２色の表示着色膜の各々は、隙間を介して隣接すると共に、遮光拡張部３２と重なり合って形成され、ギャップ部材２４は遮光拡張部３２の位置に対応して設けられ、遮光拡張部３２の幅Ｗ２はギャップ部材の幅Ｗ１よりも大きいこと、を特徴とする。
【選択図】 図４

Description

本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器に関するものである。

従来、携帯電話等の表示部として、液晶装置等の電気光学装置が知られている。
当該電気光学装置は、対向する電極間に挟持された液晶装置等の電気光学物質への印加電圧を調整することにより、単位画素内の複数のドット毎に光量を制御し、画像表示を行っている。
このような電気光学装置においては、一方の基板に固定されたスペーサによって、電気光学物質の層厚を一定に維持する構成が知られている。また、このようなスペーサが、複数のドット間における遮光部と重なるように設けられた技術が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
特開２００３−３４４８４３号公報

ところで、本発明者らによれば、上記特許文献において表示ムラやコントラストの低下を招く問題があることが見出された。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、表示ムラを抑制できる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供することを目的としている。

本発明者らは、図１２（ａ）に示すように、液晶装置５００の表示領域において、遮光膜５０１に乗り上がる着色膜５０２の乗り上げ量５０２ａがばらつくと、遮光膜５０１上の着色膜５０２の膜厚が大きくなり、オーバーコート膜５０３で平坦化されたとしても、遮光膜５０１の上方に配置されたフォトスペーサ５０４によって、液晶層厚５０５ａを大きくしてしまうことを見出した。これによって、液晶層５０５の複屈折と液晶層厚５０５ａとの積（リタデーション）Δｎｄが不均一になりやすく、これに起因して表示ムラが生じるという問題があった。
また、本発明者らは、図１２（ｂ）に示すように、遮光膜５０１に乗り上がる着色膜５０２の乗り上げ量５０２ａが均一であっても、遮光膜５０１の側面よりもフォトスペーサ５０４がはみ出てしまうこと（符号５０６）により、フォトスペーサ５０４の自身に照明光が照射されてしまうことを見出した。例えば、フォトスペーサ５０４が透明材料からなる場合には、フォトスペーサ５０４を透過する光によって表示画像のコントラストが低下してしまうという問題がある。また、フォトスペーサ５０４が遮光材料からなる場合には、開口率の低下を招くという問題がある。
そこで、本発明者は、上記に基づいて以下の手段を有する本発明を想到した。

即ち、本発明の電気光学装置は、第１基板及び第２基板によって挟持された電気光学物質を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う電気光学装置であって、前記第１基板と前記第２基板との間に配設されたギャップ部材によって前記電気光学物質の層厚が規定され、前記表示領域には、前記ドットから出射される光の光路上に設けられた表示着色膜と、前記ドットの相互間に位置する遮光膜と、前記遮光膜の延在線上において前記ドットの角部に位置する遮光拡張部と、が設けられ、前記ドットの角部において、少なくとも２色の前記表示着色膜の各々は、隙間を介して隣接すると共に、前記遮光拡張部と重なり合って形成され、前記ギャップ部材は、前記遮光拡張部の位置に対応して設けられ、前記遮光拡張部の幅は、前記ギャップ部材の幅よりも大きいこと、を特徴としている。

ここで、電気光学物質又は電気光学装置とは、電界により物質の屈折率が変化して光の透過率を変化させる電気光学効果を有するものの他、電気エネルギーを光学エネルギーに変換するもの等も含んで総称している。従って、例えば液晶装置や有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、無機ＥＬ装置に代表される発光装置等を含む概念である。
また、「ギャップ部材は遮光拡張部の位置に対応して設けられ」とは、電気光学装置の表示領域側から見たときに、換言すれば、表示領域の鉛直方向から見たときに、ギャップ部材と遮光拡張部とが重なり合って設けられていることを意味する。
また、ギャップ部材は、第１基板上又は第２基板上に散布された樹脂ボールやガラスビーズからなる部材、又は、フォトリソグラフィ技術によって第１基板上又は第２基板上に設けられた突起部である。
また、遮光拡張部と、当該遮光拡張部に重なり合う表示着色部との位置関係は、遮光拡張部が表示着色部の下層側に設けられていても、上層側に設けられていてもよい。
また、表示着色部上には、オーバーコート膜が設けられていることが好ましく、第１基板及び第２基板の液晶層に向けた方向には、電気光学物質と接触するように配向膜が設けられていることが好ましい。

本発明によれば、ギャップ部材よりも幅広な遮光拡張部を設けたことによって、当該遮光拡張部の上層又は下層に位置する表示着色膜が従来よりも広い面積で形成される。これにより、当該表示着色膜又は遮光拡張部が電気光学物質の側に突出して形成されることがない。換言すれば、遮光拡張部上の表示着色膜の高さや、表示着色膜上の遮光拡張部の高さが平坦し易くなる。即ち、幅広の遮光拡張部と表示着色膜とが重なり合うことによって、表示領域において、複数設けられた遮光拡張部と当該遮光拡張部に積層される表示着色膜の膜厚を均一にすることができる。そして、遮光拡張部の位置に対応してギャップ部材を設けているので、ギャップ部材を介在させた電気光学物質の層厚を均一にすることができ、表示領域におけるリタデーションΔｎｄを均一にして表示ムラを抑制できる。

また、遮光拡張部は、ギャップ部材の幅よりも大きいので、遮光拡張部及びギャップ部材の中心がずれて配置されたとしても、ギャップ部材は遮光拡張部によって確実に被覆されてはみ出すことながないので、透過光がギャップ部材に照射されることがない。従って、透明性材料のスペーサ自身を照明光が透過することがなく、コントラストの低下を抑制できる。また、遮光性材料のスペーサに起因する開口率の低下を抑制できる。

また、本発明の電気光学装置においては、前記２色の表示着色膜の隙間は、前記ギャップ部材の幅よりも狭いこと、を特徴としている。
このようにすれば、２色の前記表示着色膜の各々は、ギャップ部材の幅よりも狭い隙間を介して隣接し、遮光拡張部と重なり合って設けられることとなる。従って、上記の電気光学装置と同様の効果が得られる。

また、本発明の電気光学装置においては、前記複数のドットは一の配列方向において配列し、当該一の配列方向において、前記表示着色膜は前記複数のドットに重なるようにストライプ状に形成されていること、を特徴としている。
このようにすれば、複数のドットに対してストライプ配列の表示着色膜を備える電気光学装置を実現できる。

また、本発明の電気光学装置においては、前記ストライプ状に形成されている２色の異なる前記表示着色膜が、前記ドットの相互間において重なり合うことによって、前記遮光膜が形成されていること、を特徴としている。
このように２色の表示着色膜が重なり合うことにより、単色の場合よりも高い色濃度で混色した表示着色膜が形成され、当該混色着色膜を遮光膜として利用することができる。

また、本発明の電気光学装置においては、前記遮光膜と前記遮光拡張部とが同一材料で形成されていること、を特徴としている。
このようにすれば、遮光膜と遮光拡張部とを同一工程で形成することができる。また、混色した表示着色膜の場合と比較して、確実に遮光することができるので、コントラスト低下を抑制できる。

また、本発明の電気光学装置においては、前記表示領域の外部の周辺領域において、前記表示着色膜と同一材料で形成され、少なくとも一色からなる周辺着色膜と、前記遮光拡張部と同一材料で形成され、前記周辺領域を遮光する周辺遮光膜と、が重なり合う積層部が設けられ、前記ギャップ部材は、前記積層部の位置に対応して設けられ、前記積層部の幅は、前記遮光拡張部の幅と同じであること、又は、前記遮光拡張部の幅よりも小さいこと、を特徴としている。
ここで、「ギャップ部材は、積層部の位置に対応して設けられ」とは、周辺領域の鉛直方向から見たときに、ギャップ部材と遮光拡張部とが重なり合って設けられていることを意味する。

発明者らによれば、表示領域と周辺領域との境界近傍においては、液晶層の複屈折と液晶層厚との積（リタデーション）Δｎｄが不均一になりやすく、これに起因して表示ムラが生じることが見出された。
そして、本発明のように、周辺領域において周辺着色膜と周辺遮光膜とが重なり合う積層部が形成されることにより、当該積層部の膜厚を、表示領域における遮光拡張部と表示着色膜との積層構造の膜厚と同様にすることができる。また、積層部の幅は、遮光拡張部の幅と同じ、又は、遮光拡張部の幅よりも小さくなっているので、表示領域における遮光拡張部と表示着色膜との平面構造を、周辺領域における積層部によって略同様に形成することができる。
更に、積層部に対応してギャップ部材が形成されることで、周辺領域における電気光学物質の層厚をギャップ部材によって規定することができ、更に、表示領域と周辺領域とにおける電気光学物質の層厚を均一にすることができる。
従って、表示領域と周辺領域との境界近傍においては、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された電気光学装置を実現できる。

また、本発明の電気光学装置においては、前記積層部は、２色の前記周辺着色膜が隙間を介して隣接すると共に、当該２色の周辺着色膜と前記周辺遮光膜とが重なり合って形成されていること、を特徴としている。

ここで、１色の周辺着色膜と周辺遮光膜とが重なり合って積層部が形成されている場合では、当該積層部を平坦に形成することが困難となるが、２色の周辺着色膜と前記周辺遮光膜とが重なり合って積層部が形成されることにより、当該積層部の平坦化を実現できる。
具体的には、周辺着色膜を形成する際に、現像工程或いはエッチング工程に起因して、周辺着色膜の形状が変形してしまい、周辺着色膜の形状に「だれ」が生じてしまう。これにより、周辺着色膜は凸状に形成されてしまう。そして、１色の周辺着色膜と周辺遮光膜とが重なり合って積層部が形成されている場合では、１つの凸状が形成されてしまうことから、積層部上にオーバーコート膜を形成しても平坦になり難い形状となる。これに対して、２色の周辺着色膜と周辺遮光膜とが重なり合って積層部が形成されている場合では、２つの凸状が形成されることから、積層部上にオーバーコート膜を形成すると平坦になり易い形状となる。
また、異なる２色の周辺着色膜の各々を、別工程で形成して隣接させるので、現像やエッチングに起因する変形（だれ）が生じることがない（潰れがない）。これに対して、１色で２つの周辺着色膜を隣接させて形成する場合では、だれが生じることにより、隣接する隙間が潰れてしまう虞がある。従って、異なる２色の周辺着色膜の各々を形成することで、形状の安定化を実現できる。

また、本発明の電気光学装置においては、前記遮光拡張部に重なる前記表示着色膜と、前記積層部における前記周辺着色膜との膜厚が合わされてなること、を特徴としている。
このようにすれば、表示領域と周辺領域の各々において、ギャップ部材が規定する電気光学物質の層厚を同一に規定することができる。

また、本発明の電気光学装置は、第１基板及び第２基板によって挟持された電気光学物質を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う電気光学装置であって、前記第１基板と前記第２基板との間に配設されたギャップ部材によって前記電気光学物質の層厚が規定され、前記表示領域には、前記ドットから出射される光の光路上に設けられた表示着色膜と、遮光拡張部と、が設けられ、少なくとも２色の前記表示着色膜の各々は、隙間を介して隣接すると共に、前記遮光拡張部と重なり合って形成され、前記ギャップ部材は、前記遮光拡張部の位置に対応して設けられ、前記遮光拡張部の幅は、前記ギャップ部材の幅よりも大きいこと、を特徴としている。

本発明によれば、ギャップ部材よりも幅広な遮光拡張部を設けたことによって、当該遮光拡張部の上層又は下層に位置する表示着色膜が従来よりも広い面積で形成される。これにより、当該表示着色膜又は遮光拡張部が電気光学物質の側に突出して形成されることがない。換言すれば、遮光拡張部上の表示着色膜の高さや、表示着色膜上の遮光拡張部の高さが平坦し易くなる。即ち、幅広の遮光拡張部と表示着色膜とが重なり合うことによって、表示領域において、複数設けられた遮光拡張部と当該遮光拡張部に積層される表示着色膜の膜厚を均一にすることができる。そして、遮光拡張部の位置に対応してギャップ部材を設けているので、ギャップ部材を介在させた電気光学物質の層厚を均一にすることができ、表示領域におけるリタデーションΔｎｄを均一にして表示ムラを抑制できる。

また、遮光拡張部は、ギャップ部材の幅よりも大きいので、遮光拡張部及びギャップ部材の中心がずれて配置されたとしても、ギャップ部材は遮光拡張部によって確実に被覆されてはみ出すことながないので、透過光がギャップ部材に照射されることがない。従って、透明性材料のスペーサ自身を照明光が透過することがなく、コントラストの低下を抑制できる。また、遮光性材料のスペーサに起因する開口率の低下を抑制できる。

また、本発明の電気光学装置においては、前記ギャップ部材は、前記第１基板と前記第２基板とのうち、一方の基板の内側に設けられた突起部であって、当該突起部が他方の基板側に接触することによって前記電気光学物質の層厚が規定されていること、を特徴としている。
ここで、突起部は、第１基板と第２基板とのいずれかに形成されていればよい。また、突起部は、表示着色膜が形成されている基板の側に設けられていてもよい。

このようにすれば、突起部よりも幅広な遮光拡張部を設けたことによって、当該遮光拡張部の上層又は下層に位置する表示着色膜が従来よりも広い面積で形成される。これにより、当該表示着色膜又は遮光拡張部が電気光学物質の側に突出して形成されることがない。換言すれば、遮光拡張部上の表示着色膜の高さや、表示着色膜上の遮光拡張部の高さが平坦し易くなる。即ち、幅広の遮光拡張部と表示着色膜とが重なり合うことによって、表示領域において、複数設けられた遮光拡張部と当該遮光拡張部に積層される表示着色膜の膜厚を均一にすることができる。そして、遮光拡張部の位置に対応して突起部を設けているので、突起部を介在させた電気光学物質の層厚を均一にすることができ、表示領域におけるリタデーションΔｎｄを均一にして表示ムラを抑制できる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法は、第１基板及び第２基板によって挟持された電気光学物質を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う電気光学装置の製造方法であって、前記第１基板と前記第２基板との間に配設されたギャップ部材によって前記電気光学物質の層厚が規定され、前記表示領域には、前記ドットから出射される光の光路上に設けられた表示着色膜と、前記ドットの相互間に位置する遮光膜と、前記遮光膜の延在線上において前記ドットの角部に位置する遮光拡張部と、が設けられ、前記ドットの角部において、少なくとも２色の前記表示着色膜の各々を、隙間を介して隣接させると共に、前記遮光拡張部に重なり合わせて形成し、前記ギャップ部材を、前記遮光拡張部の位置に対応させて形成し、前記遮光拡張部の幅を、前記ギャップ部材の幅よりも大きくすること、を特徴としている。

本発明によれば、ギャップ部材よりも幅広な遮光拡張部を設けたことによって、当該遮光拡張部の上層又は下層に位置する表示着色膜が従来よりも広い面積で形成される。これにより、当該表示着色膜又は遮光拡張部が電気光学物質の側に突出して形成されることがない。換言すれば、遮光拡張部上の表示着色膜の高さや、表示着色膜上の遮光拡張部が平坦し易くなる。即ち、幅広の遮光拡張部と表示着色膜とが重なり合うことによって、表示領域において、複数設けられた遮光拡張部と当該遮光拡張部に積層される表示着色膜の膜厚を均一にすることができる。そして、遮光拡張部の位置に対応してギャップ部材を設けているので、ギャップ部材を介在させた電気光学物質の層厚を均一にすることができ、表示領域におけるリタデーションΔｎｄを均一にして表示ムラを抑制できる。

また、遮光拡張部は、ギャップ部材の幅よりも大きいので、遮光拡張部及びギャップ部材の中心がずれて配置されたとしても、ギャップ部材は遮光拡張部によって確実に被覆されてはみ出すことながないので、透過光がギャップ部材に照射されることがない。従って、透明性材料のスペーサ自身を照明光が透過することがなく、コントラストの低下を抑制できる。また、遮光性材料のスペーサに起因する開口率の低下を抑制できる。

また、本発明の電気光学装置の製造方法においては、前記表示領域の外部の周辺領域において、少なくとも一色からなる周辺着色膜と、前記周辺領域を遮光する周辺遮光膜と、が重なり合う積層部を形成し、前記表示着色膜と前記周辺着色膜とを同一工程で形成し、前記遮光膜と前記周辺遮光膜とを同一工程で形成し、前記積層部を、前記遮光拡張部と同じ幅で、又は、前記遮光拡張部よりも小さい幅で形成すること、を特徴としている。

このようにすれば、上記の製造方法と同様の効果が得られるだけでなく、表示着色膜と周辺着色膜とを同一工程で形成し、遮光膜と周辺遮光膜とを同一工程で形成するので、工程を増加させることなく、従来の製造工程数のままで上記の電気光学装置を製造することができる。

本発明の電子機器は、表示部を備える電子機器であって、前記表示部は先に記載の電気光学装置からなること、を特徴としている。
ここで、電子機器としては、例えば、携帯電話機、移動体情報端末、時計、ワープロ、パソコンなどの情報処理装置などを例示することができる。
従って、本発明によれば、先に記載の電気光学装置を用いた表示部を備えているので、表示ムラ、コントラスト低下、開口率低下が抑制された表示部を備えた電子機器を提供することができる。

（液晶装置の第１実施形態）
以下、本発明の電気光学装置に係る液晶装置の第１実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本実施形態の液晶装置の全体構成を示す平面図、図２は、図１の要部を拡大した図であって、表示領域と周辺領域との境界近傍を示す平面図である。図３は、液晶装置の表示領域を示す図であって、図２のＣ−Ｃ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）である。また、図４は、液晶装置の表示領域を示す図であって、図２のＢ−Ｂ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）である。図５は、液晶装置の周辺を示す図であって、図２のＥ−Ｅ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）である。
なお、各図においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。

本実施形態における液晶装置は、パッシブマトリクス方式の半透過反射型カラー液晶装置であって、液晶層への印加電圧がＯＦＦ（非印加）状態で、黒表示を示すノーマリーブラックモードの液晶装置である。
そして、図１に示すように、本実施形態の液晶装置１は、平面視矩形状の下基板部（第１基板）２Ａと上基板（第２基板）３Ａとがシール材４を介して対向配置されている。シール材４の一部は各基板部２Ａ，３Ａの一辺（図１における上辺）側で開口して液晶注入口５となっており、双方の基板部２Ａ，３Ａとシール材４とに囲まれた空間内に液晶（電気光学物質）が封入され、液晶注入口５が封止材６によって封止されている。本実施形態では、下基板部２Ａよりも上基板部３Ａの外形寸法の方が大きく、下基板部２Ａと上基板部３Ａの１辺（図１における上辺、右辺、左辺）では縁が揃っているが、下基板部２Ａの残りの１辺（図１における下辺）からは上基板部３Ａの周縁部がはみ出すように配置されている。そして、上基板部３Ａの下辺側の端部には、下基板部２Ａ及び上基板部３Ａの双方の電極を駆動するための駆動用半導体素子７が実装されている。

また、符号８は、表示領域９ａと周辺領域９ｂとの境界線である。
ここで、当該境界線８より内包される側（内側）は、画像表示を行うための表示領域９ａである。また、表示領域９ａは、複数のドットがマトリクス状に配列された領域であって、実際に表示に寄与する領域のことを言う。
また、境界線８の外側は、表示領域９ａの外部に位置する周辺領域９ｂであり、図１においては周辺領域９ｂを斜線で示している。また、周辺領域９ｂには、周辺見切りとして機能する周辺遮光膜が設けられている。

本実施形態の場合、図１に示すように、上基板部３Ａ上に、図中縦方向に線状に延在する複数のセグメント電極（第１電極線）１１がストライプ状に形成されている。一方、下基板部２Ａ上には、セグメント電極１１と直交するように図中横方向に線状に延在する複数のコモン電極（第２電極線）１０がストライプ状に形成されている。
ここで、セグメント電極１１とコモン電極１０とが互い交差することにより、平面的に見て重なり合った領域が形成され、当該領域が「ドット」を構成している。
また、表示領域９ａにおける複数のドットの各々においては、カラー表示を行うべく、カラーフィルタのＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の複数色からなる表示着色膜（着色膜）が設けられている。当該表示着色膜は、ドットから出射される光を着色するものである。そして、Ｒ、Ｇ、Ｂの３個の表示着色膜で画面上の１つの画素（単位画素）が構成されている。

図２に示すように、表示領域９ａには、カラーフィルタ１３と、遮光膜３３と、遮光拡張部３２と、が設けられている。
カラーフィルタ１３は、各ドットから出射される光を着色する表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂによって構成されている。当該表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、ドット配列方向（図中縦方向）において複数のドットに重なるようにストライプ状に形成されている。

また、各ドットＤは、透過表示部Ｔと反射表示部Ｈとを有している。
ここで、透過表示部Ｔは、下基板部２Ａの外側から入射するバックライトユニット１５（後述）の光を、表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの各々において透過させ、上基板部３Ａの外側に出射させる領域である。
また、反射表示部Ｈは、上基板部３Ａの外側から入射する外光を、表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの各々において透過させると共に、反射膜３１（後述）によって反射させ、上基板部３Ａの外側に出射させる領域である。
また、各ドットＤにおいて、符号Ｔａで囲まれた部分は、反射膜３１が開口している開口部であって、透過表示部Ｔである。また、開口部Ｔａを除く部分には、反射膜３１が形成されていることから、反射表示部Ｈとなっている。

また、反射表示部Ｈの一部分には、表示着色膜１３ｒ，１３ｇが設けられていない開口部（非着色部）ＯＰが設けられ、当該開口部ＯＰでは反射膜が露出している。また、開口部ＯＰは、表示着色膜１３ｒの開口面積が表示着色膜１３ｇよりも小さく形成されている。なお、表示着色膜１３ｂには開口部ＯＰが形成されていない。これにより、各ドットＤにおいては、表示着色膜の自身を透過する光（透過光や反射光）と、開口部ＯＰを透過する光との割合を調整することが可能となり、半透過反射型の液晶装置１における透過表示と反射表示の色合いを揃えている。

ここで、透過表示と反射表示とについて説明する。
反射表示部Ｈにおいては、反射膜３１によって外光が反射されるため、表示に寄与する光は表示着色膜を２回透過する。一方、透過表示部Ｔにおいては、バックライトユニット１５から出射されて透過表示部Ｔを透過して表示に寄与する光は、表示着色膜を１回透過する。従って、反射表示部Ｈと透過表示部Ｔで同じ条件の表示着色膜を用いると、反射表示の色が反射表示の色よりも濃くなってしまい、且つ明るさが暗くなってしまい、透過表示と反射表示とで色味、明るさが変わってしまう。
そこで、本実施形態では、反射表示部Ｈに開口部（非着色部）ＯＰを設けることで、反射表示部Ｈは、反射膜３１で反射されて表示着色部を２回透過した光と、非着色部に対応する反射膜３１で反射されて着色されていない光と、の２種類の光を用いて行うものである。また、透過表示部Ｔは、従来通り表示着色膜を１回透過する光であるため、本実施形態では、透過表示部Ｔと反射表示部Ｈの色味や明るさを揃えることが可能となる。

遮光膜３３は、ストライプ状に形成されている２色の異なる表示着色膜の側部が、ドットＤの相互間において重なり合うことによって形成されたものである。
遮光拡張部３２は、遮光膜３３の延在線上においてドットＤの角部に位置して設けられている。また、遮光拡張部３２においては、２色の表示着色膜の各々が、隙間を介して隣接すると共に、当該２色の表示着色膜と遮光拡張部３２とは重なり合って設けられている。また、遮光膜３３の幅は５μｍ程度、ドットＤの幅は各々７０μｍ程度となっている。また、２色の表示着色膜の隙間は、後述するフォトスペーサ２４の幅よりも狭くなっている。

次に、図３及び図４を参照して、表示領域９ａにおける液晶装置１の断面構造について説明する。図３は、液晶装置１の各構成要素と表示領域９ａの遮光膜３３の構造を説明する図であり、図４は、表示着色膜と遮光拡張部３２の構成と、フォトスペーサの構造を説明する図である。

図３に示すように、液晶装置１は、下基板部２Ａと上基板部３Ａとによって液晶層２３を挟持した構成を有している。ここで、下基板部２Ａにおいては、下基板２から液晶層２３に向けて、反射膜３１、カラーフィルタ１３（表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂ）、遮光膜３３、オーバーコート膜２１、コモン電極１０、及び配向膜２０が形成されている。また、上基板部３Ａにおいては、上基板３から液晶層２３に向けて、セグメント電極１１と配向膜２２とが形成されている。

次に、下基板部２Ａの構成について詳述する。
下基板２は、ガラス又はプラスチック等の透明性材料からなるものであり、バックライトユニット１５からの光を透過させるものである。
また、反射膜３１は、反射表示部Ｈに設けられ、透過表示部Ｔには非形成となっている層膜である。当該反射膜３１の材料としては、Ａｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）等の反射性に優れる金属薄膜が好適に採用される。また、反射膜３１に設けられた開口部Ｔａは透過表示部Ｔとなり、反射膜３１に覆われた部分は反射表示部Ｈとなる。
なお、本実施形態においては、下基板２の表面に反射膜３１が設けられた構成となっているが、反射膜３１に凹凸状の表面形状を付与する樹脂膜が設けられていてもよい。このようにすれば、光散乱性を向上した反射表示が実現可能となる。

また、カラーフィルタ１３は、赤表示着色膜１３ｒと、緑表示着色膜１３ｇと、青表示着色膜１３ｂと、を下基板２上に備えてなるものである。また、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、樹脂材料からなり、その膜厚は１．０μｍとなっている。
なお、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの膜厚は、１．０μｍを限定するものではなく、約０．６〜２．０μｍの範囲であればよい。
そして、ドットＤの相互間の各々において表示着色膜１３ｒ，１３ｇが重なり合い、表示着色膜１３ｇ，１３ｂが重なり合い、表示着色膜１３ｂ，１３ｒが重なり合うことにより、遮光膜３３が形成されている。
このように２色の表示着色膜が重なり合うことにより、単色の場合よりも高い色濃度で混色した表示着色膜が形成され、当該混色着色膜を遮光膜として利用することが可能となる。また、図２に示したように、反射表示部Ｈの開口部ＯＰにおいては、表示着色膜３３が形成されておらず、反射膜３１によって反射される外光が着色されずに出射されるようになっている。

また、オーバーコート膜２１は、カラーフィルタ１３上に設けられたものであり、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの表面を保護するようになっている。また、オーバーコート膜２１は、例えばスピンコート法等の湿式成膜法によって形成されるものであり、その下層の表面段差に対してかなりの平坦化を施している。
また、コモン電極１０は、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide, 以下、ＩＴＯと略記する）からなるものであり、下基板２上において紙面左右方向にストライプ状に形成されている。また、コモン電極１０は、スパッタ等の真空成膜法によって薄膜に形成されるため、オーバーコート膜２１の表面形状に倣って形成される。

また、配向膜２０は、コモン電極１０上に形成されたポリイミド等の樹脂材料からなるものである。当該配向膜２０の表面側には、液晶分子のモードに応じたラビング処理や垂直配向処理が施されている。例えば、液晶分子が、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）である場合には配向膜２７にはラビング処理が施されており、また、誘電異方性が負の液晶分子を有するＶＡ（Vertical Alignment）モードである場合には、垂直配向処理が施されている。なお、配向膜２７が垂直配向膜である場合には、ポリイミド膜以外にも、無機膜を採用してもよい。また、有機膜からなる配向膜２０は、スピンコート法等の湿式成膜法によって形成されるため、その下層の表面段差に対して若干の平坦化を施している。また、無機膜からなる配向膜２０は、真空成膜法によって薄膜に形成されるため、コモン電極１０の表面形状に倣って形成される。

また、図４に示すように、下基板２上には、樹脂ブラック等の遮光性の樹脂材料からなる遮光拡張部３２が設けられている。当該遮光拡張部３２は、図４の紙面鉛直方向（図２の紙面縦方向）にストライプ状に延在している表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの間に設けられている。そして、表示着色膜１３ｒ，１３ｇの間の遮光拡張部３２においては、その上に重なるように表示着色膜１３ｒ，１３ｇが隙間を介して隣接している。また、表示着色膜１３ｇ，１３ｂの間の遮光拡張部３２においては、その上に重なるように表示着色膜１３ｇ，１３ｂが隙間を介して隣接している。表示着色膜１３ｂ，１３ｒの間の遮光拡張部３２においては、その上に重なるように表示着色膜１３ｂ，１３ｒが隙間を介して隣接している。
また、遮光拡張部３２は、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと同一の膜厚で形成され、本実施形態ではその膜厚を１．０μｍとしているが、１．０μｍを限定するものではなく、約０．６〜２．０μｍの範囲であればよい。

次に、上基板部３Ａの構成について詳述する。
上基板３は、ガラス又はプラスチック等の透明性材料からなるものであり、バックライトユニット１５からの光を透過させるものである。
また、セグメント電極１１は、ＩＴＯからなるものであり、上基板３において紙面垂直方向（紙面を貫通する方向）にストライプ状に形成されている。
また、配向膜２２は、セグメント電極１１上に形成されたポリイミド等の樹脂材料からなるものである。当該配向膜２２の表面側には、液晶分子のモードに応じたラビング処理や垂直配向処理が施されている。例えば、液晶分子が、ＴＮモード、ＳＴＮである場合には配向膜２７にはラビング処理が施されており、また、誘電異方性が負の液晶分子を有するＶＡモードである場合には、垂直配向処理が施されている。なお、配向膜２７が垂直配向膜である場合には、ポリイミド膜以外にも、無機膜を採用してもよい。

また、上基板３にはフォトスペーサ（ギャップ部材，突起部）２４が設けられ、当該フォトスペーサ２４の表面には配向膜２２が形成されている。また、フォトスペーサ２４は、遮光拡張部３２の位置に対応して設けられている。即ち、図２において、遮光拡張部３２に重なるようにフォトスペーサ２４が設けられている。フォトスペーサ２４の幅Ｗ１は、１０μｍ程度であるのに対して、遮光拡張部３２の幅Ｗ２は、２３μｍ程度となっており、遮光拡張部３２の幅Ｗ２は、フォトスペーサ２４よりも大きくなっている（Ｗ２＞Ｗ１）。
このようなフォトスペーサ２４の形成方法としては、上記のオーバーコート膜２１を形成する方法と同様の方法が採用され、当該方法を上基板３に対して行われる。従って、簡素な工程によってフォトスペーサ２４を容易かつ規則的に形成することができる。
なお、上記のフォトスペーサ２４の形成方法においては、感光性樹脂膜としてネガ型やポジ型が利用される。

このような構成の下基板部２Ａ及び上基板部３Ａの間に液晶層２３が挟持されることによって、液晶層２３の液晶分子は、配向膜２０，２２のラビング方向に順じて配向され、当該ラビング方向に応じたチルト方向に配向される。
また、上基板部３Ａのフォトスペーサ２４は、下基板部２Ａに向けて設けられ、配向膜２０，２２が接触して下基板２Ａと上基板部３Ａとの間隔が規定されている。これにより、液晶層２３の層厚が規定されることとなる。

次に、図２及び図６を参照して、周辺領域９ｂについて説明する。
周辺領域９ｂには、周辺遮光膜３４と周辺着色膜１３ｈとが重なり合う積層部３６が設けられている。
周辺遮光膜３４は、遮光拡張部３２を形成する工程と同一工程によって形成されたものであり、その材料としては遮光拡張部３２と同様に樹脂ブラック等の遮光性の樹脂材料が採用される。
また、周辺着色膜１３ｈは、表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを形成する工程と同一工程によって形成されたものであり、２つの表示着色膜が隙間を介して隣接されている。また、その材料としては、表示着色膜と同様に樹脂材料が採用される。このように周辺着色膜１３ｈ及び表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが同一工程で形成されることにより、表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと、前記周辺着色膜１３ｈとの膜厚が同じになる。
また、図２において、周辺着色膜１３ｈは、表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂのうち２つの表示着色膜の組み合わせによって構成されている。即ち、表示着色膜１３ｒ，１３ｇの形成工程によって周辺着色膜１３ｈ１が形成され、表示着色膜１３ｇ，１３ｂの形成工程によって周辺着色膜１３ｈ２が形成され、表示着色膜１３ｂ，１３ｒの形成工程によって周辺着色膜１３ｈ３が形成されている。

また、図５に示すように、積層部３６の位置に対応してフォトスペーサ２４が設けられている。即ち、積層部３６に重なるようにフォトスペーサ２４が設けられている。フォトスペーサ２４の幅Ｗ１は、１０μｍ程度であるのに対して、積層部３６の幅Ｗ３は、２３μｍ以下となっており、積層部３６の幅Ｗ３は、フォトスペーサ２４よりも大きくなっている（Ｗ３＞Ｗ１）。また、積層部３６の幅Ｗ３は、遮光拡張部３２の幅Ｗ２と同じ、又は、それよりも小さい幅となっている（Ｗ３＝Ｗ２、又は、Ｗ３＜Ｗ２）。
また、積層部３６の位置に対応してフォトスペーサ２４が形成されることにより、表示領域９ａと周辺領域９ｂとにおける液晶層２３の層厚が共に同じになる。

次に、下基板部２Ａ及び上基板部３Ａの外部の構成について説明する。
下基板部２Ａの外面側（液晶層２３を挟持する面とは異なる側）には位相差板１８及び偏光板１９が、上基板部３Ａの外面側にも位相差板１６及び偏光板１７が形成されており、基板内面側（液晶層２３側）に円偏光を入射可能に構成されており、これら位相差板１８及び偏光板１９が円偏光板を構成し、位相差板１６及び偏光板１７が楕円偏光板を構成している。偏光板１９は、所定方向の偏光軸を備えた直線偏光のみを透過させる構成とされ、位相差板１８としてはλ／４位相差板が採用されている。このような円偏光板としては、その他にも偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板を組み合わせた構成のもの（広帯域円偏光板）を用いることが可能で、この場合、黒表示をより無彩色にすることができるようになる。また、偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板、及びｃプレート（膜厚方向に光軸を有する位相差板）を組み合わせた構成のものを用いることも可能で、一層広視角化を図ることができるようになる。また、下基板部２Ａに形成された偏光板１９の外側には、光源、導光板、及び反射板とからなるバックライトユニット１５が設けられている。

なお、本実施形態においては、半透過反射型の液晶装置１の構成として、バックライトユニット１５と、偏光板１９との間にプリズムシートを備えてもよい。当該プリズムシートは、アクリル樹脂等の透明樹脂材料からなる平板状の部材であり、その一面側が断面視三角形状で紙面垂直方向に延在する複数の突条が形成されたプリズム面を有している。このようにプリズムシートを備えることにより、液晶表示装置１に入射する外光をプリズムシートの内面側で反射させ、外光入射時の表示光として利用できるようになる。従って、プリズムシートは、外光をＯｆｆ−ａｘｉｓ反射させることができ、反射表示の際に効率的に外光を利用することが可能となる。
更に、プリズムシートとバックライトユニット１５の間には、偏光板１９と透過軸が合わされている反射偏光板が配置されていることが好ましい。このようにすれば、プリズムシートの上面から反射偏光板へ入射する照明光は、その一部が反射偏光板を透過して表示光として利用される。また、反射偏光板で反射された成分は、バックライトユニット１５に入射して再度プリズムシートやバックライトユニット１５の反射板により反射されて液晶パネル１１に入射して再利用される。この再利用される光の大部分は反射偏光板２６により再び反射されるが、このような反射を繰り返すうちに偏光状態が変化するため、一部は反射偏光板を透過され、表示光として利用されるので、結果として表示光の光量を増加させることが可能となる。

上述したように、本実施形態の液晶装置１においては、フォトスペーサ２４よりも幅広な遮光拡張部３２を設けたことによって、当該遮光拡張部３２に重なる表示着色膜が従来よりも広い面積で形成される。これにより、当該表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが液晶層２３の側に突出して形成されることがない。換言すれば、遮光拡張部３２上の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの高さが平坦し易くなる。即ち、幅広の遮光拡張部３２と表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとが重なり合うことによって、表示領域９ａにおいて、複数設けられた遮光拡張部３２と当該遮光拡張部３２に積層される表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの膜厚を均一にすることができる。そして、遮光拡張部３２の位置に対応してフォトスペーサ２４を設けているので、フォトスペーサ２４を介在させた液晶層２３の層厚を均一にすることができ、表示領域９ａにおけるリタデーションΔｎｄを均一にして表示ムラを抑制できる。

また、遮光拡張部３２は、フォトスペーサ２４の幅よりも大きいので、遮光拡張部３２及びフォトスペーサ２４の中心がずれて配置されたとしても、フォトスペーサ２４は遮光拡張部３２によって確実に被覆されてはみ出すことながないので、透過光がフォトスペーサ２４に照射されることがない。従って、透明性材料のスペーサ自身を照明光が透過することがなく、コントラストの低下を抑制できる。また、遮光性材料のスペーサに起因する開口率の低下を抑制できる。

また、周辺領域９ｂにおいて周辺着色膜１３ｈと周辺遮光膜３４とが重なり合う積層部３６が形成されることにより、当該積層部３６の膜厚を、表示領域９ａにおける遮光拡張部３２と表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとの積層構造の膜厚と同様にすることができる。また、積層部３６と遮光拡張部３２との幅の関係が、Ｗ３＝Ｗ２、又は、Ｗ３＜Ｗ２となっているので、表示領域９ａにおける遮光拡張部３２と表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとの平面構造を、周辺領域における積層部３６によって略同様に形成することができる。
更に、積層部３６に対応してフォトスペーサ２４が形成されることで、周辺領域９ｂにおける液晶層２３の層厚をフォトスペーサ２４によって規定することができ、更に、表示領域９ａと周辺領域９ｂとにおける液晶層２３の層厚を均一にすることができる。
従って、表示領域９ａと周辺領域９ｂとの境界近傍においては、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された液晶装置１を実現できる。

また、積層部３６は、２色の周辺着色膜１３ｈが隙間を介して隣接すると共に、当該２色の周辺着色膜１３ｈと周辺遮光膜３４とが重なり合って形成されているので、積層部３６の平坦化を実現できる。具体的に説明すると、周辺着色膜１３ｈを形成する際に、現像工程或いはエッチング工程に起因して、周辺着色膜１３ｈの形状が変形してしまい、周辺着色膜１３ｈの形状に「だれ」が生じてしまう。これにより、周辺着色膜１３ｈは凸状に形成されてしまう。そして、１色の周辺着色膜１３ｈと周辺遮光膜３４とが重なり合って積層部が形成されている場合では、１つの凸状が形成されてしまうことから、積層部３６上にオーバーコート膜２１を形成しても平坦になり難い形状となる。これに対して、２色の周辺着色膜１３ｈと周辺遮光膜３４とが重なり合って積層部３６が形成されている場合では、２つの凸状が形成されることから、積層部３６上にオーバーコート膜２１を形成すると平坦になり易い形状となり、積層部３６の平坦化を実現できる。
また、異なる２色の周辺着色膜１３ｈの各々を、別工程で形成して隣接させるので、現像やエッチングに起因する変形（だれ）が生じることがない（潰れがない）。これに対して、１色で２つの周辺着色膜１３ｈを隣接させて形成する場合では、だれが生じることにより、隣接する隙間が潰れてしまう虞がある。従って、異なる２色の周辺着色膜１３ｈの各々を形成することで、形状の安定化を実現できる。

（第１実施形態の変形例）
次に、第１実施形態の変形例について説明する。
図６は、本変形例を説明するための図であって、周辺領域９ｂの積層部３６の断面図である。
なお、本変形例において、上記第１実施形態と同一構成には同一符号を付して説明を省略する。

上記の第１実施形態においては、２色の周辺着色膜１３ｈが隙間を介して隣接され、当該周辺着色膜１３ｈが周辺遮光膜３４上に形成されることによって積層部３６が構成されている。本変形例においては、１色の周辺着色膜１３ｈのみが周辺遮光膜３４上に形成されることによって積層部３６が構成されたものとなっている。
また、本変形例においても、積層部３６の位置に対応してフォトスペーサ２４が設けられている。即ち、積層部３６に重なるように設けられている。フォトスペーサ２４の幅Ｗ１は、１０μｍ程度であるのに対して、積層部３６の幅Ｗ３は、２３μｍ以下となっており、積層部３６の幅Ｗ３は、フォトスペーサ２４よりも大きくなっている（Ｗ３＞Ｗ１）。また、積層部３６の幅Ｗ３は、遮光拡張部３２の幅Ｗ２と同じ、又は、それよりも小さい幅となっている（Ｗ３＝Ｗ２、又は、Ｗ３＜Ｗ２）。また、周辺着色膜１３ｈは、表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂのうちいずれかの表示着色層と同一工程によって形成される。また、積層部３６の位置に対応してフォトスペーサ２４が形成されることにより、表示領域９ａと周辺領域９ｂとにおける液晶層２３の層厚が共に同じになる。

上述したように、本変形例においても、表示領域９ａと周辺領域９ｂとにおける液晶層２３の層厚を均一にすることができる。従って、表示領域９ａと周辺領域９ｂとの境界近傍においては、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された液晶装置１を実現できる。

なお、本実施形態においては、ギャップ部材として上基板３に設けたフォトスペーサ２４を採用しているが、これを限定するものではない。フォトスペーサ以外にも、上基板部３Ａ及び下基板部２Ａの間に散布によって配設された樹脂ボールやガラスビーズを採用してもよい。このような構成においても、同様の効果が得られる。

（液晶装置の第２実施形態）
以下、本発明の電気光学装置に係る液晶装置の第２実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図７は、図１の要部を拡大した図であって、表示領域と周辺領域との境界近傍を示す平面図である。図８は、図７のＣ−Ｃ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）であり、液晶装置の表示領域における各構成要素と表示領域９ａの遮光膜３３の構造を説明する図である。
また、図９は、図７のＢ−Ｂ'線に沿う断面図（横方向に切断した状態を示す断面図）であり、液晶装置の表示領域における表示着色膜と遮光拡張部３２の構成と、フォトスペーサの構造を説明する図である。
なお、各図においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。また、本実施形態において、上記第１実施形態と同一構成には同一符号を付して説明を省略する。

既述の第１実施形態においては半透過反射型の液晶装置を示したが、本実施形態においては透過型の液晶装置を示している。
従って、ドット毎に各表示着色膜１３ｒ，１３ｇには、透過表示と反射表示の色合いを揃える開口部ＯＰが設けられていない構成となっている。

また、第１実施形態においては、ドットＤの相互間の各々において異なる２色の表示着色膜が重なり合うことで遮光膜３３が形成されたものであったが、本実施形態の遮光膜３３が遮光拡張部３２と同一材料の樹脂ブラックによって形成されたものとなっている。
具体的に説明すると、図７及び図８に示すように、遮光膜３３は、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの相互間に位置し、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを区画するように設けられている。また、遮光膜３３は、各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂと同一膜厚で形成され、その膜厚は１．０μｍとなっている。また、遮光膜３３は、線幅が５μｍとなるように形成されている。また、遮光膜３３は、表示領域９ａにおける遮光拡張部３２と、周辺領域９ｂの表面に形成される周辺遮光膜３４と同一工程において形成される。
なお、遮光膜３３の膜厚は、１．０μｍを限定するものではなく、約０．６〜２．０μｍの範囲であればよい。

また、本実施形態においては、図７に示すようにストライプ状の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、紙面縦方向に延在することにより複数のドットＤに重なって設けられている。また、当該ストライプ状の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂは、図７の紙面左右方向に延在する遮光膜３３を跨いで形成されており、これによって当該遮光膜３３と重なる表示着色膜は表示に寄与しない部分となる。即ち、図７の紙面左右方向に延在する遮光膜３３は、ストライプ状の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが延在する方向において、ドットＤ毎に各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを区画するものとなる。
また、図７の紙面縦方向に延在する遮光膜３３においては、その上面に表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂのうち異なる２色の表示着色膜の一部が乗り上がっている。これによって、ストライプ状の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが隣接する方向において、ドットＤ毎に各表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを区画するものとなる。
このように遮光膜３３がドットＤの相互間において縦方向及び横方向に形成されることで、ドットＤ毎に矩形の表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが形成されたものとなる。

また、図８に示すように、遮光拡張部３２及び遮光膜３３は、同一の層膜によって形成され、遮光膜３３から延設された位置に遮光拡張部３２が設けられている。即ち、遮光拡張部３２は、遮光膜３３の延在線上においてドットＤの角部に位置して設けられている。また、遮光拡張部３２には、図９の紙面鉛直方向（図７の紙面縦方向）にストライプ状に延在している表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの間に設けられている。そして、表示着色膜１３ｒ，１３ｇの間の遮光拡張部３２においては、その上に重なるように表示着色膜１３ｒ，１３ｇが隙間を介して隣接している。また、表示着色膜１３ｇ，１３ｂの間の遮光拡張部３２においては、その上に重なるように表示着色膜１３ｇ，１３ｂが隙間を介して隣接している。表示着色膜１３ｂ，１３ｒの間の遮光拡張部３２においては、その上に重なるように表示着色膜１３ｂ，１３ｒが隙間を介して隣接している。また、遮光拡張部３２の位置に対応して、フォトスペーサ２４が設けられている。即ち、図７において遮光拡張部３２に重なるようにフォトスペーサ２４が設けられている。また、フォトスペーサ２４の幅Ｗ１は、１０μｍ程度であるのに対して、遮光拡張部３２の幅Ｗ２は、２３μｍ程度となっており、遮光拡張部３２の幅Ｗ２は、フォトスペーサ２４よりも大きくなっている（Ｗ２＞Ｗ１）。

また、周辺領域９ｂにおいては、第１実施形態と同様に、積層部３６が形成され、当該積層部３６と重なるようにフォトスペーサ２４が設けられている。即ち、積層部３６に重なるようにフォトスペーサ２４が設けられている。フォトスペーサ２４の幅Ｗ１は、１０μｍ程度であるのに対して、積層部３６の幅Ｗ３は、２３μｍ以下となっており、積層部３６の幅Ｗ３は、フォトスペーサ２４よりも大きくなっている（Ｗ３＞Ｗ１）。また、積層部３６の幅Ｗ３は、遮光拡張部３２の幅Ｗ２と同じ、又は、それよりも小さい幅となっている（Ｗ３＝Ｗ２、又は、Ｗ３＜Ｗ２）。
また、積層部３６の位置に対応してフォトスペーサ２４が形成されることにより、表示領域９ａと周辺領域９ｂとにおける液晶層２３の層厚が共に同じになる。

上述したように、本実施形態の液晶装置１においては、遮光膜３３から延設された幅広の遮光拡張部３２と表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとが重なり合うことによって、表示領域９ａにおいて複数設けられた遮光拡張部３２と当該遮光拡張部３２に積層される表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂの膜厚を均一にすることができる。そして、遮光拡張部３２の位置に対応してフォトスペーサ２４を設けているので、フォトスペーサ２４を介在させた液晶層２３の層厚を均一にすることができ、表示領域９ａにおけるリタデーションΔｎｄを均一にして表示ムラを抑制できる。

また、遮光拡張部３２は、フォトスペーサ２４の幅よりも大きいので、遮光拡張部３２及びフォトスペーサ２４の中心がずれて配置されたとしても、フォトスペーサ２４は遮光拡張部３２によって確実に被覆されてはみ出すことながないので、透過光がフォトスペーサ２４に照射されることがない。従って、透明性材料のスペーサ自身を照明光が透過することがなく、コントラストの低下を抑制できる。また、遮光性材料のスペーサに起因する開口率の低下を抑制できる。

また、周辺領域９ｂにおいて周辺着色膜１３ｈと周辺遮光膜３４とが重なり合う積層部３６が形成されることにより、当該積層部３６の膜厚を、表示領域９ａにおける遮光拡張部３２と表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとの積層構造の膜厚と同様にすることができる。また、積層部３６と遮光拡張部３２との幅の関係が、Ｗ３＝Ｗ２、又は、Ｗ３＜Ｗ２となっているので、表示領域９ａにおける遮光拡張部３２と表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂとの平面構造を、周辺領域における積層部３６によって略同様に形成することができる。
更に、積層部３６に対応してフォトスペーサ２４が形成されることで、周辺領域９ｂにおける液晶層２３の層厚をフォトスペーサ２４によって規定することができ、更に、表示領域９ａと周辺領域９ｂとにおける液晶層２３の層厚を均一にすることができる。
従って、表示領域９ａと周辺領域９ｂとの境界近傍においては、リタデーションが不均一になることがないので、表示ムラを抑制された液晶装置１を実現できる。

（液晶装置の第３実施形態）
以下、本発明の電気光学装置に係る液晶装置の第３実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
図１０は、本実施形態の液晶装置における表示領域の要部を示す平面図である。
なお、各図においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。また、本実施形態において、上記第１実施形態と同一構成には同一符号を付して説明を省略する。

本実施形態の液晶装置は、図１０に示すようにドットＤの各々に表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂがデルタ配置によって配設されたものとなっている。
デルタ配置とは、表示着色膜１３ｒ，１３ｇ，１３ｂが三角形の頂点に位置するように配列されると共に、横方向の色が順々に循環的に変化する配列である。そして、三角形の頂点に配置された３色の表示着色膜が一つの集まりとなって１つの画素（単位画素）が構成されている。

本実施形態においては、三角形の頂点に配置された３色の表示着色膜の中央に遮光拡張部３２が配設されている。また、当該遮光拡張部３２は、各ドットを遮光する遮光膜３３の延在線上に設けられている。また、遮光拡張部３２においては、２色の表示着色膜が隙間を介して隣接すると共に遮光拡張部３２に重なり合って設けられている。
具体的には、図１０に示すように、紙面左右方向に並設されている表示着色膜１３ｒ，１３ｇの間の遮光膜３３が延在する位置に遮光拡張部３２が設けられている。そして、当該遮光拡張部３２と、表示着色膜１３ｒ，１３ｇの各々の一部とは、重なり合って設けられている。このような位置に配設された遮光拡張部３２は、表示着色膜１３ｂに隣接するものとなる。
また、他の遮光拡張部３２については、表示着色膜の色の配置が異なるだけで、構成は、同様である。即ち、紙面左右方向に並設されている表示着色膜１３ｇ，１３ｂの間の遮光膜３３が延在する位置に遮光拡張部３２が設けられている。そして、当該遮光拡張部３２と、表示着色膜１３ｇ，１３ｂの各々の一部とは、重なり合って設けられている。このような位置に配設された遮光拡張部３２は、表示着色膜１３ｒに隣接するものとなる。
また、紙面左右方向に並設されている表示着色膜１３ｂ，１３ｒの間の遮光膜３３が延在する位置に遮光拡張部３２が設けられている。そして、当該遮光拡張部３２と、表示着色膜１３ｂ，１３ｒの各々の一部とは、重なり合って設けられている。このような位置に配設された遮光拡張部３２は、表示着色膜１３ｇに隣接するものとなる。

このようなデルタ配置のドット間に設けられた遮光拡張部３２の位置に対応して、フォトスペーサ２４が設けられている。また、遮光拡張部３２はフォトスペーサ２４よりも幅広な形状となっている。
従って、本実施形態においても、既述の実施形態と同様の効果が得られる。即ち、表示領域９ａにおいて、フォトスペーサ２４を介在させた液晶層２３の層厚を均一にすることができ、表示領域９ａにおけるリタデーションΔｎｄを均一にして表示ムラを抑制できる。

なお、本発明の技術範囲は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、反射型や半透過反射型の液晶装置においても、本発明を適用することができる。

なお、本実施形態においては、ノーマリーブラックモードの液晶装置について説明したが、本発明は当該モードを限定するものではなく、ノーマリーホワイトモードの液晶装置においても適用可能である。
また、上記の実施形態においては、周辺領域９ｂにおいて、周辺遮光膜３４上に周辺着色膜１３ｈを設けた構成を採用したが、当該構成に限定されることなく、周辺着色膜１３ｈ上に周辺遮光膜３４を設けた構成を採用してもよい。
また、

（電子機器）
次に、本発明の上記実施形態の液晶装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図１１は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１１において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記液晶装置を用いた表示部を示している。このような携帯電話等の電子機器の表示部に、上記実施形態の液晶装置を用いた場合、表示ムラ、コントラスト低下、開口率低下が抑制された電子機器となる。

本発明の第１実施形態に係る液晶装置の平面図。 図１の要部を示す平面拡大図。 図２のＣ−Ｃ’線に沿う断面構成図。 図２のＢ−Ｂ’線に沿う断面構成図。 図２のＥ−Ｅ’線に沿う断面構成図。 第１実施形態の変形例を示す図であり、図２のＥ−Ｅ’線に沿う断面構成図。 本発明の第２実施形態に係る液晶装置の要部を示す平面拡大図。 図７のＣ−Ｃ’線に沿う断面構成図。 図７のＢ−Ｂ’線に沿う断面構成図。 本発明の第３実施形態に係る液晶装置の要部を示す平面拡大図。 本発明の電子機器を示す斜視図。 従来技術を説明するための図。

符号の説明

１ 液晶装置（電気光学装置）、 ２Ａ 下基板部（第１基板）、 ３Ａ 上基板（第２基板）、 ９ａ 表示領域、 ９ｂ 周辺領域、 １３ｈ 周辺着色膜、 １３ｒ，１３ｇ，１３ｂ 表示着色膜、 ２３ 液晶層（電気光学物質）、 ２４ フォトスペーサ（突起部）、 ３２ 遮光拡張部、 ３３ 遮光膜、 ３４ 周辺遮光膜、 ３６ 積層部、 Ｄ ドット、 Ｗ１ フォトスペーサの幅（突起部の幅）、 Ｗ２ 遮光拡張部の幅、 Ｗ３ 積層部の幅、 １０００ 携帯電話（電子機器）。

Claims (13)

1. 第１基板及び第２基板によって挟持された電気光学物質を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う電気光学装置であって、
   前記第１基板と前記第２基板との間に配設されたギャップ部材によって前記電気光学物質の層厚が規定され、
   前記表示領域には、
   前記ドットから出射される光の光路上に設けられた表示着色膜と、
   前記ドットの相互間に位置する遮光膜と、
   前記遮光膜の延在線上において前記ドットの角部に位置する遮光拡張部と、
   が設けられ、
   前記ドットの角部において、少なくとも２色の前記表示着色膜の各々は、隙間を介して隣接すると共に、前記遮光拡張部と重なり合って形成され、
   前記ギャップ部材は、前記遮光拡張部の位置に対応して設けられ、
   前記遮光拡張部の幅は、前記ギャップ部材の幅よりも大きいこと、
   を特徴とする電気光学装置。
2. 前記２色の表示着色膜の隙間は、前記ギャップ部材の幅よりも狭いこと、
   を特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記複数のドットは一の配列方向において配列し、
   当該一の配列方向において、前記表示着色膜は前記複数のドットに重なるようにストライプ状に形成されていること、
   を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置。
4. 前記ストライプ状に形成されている２色の異なる前記表示着色膜が、
   前記ドットの相互間において重なり合うことによって、前記遮光膜が形成されていること、
   を特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記遮光膜と前記遮光拡張部とが同一材料で形成されていること、
   を特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記表示領域の外部の周辺領域において、
   前記表示着色膜と同一材料で形成され、少なくとも一色からなる周辺着色膜と、
   前記遮光拡張部と同一材料で形成され、前記周辺領域を遮光する周辺遮光膜と、
   が重なり合う積層部が設けられ、
   前記ギャップ部材は、前記積層部の位置に対応して設けられ、
   前記積層部の幅は、前記遮光拡張部の幅と同じであること、又は、前記遮光拡張部の幅よりも小さいこと、
   を特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
7. 前記積層部は、
   ２色の前記周辺着色膜が隙間を介して隣接すると共に、当該２色の周辺着色膜と前記周辺遮光膜とが重なり合って形成されていること、
   を特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
8. 前記遮光拡張部に重なる前記表示着色膜と、前記積層部における前記周辺着色膜との膜厚が合わされてなること、
   を特徴とする請求項６又は請求項７に記載の液晶装置。
9. 第１基板及び第２基板によって挟持された電気光学物質を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う電気光学装置であって、
   前記第１基板と前記第２基板との間に配設されたギャップ部材によって前記電気光学物質の層厚が規定され、
   前記表示領域には、
   前記ドットから出射される光の光路上に設けられた表示着色膜と、遮光拡張部と、
   が設けられ、
   少なくとも２色の前記表示着色膜の各々は、隙間を介して隣接すると共に、前記遮光拡張部と重なり合って形成され、
   前記ギャップ部材は、前記遮光拡張部の位置に対応して設けられ、
   前記遮光拡張部の幅は、前記ギャップ部材の幅よりも大きいこと、
   を特徴とする電気光学装置。
10. 前記ギャップ部材は、
    前記第１基板と前記第２基板とのうち、一方の基板の内側に設けられた突起部であって、当該突起部が他方の基板側に接触することによって前記電気光学物質の層厚が規定されていること、
    を特徴とする請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の電気光学装置。
11. 第１基板及び第２基板によって挟持された電気光学物質を具備し、複数のドットからなる表示領域において表示を行う電気光学装置の製造方法であって、
    前記第１基板と前記第２基板との間に配設されたギャップ部材によって前記電気光学物質の層厚が規定され、
    前記表示領域には、
    前記ドットから出射される光の光路上に設けられた表示着色膜と、
    前記ドットの相互間に位置する遮光膜と、
    前記遮光膜の延在線上において前記ドットの角部に位置する遮光拡張部と、
    が設けられ、
    前記ドットの角部において、少なくとも２色の前記表示着色膜の各々を、隙間を介して隣接させると共に、前記遮光拡張部に重なり合わせて形成し、
    前記ギャップ部材を、前記遮光拡張部の位置に対応させて形成し、
    前記遮光拡張部の幅を、前記ギャップ部材の幅よりも大きくすること、
    を特徴とする電気光学装置の製造方法。
12. 前記表示領域の外部の周辺領域において、
    少なくとも一色からなる周辺着色膜と、前記周辺領域を遮光する周辺遮光膜と、が重なり合う積層部を形成し、
    前記表示着色膜と前記周辺着色膜とを同一工程で形成し、
    前記遮光膜と前記周辺遮光膜とを同一工程で形成し、
    前記積層部を、前記遮光拡張部と同じ幅で、又は、前記遮光拡張部よりも小さい幅で形成すること、
    を特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法。
13. 表示部を備える電子機器であって、
    前記表示部は請求項１から請求項１０のいずれか一項に記載の電気光学装置からなること、を特徴とする電子機器。
    
    

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