JP2006289944A - 静電アクチュエータ及びその製造方法、液滴吐出ヘッド及びその製造方法、液滴吐出装置並びにデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一方の電極を構成する振動板12と、振動板12にギャップ20を隔てて対向する対向電極17が形成された電極基板3とを備え、対向電極17は電極基板3に形成された平面形状が略長方形の溝部19に形成されており、かつ溝部19の長辺方向の中央部に行くに従ってギャップ20が大きくなる複数段の面に形成されている静電アクチュエータ。
【選択図】図1
Description
この課題を解消するために、ギャップを広くしてインクの排除体積を確保することが考えられるが、振動板と対向電極の間のギャップを広くすると、振動板を駆動するための駆動電圧を大きくしなければならないという課題があった。
階段状に形成された溝部の段差を、溝部の端部から中央部に行くに従って小さくなるように形成すれば、溝部の端部の最もギャップ長の短い部分において振動板と対向電極が当接する駆動電圧で、振動板全体を対向電極に当接させることが可能となり、低い駆動電圧での駆動が可能となる。従って、このアクチュエータを液滴吐出ヘッドの圧力室の圧力変動機構に適用した場合には、低い駆動電圧で十分な液滴吐出量の確保が可能となる。
これらの静電アクチュエータによれば、段差部での振動板を吸引する静電吸引力は、上段部での当接、段差境界部での当接、下段部での当接の順になり、前段部分の当接によって次に当接する部分の電界が逐次高くなる。これにより、振動板と対向電極との当接を、狭いギャップに対応した印加電圧を利用して、行うことが可能となる。
本発明の液滴吐出装置は、上記の液滴吐出ヘッドが搭載されているものである。
本発明のデバイスは、上記いずれかに記載の静電アクチュエータを備えたものである。 これらの液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、及びデバイスでは、液滴吐出などの動作を低電圧で行うことができ、また装置の小型化も可能となる。
また、前記溝部の長辺方向と直交する幅は、前記溝部の長辺方向端部から中央部に行くに従って各段面毎に順次広くするのが好ましい。これにより、対向電極の幅もそれに対応して長辺方向端部から中央部に行くに従って広くできる。
さらに、前記溝部の内部に形成する対向電極の平坦厚さを、前記溝部のいずれの段差よりも厚くすることが好ましい。対向電極をこのようにして成膜形成すると、対向電極が段差の境界部で途切れるのを防止できる。
また、前記溝形成工程においては、前記溝部の各段の境界部で隣り合う段の上段端部に少なくとも1つの凹部からなる段差遷移部、又は前記隣り合う段の下段端部に少なくとも1つの凸部からなる段差遷移部を形成することが好ましい。
図1は、本発明の実施形態1に係る液滴吐出ヘッドを示した縦断面図である。図1では、本発明に係る静電アクチュエータを液滴吐出ヘッドに適用した例を示しており、この液滴吐出ヘッドは静電駆動方式でフェイスイジェクトタイプのものである。
本実施形態1に係る液滴吐出ヘッド1は、主にキャビティ基板2、電極基板3、及びノズル基板4が接合されることにより構成されている。
ノズル基板4はシリコン等からなり、例えば円筒状の第1のノズル孔6と、第1のノズル孔6と連通し、第1のノズル孔6よりも径の大きい円筒状の第2のノズル孔7を有するノズル8が形成されている。第1のノズル孔6は、液滴吐出面10(キャビティ基板2との接合面11の反対面)に開口するように形成されており、第2のノズル孔7は、キャビティ基板2との接合面11に開口するように形成されている。
またノズル基板4には、以下に示す吐出室13とリザーバ14を連通するためのオリフィス15となる凹部が形成されている。このオリフィス15は複数の吐出室13に対して1つずつ形成されている。なおオリフィス15は、キャビティ基板2のノズル基板4側に形成するようにしてもよい。
さらにキャビティ基板2の電極基板3が接合される側の面には、酸化シリコンや酸化アルミニウム等からなる絶縁膜16が形成されている。この絶縁膜16は、液滴吐出ヘッド1の駆動時の絶縁破壊やショートを防止するためのものである。またキャビティ基板2のノズル基板4が接合される側の面には、酸化シリコン等からなる耐液滴保護膜(図示せず)が形成されている。この耐液滴保護膜は、吐出室13やリザーバ14の内部の液滴によりキャビティ基板2がエッチングされるのを防止するためのものである。
さらに電極基板3には、リザーバ14と連通するインク供給孔18が形成されている。このインク供給孔18は、リザーバ14の底壁に設けられた孔と繋がっており、リザーバ14にインク等の液滴を外部から供給するために設けられている。またギャップ20及び連通溝19aから形成される空間は、ギャップ20に水蒸気等が浸入するのを防止するために封止材22によって封止されている。
本実施形態1では、本発明に係る静電アクチュエータを適用した例として、静電駆動方式の液滴吐出ヘッドを示しているが、本実施形態1で示す液滴吐出ヘッド及びその製造方法は、マイクロポンプ等のMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)デバイスなどにも応用することができる。
図2(b)に示すように、階段状の溝部19は長辺方向の中央部が一番深くなっており(深さA3)、中央部の両端部側が中央部よりも浅く(深さA2)、最も両端部よりの部分が最も浅く(深さA1)となっている。即ち、A3>A2>A1の関係が成り立つ。なお、図1及び図2に示す溝部19は3段の階段状となっているが、4段以上であってもよい。また、図2(b)に示す溝部19の段差は、溝部19の両端部から中央部に行くに従って順次小さくなっているのが好ましい。ただし、必ずしもその様にする必要はなく、
(A2−A1)≧(A3−A2)の関係であってもよい。本実施形態1に係る液滴吐出ヘッド1では、A1>(A2−A1)>(A3−A2)の関係を満たしているものとする。
上記の関係から、G3>G2>G1の関係が成り立ち、またG1>(G2−G1)>(G3−G2)の関係が成り立つ。即ち、振動板12と対向電極17の間のギャップ長は、溝部19の長辺方向の中央部から両端部に行くに従って短くなっており、また段差毎のギャップ長の差は、溝部19の両端部から中央部に行くに従って小さくなるようになっている。
なお、本実施形態1では、対向電極17の溝部19内平坦部での厚さtは、階段状に形成された溝部19のいずれの段差よりも厚く形成されている。これは、t>(A2−A1)>(A3−A2)の関係が成り立つということである。これにより、対向電極17の段差部における段切れ(断線)を防止することができる。
図3(a)は、溝部19の端部(左側)を示した縦断面図である。なお図3(a)に示す液滴吐出ヘッドは、図1及び図2に示す液滴吐出ヘッド1と同じものであり、振動板12の初期位置を点線で示している。また、ΔG1=(G2−G1)と置いている。
G1を溝部19の両端部におけるギャップ長、xを振動板12の対向電極17方向への変位量、Vを振動板12と対向電極17の間の電位差として、溝部19の両端部における振動板12と対向電極17の間に働く静電力Finは以下の式で表される。
これを式で表すと、
図3(c)に示すように、振動板12と対向電極17の間の電位差が14V(図3(c)の曲線B)及び16V(図3(c)の曲線C)の場合には、静電力Finが復元力Fp(図3(c)の直線A)を上回らない部分があり、振動板12が溝部19の両端部のギャップ長がG1の部分に当接しない。しかし、振動板12と対向電極17の間の電位差が20V(図3(c)の曲線D)の場合には、常に静電力Finが復元力Fpを上回るため振動板12が溝部19の両端部のギャップ長がG1の部分に当接する。つまり、Vhit=20(V)となる。本発明の構成によれば、この電位差Vhitで振動板12を駆動することにより、振動板12の全体を対向電極17に当接させることが可能となるが、その理由を以下に説明する。
このとき、ギャップ長がG2の部分における振動板12と対向電極17の間に働く静電力Fin及び振動板12に働く復元力Fpは以下の式で表される。なお(6)、(7)式では、振動板12が図3(b)の状態からさらに変形して、ギャップ長G2の部分で撓んだ変位量をy(nm)と置いている(図4(d)参照)。
図4(e)に示すようにΔG1が適当に設定してあれば、常に静電力Finが復元力Fpを上回り、振動板12と対向電極17の間の電位差がVhitのままで振動板12を溝部19のギャップ長G2の部分に当接させることが可能となる。
振動板12が対向電極17のギャップ長G2の部分に当接した状態において、溝部20のギャップ長がG3の部分における振動板12と対向電極17の間に働く静電力Fin2及び振動板12に働く復元力Fp2は以下の式で表される。なおここでは、ΔG2=(G3−G2)と置いている。
このとき、ギャップ長がG3の部分における振動板12と対向電極17の間に働く静電力Fin及び振動板12に働く復元力Fpは以下の式で表される。なお(10)、(11)式では、振動板12がギャップ長G3の部分で撓んだ変位量をz(nm)と置いている(図4(f)参照)。
図4(g)に示すようにΔG2が適当に設定してあれば、常に静電力Finが復元力Fpを上回り、振動板12と対向電極17の間の電位差がVhitのままで振動板12を溝部19のギャップ長G3の部分に当接させることが可能となる。
Fp(0)<Fin(0、Vhit)、Fp1<Fin1、Fp2<Fin2を満足する解を求めるために、ここでは便宜上Fp1=Fin1、Fp2=Fin2とする。復元力については、Fp(0)<Fp1<Fp2であるから、Fin(0、Vhit)<Fin1<Fin2が成り立つ。
この式に以下の式を代入すると、G1、ΔG1、ΔG2についての関係式が得られる。
まず、例えば厚さが2〜3mmでホウ珪酸ガラスからなる基板3aを準備し(図5(a))、機械研削によって例えば基板3aの厚さが1mmになるまで研削した後、例えばフッ酸水溶液で基板3aの全体を10〜20μmエッチングして加工変質層を除去する(図5(b))。この加工変質層の除去は、例えばSF6等によるドライエッチングで行ってもよく、フッ酸水溶液によるスピンエッチングで行っても良い。ドライエッチングを行う場合は、基板3aの片面にできた加工変質層を効率よく除去することができ、反対面の保護を必要としない。またスピンエッチングを行う場合は、必要とするエッチング液が少量で済み、また常に新しいエッチング液が供給されるため安定したエッチングが可能となる。 なお図5(b)の工程において、機械研削の代わりに例えばフッ酸水溶液のみで基板3aを薄板化するようにしてもよい。また図5(b)の工程の後に、酸性水溶液で基板3aの表面処理をして基板3aの濡れ性を高めることにより、後の工程におけるエッチングを促進することができる。
そしてフォトリソグラフィーによってエッチングマスク30の表面に所定の形状のレジスト(図示せず)をパターニングしてエッチングを行い、エッチングマスク30を溝部19の中央部(ギャップ長G3の部分)に対応した形状の開口部を形成する(図5(d))。なおこの開口部は、一般的に長方形状のものを複数形成する。
それから、例えばフッ酸水溶液で基板3aをエッチングすることにより第1の溝部19bを形成する(図5(e))。なおこのときのエッチング量(エッチングの深さ)は、図2(b)における(A3−A2)となるようにする。
その後、再びフォトリソグラフィーによってエッチングマスク30の表面に所定の形状のレジスト(図示せず)をパターニングしてエッチングを行い、エッチングマスク30を溝部19のギャップ長G2の部分(図1、図2参照)に対応した形状となるように開口部を長辺方向(図5及び図6の紙面左右方向)両側に広げる(図6(f))。
そして、例えばフッ酸水溶液で基板3aをエッチングすることにより第2の溝部19cを形成する(図6(g))。なおこのときのエッチング量(エッチングの深さ)は、図2(b)における(A2−A1)となるようにする。なお第2の溝部19cは、図6(g)に示すように2段形状となる。
そして、例えばフッ酸水溶液で基板3aをエッチングすることにより溝部19及び連通溝19aを形成した後、例えばフッ酸水溶液でエッチングマスク30を除去する(図6(i))。このときのエッチング量(エッチングの深さ)は、図2(b)におけるA1となるようにする。これにより、深さA1、A2、A3の3段の平坦面を有した階段形状の溝部19が形成される。
なお上記の工程を繰り返すことにより、4段以上の平坦面溝部19を形成するようにしてもよい。
さらに、例えばITO(Indium Tin Oxide)膜31をスパッタによって基板3aの溝部19等の形成された側の面の全体に形成する(図6(j))。なおこのときITO膜31の厚さは、階段状に形成された溝部19のいずれの段差よりも厚く形成する(上記の対向電極の厚さt)。そしてフォトリソグラフィーによってレジスト(図示せず)をパターニングしてITO膜31をエッチングして対向電極17を区画形成し、電極基板3を形成する(図6(k))。これにより、振動板12と対向電極17の間のギャップ長が溝部19の端部側からG1、G2、G3からなる対向電極17が形成される。
シリコン基板2aと電極基板3を陽極接合した後に、例えば機械研削によってシリコン基板2aの全体を例えば厚さ140μmになるまで薄板化する(図7(m))。ここで機械研削を行った後に、加工変質層を除去するため水酸化カリウム水溶液等でライトエッチングを行うのが望ましい。なお機械研削の代わりに、水酸化カリウム水溶液によるウェットエッチングによってシリコン基板2aの薄板化を行ってもよい。
その後、シリコン基板2aを水酸化カリウム水溶液等で異方性ウェットエッチングすることにより、吐出室13となる凹部13a、リザーバ14となる凹部(図示せず)及びオリフィス15となる凹部(図示せず)を形成した後、酸化シリコン膜を除去する(図7(n))。なお図7(n)のウェットエッチングの工程では、例えば初めに35重量%の水酸化カリウム水溶液を使用し、その後3重量%の水酸化カリウム水溶液を使用することができる。これにより、振動板12の面荒れを抑制することができる。
なお、図7(n)の工程の後に、シリコン基板2aの吐出室13となる凹部13a等の形成された面に、例えばCVDによって酸化シリコン等からなる耐液滴保護膜(図示せず)を例えば厚さ0.1μmで形成するが、図7(n)においては耐液滴保護膜を省略している。
最後に、例えばキャビティ基板2、電極基板3、及びノズル基板4が接合された接合基板をダイシング(切断)により分離して、液滴吐出ヘッド1が完成する。
また、階段状に形成された溝部19の段差を溝部19の端部から中央部に行くに従って小さくなるように形成しているため、対向電極17もその形状に合わせて形成される。これにより、溝部19の端部の最もギャップ長の短い部分において振動板12と対向電極17が当接する駆動電圧で、振動板12全体を対向電極17に当接させることが可能となる。これにより、駆動電圧を低下させると共に、液滴吐出ヘッド1における液滴の吐出量を確保することが可能となる。
また、静電アクチュタータが液滴吐出ヘッドに適用されるものでない場合には、振動板12を形成する基材に流路などを形成する必要はなく、ノズル基板4の組み付けも不要である。
図8は本発明の実施形態2に係る静電アクチュエータの概略構成図である。この静電アクチュエータは、一方の電極を構成するシリコン等からなる振動板12Aと、電極基板3Aに形成され振動板12Aとギャップ20Aを隔てて対向する対向電極17Aとを備える。振動板12Aは振動膜とも称される場合がある。なお、振動板12Aの対向電極17Aと対向する面には絶縁膜が被膜されているが、ここではそれを図示していない。さらに、振動板12Aと対向電極17Aとの間にはそれらの電極間に駆動パルスを供給するための駆動回路25Aが接続されている。
G4>G3>G2>G1となっている。
液滴吐出ヘッド用の静電アクチュエータの場合、ギャップ20Aは例えば、Gl=80nm、G2=95nm、G3=110nm、G4=120nmとすることができる。
(G2−Gl)≧(G3−G2)≧(G4−G3)、ただしGl≧(G2−Gl)
となっていればよい。このようにすると、ギャップ20Aが最も狭い部分において振動板12Aと対向電極17Aが当接する駆動電圧で、振動板12A全体を対向電極17Aに当接させ易くなる。
A1=G1+t、A2=G2+t、A3=G3+t、A4=G4+t
となっている。即ち、A4>A3>A2>A1となっている。
なお、溝部19Aの段差は対向電極17Aの段差に対応させて形成しておき、溝部19Aの段差を利用して対向電極17Aにも同じ段差を形成させるのが好ましい。
t>(A2−A1)>(A3−A2)>(A4−A3)の関係が成り立つので、対向電極17Aの段差部における段切れ(断線)を防止することができるからである。
なお、対向電極17A及び溝部19Aは4段の構成に限らず、静電アクチュエータの大きさに応じて2段、3段の構成あるいは5段以上の構成としてもよい。
以上のように、実施形態2の静電アクチュエータも基本的には実施形態1の態様と同様あるが、実施形態2においてはそれに加えて、対向電極17Aの各段の境界部(又は段差遷移部)24に、振動板12Aを対向電極17Aにより強固に保持させ、連成当接をより確実に誘発するための工夫が凝らされている。以下に、その境界部(又は段差遷移部)24の構成を具体的に説明する。
なお、図9の場合とは逆に、対向電極17Aの上段側の端部の一部が下段側に入り組むように構成することも可能である。
また、図10において、溝部19Aの長辺方向と直交する対向電極幅及び溝部幅は、それらの下段側を上段側よりも幅広に構成している。これにより、ギャップ20Aが広い部分程、振動板12Aに対する静電吸引力が広範囲に作用することになるので、連成当接がより誘発され易くなる。また、溝部19A形成時のパターンズレによる溝幅の変化による不具合も回避し易くなる。
このように段差部を含む境界部に段差遷移部24を設けることにより、該遷移部分での静電吸引力は、隣り合う段の上段部での吸引力と下段部での吸引力とを平均した圧力となり、深いギャップへの連成当接がより確実に誘発される。従ってその駆動電圧を低くできる。
なお、対向電極17Aの隣り合う上下段の下段の端部に凸部を設ける代わりに、隣り合う上段の端部に島状の凹部を形成する構成としても、同様の効果を得ることができる。
また、この実施形態2の静電アクチュエータを利用して、実施形態1で説明した液滴吐出ヘッド1と同様の液滴吐出ヘッドを得ることもできる。
図12は本発明に係る液滴吐出ヘッド、例えば液滴吐出ヘッド1を備えた本発明の実施形態3に係る液滴吐出装置の一例を示した斜視図である。図12に示す液滴吐出装置100は、吐出液がインクであるインクジェットプリンタである。既に説明したように、液滴吐出ヘッド1は駆動電圧が低く液滴の吐出量も十分なため、それを利用した液滴吐出装置100は低消費電力で吐出性能にも優れてたものとなる。
なお、液滴吐出ヘッド1および液滴吐出装置100は、インクの他に、カラーフィルタのフィルタ材を含んだ溶液、有機EL表示装置の発光材を含んだ溶液、生体液体等、各種液滴の吐出にも適用できる。
Claims (17)
- 一方の電極を構成する振動板と、該振動板にギャップを隔てて対向する対向電極が形成された電極基板とを備え、
前記対向電極は、前記電極基板に形成された平面形状が略長方形の溝部に形成されており、かつ前記溝部の長辺方向の中央部に行くに従って前記ギャップが大きくなる複数段に形成されていることを特徴とする静電アクチュエータ。 - 前記対向電極の各段の段差は、前記溝部の長辺方向端部から中央部に行くに従って小さくなっていることを特徴とする請求項1記載の静電アクチュエータ。
- 前記対向電極の各段の境界部では隣り合う段が互いに相手側に入り込むように形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の静電アクチュエータ。
- 前記対向電極の各段の境界部では隣り合う段の上段端部に少なくとも1つの凹部からなる段差遷移部が形成されているか、又は前記隣り合う段の下段端部に少なくとも1つの凸部からなる段差遷移部が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の静電アクチュエータ。
- 前記対向電極の長辺方向と直交する幅は、前記溝部の長辺方向端部から中央部に行くに従って各段面毎に順次広くなっていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の静電アクチュエータ。
- 前記電極基板は、ホウ珪酸ガラスからなることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の静電アクチュエータ。
- 前記対向電極は、ITOからなることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の静電アクチュエータ。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の静電アクチュエータを備え、前記振動板が液滴を溜めて吐出させる圧力室の壁面を構成していることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 請求項8記載の液滴吐出ヘッドを備えていることを特徴とする液滴吐出装置。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の静電アクチュエータを備えていることを特徴とするデバイス。
- 電極基板に複数回のエッチングを施して、平面形状が略長方形であって、その長辺方向の中央部に行くに従って深くなる階段状の溝部を形成する溝形成工程と、
前記溝部の内部に電極材料を成膜して該溝部の段差に対応した段差形状を有する対向電極を形成する電極形成工程と、
前記各工程を終了した電極基板と、一方の電極を構成する振動板又は後に振動板が形成される基板とを、前記対向電極と前記振動板又は前記基板の振動板形成予定面とを対向させて接合する接合工程と、
を有することを特徴とする静電アクチュエータの製造方法。 - 前記溝部の各段の段差を、前記溝部の長辺方向端部から中央部に行くに従って小さくすることを特徴とする請求項11記載の静電アクチュエータの製造方法。
- 前記溝部の長辺方向と直交する幅を、前記溝部の長辺方向端部から中央部に行くに従って各段面毎に順次広くすることを特徴とする請求項11又は12記載の静電アクチュエータの製造方法。
- 前記溝部の内部に形成する対向電極の平坦部の厚さを、前記溝部のいずれの段差よりも厚くすることを特徴とする請求項11〜13のいずれかに記載の静電アクチュエータの製造方法。
- 前記溝形成工程において、前記溝部の各段の境界部で隣り合う段が互いに相手側に入り込むように溝を形成する、ことを特徴とする請求項11〜14のいずれかに記載の静電アクチュエータの製造方法。
- 前記溝形成工程において、前記溝部の各段の境界部で隣り合う段の上段端部に少なくとも1つの凹部からなる段差遷移部、又は前記隣り合う段の下段端部に少なくとも1つの凸部からなる段差遷移部を形成する、ことを特徴とする請求項11〜14のいずれかに記載の静電アクチュエータの製造方法。
- 請求項12〜16のいずれかに記載の静電アクチュエータの製造方法を適用して、液滴を溜めて吐出させる圧力室の圧力変動機構を構成することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
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