JP2006286139A - 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の強化方法、およびそれを用いてなるハードディスクドライブ - Google Patents
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Abstract
【課題】 落下などの衝撃が負荷されてもガラスディスクの外周部分が損傷することのない、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の強化方法、およびそれらを用いてなるハードディスクドライブを提供する。
【解決手段】 ハードディスクドライブにおいて読み書き用のヘッドが設けられた磁気ディスク外周部の直近の磁気ディスク用ガラス基板の外周端部周辺の外周端部から所定幅の上下面および外周端面に、ガラス表面またはガラス内部に超短パルスレーザー光を集光照射して異質相を形成させる強化処理方法を用いて強化処理部分を設けたガラス基板を用いてハードディスクドライブを構成する。
【選択図】 図2
【解決手段】 ハードディスクドライブにおいて読み書き用のヘッドが設けられた磁気ディスク外周部の直近の磁気ディスク用ガラス基板の外周端部周辺の外周端部から所定幅の上下面および外周端面に、ガラス表面またはガラス内部に超短パルスレーザー光を集光照射して異質相を形成させる強化処理方法を用いて強化処理部分を設けたガラス基板を用いてハードディスクドライブを構成する。
【選択図】 図2
Description
本発明は磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の強化方法、およびそれを用いてなるハードディスクに関する。
近年、ハードディスクドライブにおいては大容量化が求められており、ガラス製のディスク基板に磁性層および潤滑層を設けたガラス磁気ディスクが用いられるようになっている。しかし、ガラスは脆性材料であるので、ハードディスクドライブを製造する時の取り扱い、製品としての流通したりコンピュータ部品として使用する際に落下するなどして過度の衝撃が負荷されると比較的容易に損傷してしまう。そのため、このような衝撃が負荷された際に損傷することのないように、ガラス磁気ディスクに用いるガラス基板を強化する対策が考えられ、一般的な板ガラスで実施されている風冷強化法やイオン交換を用いる化学強化処理法を用いてガラス表面に圧縮応力を付与する方法を用いた強化処理が行われている。また、特許文献1に記載されているように、ガラス材料に超短波長のパルスレーザー光を集光照射してガラス材料の表面あるいはガラス材料の内部に異質相を形成させる強化処理も提案されている。
一方、ガラス磁気ディスクを装填したハードディスクドライブに落下などにより外部から衝撃が負荷された場合、損傷の大半は、衝撃の応力が集中するガラス磁気ディスクをハードディスクドライブに固定しているスピンドルモータのハブ、スペーサ、ディスク押えの周辺部、すなわちドーナツ状の形状を有するガラス磁気ディスクの中心孔周辺の内縁部で生じる。しかし、ハードディスクドライブは可能な限りコンパクトな形状とする必要があるため、図5に示すように、ガラス磁気ディスク10を収納するハードディスクドライブ20のケーシングの内壁21、読み書き用のヘッドを移動させるスライダー23、読み書き用のヘッドを収納するための部材24などが、ガラス磁気ディスク10の外周部に極めて接近して設けられており、特に読み書き用のヘッドを収納するための部材24はガラス磁気ディスク10にオーバーラップする状態で設けられており、ハードディスクドライブに落下などの衝撃が負荷された場合に、読み書き用のヘッドを収納するための部材24がガラス磁気ディスク10の外周部分に接触して損傷してしまう可能性がある。
ガラス磁気ディスクのガラス基板を局部的に強化処理する方法として、特許文献2には、ガラス磁気ディスク基板の内径部分と外径部分に選択的に強化剤を塗布して熱処理して拡散させる強化方法が記載されている。しかしこの方法では、磁気記録層をスパッターする際に、強化によりイオン交換されたナトリウムやリチウムがスパッター雰囲気と反応してガラス磁気ディスク基板表面に突起などの異物を形成して磁気ディスクメディアとした後に欠陥となることがある。
本出願に関する先行技術文献情報として次のものがある。
特開2003−028604号公報
特開平09−027150号公報
本発明は、落下などの衝撃が負荷されてもガラス磁気ディスク、特にガラス磁気ディスクの外周部分が損傷することのない、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の強化方法、およびそれを用いてなるハードディスクドライブを提供することを目的とする。
上記目的を達成する本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、ハードディスクドライブに用いるド−ナツ状形状の磁気ディスク用ガラス基板であって、該磁気ディスク用ガラス基板の上下面の外周端から2mm内周側の位置までの部分および外周端面に、強化処理部分を設けてなることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板(請求項1)である。
また、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の強化方法は、ハードディスクドライブに用いるド−ナツ状形状の磁気ディスク用ガラス基板の強化方法であって、該磁気ディスク用ガラス基板の上下面の外周端から2mm内周側の位置までの部分および外周端面に、超短波長のパルスレーザー光を集光照射して磁気ディスク用ガラス基板表面および/または磁気ディスク用ガラス基板の内部に異質相を形成させて強化処理部分を設けることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の強化方法(請求項2)である。
そして、本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、上記(請求項1)の磁気ディスク用ガラス基板を用いてなるハードディスクドライブ(請求項3)である。
また、本発明の磁気ディスク用ガラス基板の強化方法は、ハードディスクドライブに用いるド−ナツ状形状の磁気ディスク用ガラス基板の強化方法であって、該磁気ディスク用ガラス基板の上下面の外周端から2mm内周側の位置までの部分および外周端面に、超短波長のパルスレーザー光を集光照射して磁気ディスク用ガラス基板表面および/または磁気ディスク用ガラス基板の内部に異質相を形成させて強化処理部分を設けることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の強化方法(請求項2)である。
そして、本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、上記(請求項1)の磁気ディスク用ガラス基板を用いてなるハードディスクドライブ(請求項3)である。
本発明の磁気ディスク用ガラス基板は、基板の上下面の外周端から2mm内周側の位置までの部分および外周端面に、ガラス表面またはガラス内部に異質相を形成させる強化処理方法を用いて強化処理部分を設けているので、落下などの衝撃が負荷された際に、読み書き用のヘッドを収納するための部材に接触しても外周部に極めて損傷が生じにくい。また、イオン交換法による強化法によらない本発明の磁気ディスク用ガラス基板を用いた磁気ディスクメディアにおいては、基板表面の突起などの異物形成による欠陥を生じることがない。
以下、図面を参照しながら本発明を詳細に説明する。本発明においては図1に示すように、ドーナツ状のガラス磁気ディスク10に用いるガラス基板において、ガラス基板の上下面13aおよび13bの外周端11から2mm内周側の位置12までの部分、および外周端面14に、それぞれハッチングで示す強化処理部分10aおよび10bを設けることを特徴とする。
本発明のガラス基板に用いるガラス材料としては、通常の酸化物ガラスを用いることができるが、クラック発生が少ない組成のガラスを用いることが好ましい。このような組成のガラスとしては、例えば5〜15mass%のNa2O、0〜10mass%のLi2O、5〜15mass%のAl2O3、0〜6mass%のCaO、2〜10mass%のTiO2、53〜75mass%のSiO2、Nb酸化物および/またはV酸化物をNb2O5換算またはV2O5換算で0.1〜10mass%含有するガラス材料、5〜15mass%のNa2O、0〜10mass%のLi2O、5〜15mass%のAl2O3、0〜6mass%のCaO、2〜6mass%のTiO2、0〜5mass%のZrO2、53〜75mass%のSiO2、Nb酸化物および/またはV酸化物をNb2O5換算またはV2O5換算で0.1〜10mass%含有するガラス材料、あるいは5〜15mass%のNa2O、0〜10mass%のLi2O、5〜15mass%のAl2O3、0.5〜6mass%のCaO、2〜10mass%のTiO2、0〜5mass%のZrO2、53〜75mass%のSiO2を含有し、かつ1〜15%のB2O3と0〜5mass%のK2Oを含有するガラス材料、もしくは5〜15mass%のNa2O、0〜10mass%のLi2O、5〜15mass%のAl2O3、0.5〜6mass%のCaO、2〜10mass%のTiO2、0〜5mass%のZrO2、53〜75mass%のSiO2を含有し、かつ0〜15mass%のB2O3と0.5〜5mass%のK2Oを含有するガラス材料などを挙げることができる。
ガラス基板の外周部分に強化処理部分を設ける方法としては、ガラス材料を強化するために行われている公知の強化処理方法を用いることができる。例えば、数nJ〜1mJのエネルギーを有する1×10−15 秒のオーダーのパルス幅、400〜1000nmの超短波長のパルスレーザー光をレンズ等を用いて100μm以下のスポット状に収斂し、収斂点をドーナツ状のガラス基板のヘッド収納用部品とガラスディスクが接触する可能性がある位置より少なくとも2mm内周側の位置から外周端までの上下面および外周端面の内部および/または表面(図2に収斂点の例を×で示す)において走査移動させ、これらの部分に周囲の部分とは異質な相を形成させる。または、これらの部分の表面に硝酸カリウムを塗布し、300〜500℃に加熱してガラス中のNaイオンと硝酸カリウムのKイオンを交換し、表面に圧縮応力を付与する。これらのいずれかの強化処理方法を用いて、ガラスディスクの内縁部に強化処理部分を設けることができる。このように、強化処理は、ガラスディスクの中心孔周辺の内縁部分の両面および/または内部まで行うことが望ましい。
以下、実施例にて本発明を詳細に説明する。
(実施例1)
5.0mass%のNa2O、3.6mass%のLi2O、12.7mass%のAl2O3、0.5mass%のCaO、3.7mass%のTiO2、57.3mass%のSiO2、7.6mass%のB2O3、1.8mass%のK2O、7.8mass%のNb2O5 からなるドーナツ状のガラス基板を、外径65mm、内径20mm、厚さ0.635mmの寸法に研磨し精密洗浄した後、ガラス研磨基板を水平方向および高さ方向に移動自在で、かつ水平面に対して0〜360°の範囲の角度で回転自在のステージ上に置き、ガラス研磨基板の片側の表面に、チタンサファイアレーザーから発振された、パルス幅1.2×10−13 秒、波長600nmの超短波長のパルスレーザー光をレンズ等を用いて30μmのスポット状に収斂して出力を50mWに調整した位置を固定した後、ステージをガラス研磨基板の中心孔と同心の61mm径、61.3mm径61.6mm径、61.9mm径、62.2mm径、62.5mm径、62.8mm径、63.1mm径、63.4mm径、63.7mm径、64mm径、64.3mm径、64.6mm径、64.9mm径の14列のそれぞれの周上を円状に移動させて、ガラス研磨基板の外周端部から2mm内周側までの部分の表面に異質相を形成させた。次いで、ガラス研磨基板の他の側の表面に、上記と同様にして外周端部から2mm内周側までの部分の表面に異質相を形成させた。さらに、ガラス研磨基板の外周端面上の幅方向のガラス基板上面から0.2mm、およびガラス基板下面から0.2mmの部分にパルスレーザー光をスポット状に収斂し、ステージを360°回転させながら、外周端面の2カ所の周上に移動させて異質相を形成させた。このようにして外縁部および外周端面に強化処理を施したガラスディスクを準備した。
(実施例1)
5.0mass%のNa2O、3.6mass%のLi2O、12.7mass%のAl2O3、0.5mass%のCaO、3.7mass%のTiO2、57.3mass%のSiO2、7.6mass%のB2O3、1.8mass%のK2O、7.8mass%のNb2O5 からなるドーナツ状のガラス基板を、外径65mm、内径20mm、厚さ0.635mmの寸法に研磨し精密洗浄した後、ガラス研磨基板を水平方向および高さ方向に移動自在で、かつ水平面に対して0〜360°の範囲の角度で回転自在のステージ上に置き、ガラス研磨基板の片側の表面に、チタンサファイアレーザーから発振された、パルス幅1.2×10−13 秒、波長600nmの超短波長のパルスレーザー光をレンズ等を用いて30μmのスポット状に収斂して出力を50mWに調整した位置を固定した後、ステージをガラス研磨基板の中心孔と同心の61mm径、61.3mm径61.6mm径、61.9mm径、62.2mm径、62.5mm径、62.8mm径、63.1mm径、63.4mm径、63.7mm径、64mm径、64.3mm径、64.6mm径、64.9mm径の14列のそれぞれの周上を円状に移動させて、ガラス研磨基板の外周端部から2mm内周側までの部分の表面に異質相を形成させた。次いで、ガラス研磨基板の他の側の表面に、上記と同様にして外周端部から2mm内周側までの部分の表面に異質相を形成させた。さらに、ガラス研磨基板の外周端面上の幅方向のガラス基板上面から0.2mm、およびガラス基板下面から0.2mmの部分にパルスレーザー光をスポット状に収斂し、ステージを360°回転させながら、外周端面の2カ所の周上に移動させて異質相を形成させた。このようにして外縁部および外周端面に強化処理を施したガラスディスクを準備した。
(実施例2)
ガラス基板として、実施例1と同様の組成および実施例1と同様の寸法形状を有するドーナツ状のガラス研磨基板の表裏の両面に、実施例1と同様にして異質相を形成させた後、パルスレーザー光の収斂する位置をガラス研磨基板面表面から0.2mmの深さの位置に固定して、実施例1と同様にしてガラス研磨基板面の表裏両面から0.2mmの深さの位置の外周端部から2mm内周側までの部分および外周端面に異質相を形成させた。このようにして外周端部から2mmの外縁部表面および外周端面、外周端部から2mmの外縁部の表裏両面から深さ0.2mmの位置、および外周端面から深さ0.2mmの位置に異質相を形成させた。このようにして外縁部の表面および内部および外周端面の表面および内部に強化処理を施したガラスディスクを準備した。
ガラス基板として、実施例1と同様の組成および実施例1と同様の寸法形状を有するドーナツ状のガラス研磨基板の表裏の両面に、実施例1と同様にして異質相を形成させた後、パルスレーザー光の収斂する位置をガラス研磨基板面表面から0.2mmの深さの位置に固定して、実施例1と同様にしてガラス研磨基板面の表裏両面から0.2mmの深さの位置の外周端部から2mm内周側までの部分および外周端面に異質相を形成させた。このようにして外周端部から2mmの外縁部表面および外周端面、外周端部から2mmの外縁部の表裏両面から深さ0.2mmの位置、および外周端面から深さ0.2mmの位置に異質相を形成させた。このようにして外縁部の表面および内部および外周端面の表面および内部に強化処理を施したガラスディスクを準備した。
(比較例)
ガラス基板として、実施例1と同様の組成および実施例1と同様の寸法形状を有するドーナツ状の形状を有するガラス研磨基板を準備した。
ガラス基板として、実施例1と同様の組成および実施例1と同様の寸法形状を有するドーナツ状の形状を有するガラス研磨基板を準備した。
これらの実施例1および2の外縁部および外周端面に強化処理を施したガラス基板、および比較例の外縁部および外周端面に強化処理を施さないガラス基板をそれぞれ1枚用いて、図3に示す構成のハードディスクドライブを作成した。すなわち、ハードディスクドライブ20のケーシング21に、読み書き用のヘッドを収納するための部材24がガラス基板の外周部に約1mmオーバーラップするようにしてガラス基板を装填し、ハードディスクドライブ20を構成した。なお、読み書き用のヘッドを移動させるスライダーは装着しなかった。次いで、図4に示すように、ハードディスクドライブ20を30cm×30cm×15mmのステンレス鋼板6上にガラス基板10がステンレス鋼板6と平行になるようにして固定した。一方、コンクリート床面7上に上面に厚さ2mmのシリコンゴム板9を貼付した厚さ30mmのステンレス鋼板8を設置しておき、その上にハードディスクドライブ20を固定したステンレス鋼板6を任意の高さHから落下させ、ガラス基板の少なくともどちらか一方が損傷する高さを測定した。この試験をガラス基板を替えて5回実施して損傷する高さを測定し、その平均値を損傷落下高さとした。これらの落下試験による損傷落下高さを表1に示す。
表1に示すように、本発明の外縁部および端面に強化部分を設けたガラス基板を組み込んで構成したハードディスクドライブは、外縁部および端面に強化部分を設けないガラス基板を組み込んで構成したハードディスクドライブよりも高い位置から落下させてより大きな衝撃強度を負荷しても損傷が生じにくい。
本発明による、ガラス基板の外縁部および端面の表面または/および内部に異質相を形成し圧縮応力を生じさせて外縁部および端面に強化処理部分を設けたガラス基板を用いたガラスディスクを組み込んで構成したハードディスクドライブは、高所からの落下などの大きな衝撃強度が負荷してもガラスディスクに損傷を生じることがなく、ハードディスクドライブを製造する時の取り扱い、製品として流通したりコンピュータ部品として使用する際に落下などの衝撃が負荷されてもガラスディスクが損傷する可能性が極めて小さく、高信頼性のハードディスクドライブとして好適に適用できる。また、ガラス基板の全面にではなく外縁部および外周端面のみに局部的に強化処理部分を設けるので、安価に強化することができる。
6 ステンレス鋼板
7 コンクリート床面
8 ステンレス鋼板
9 シリコンゴム板
10 ガラス磁気ディスク(ガラス基板)
10a ガラス基板の強化処理部分
10b ガラス基板の強化処理部分
11 ガラス基板の強化処理部分の内周側の限界
12 ガラス基板の外周端
13a ガラス基板の上面
13b ガラス基板の下面
14 外周端面
20 ハードディスクドライブ
21 ケーシング
23 ヘッドを移動させるスライダー
24 ヘッドを収納するための部材
H 落下高さ
7 コンクリート床面
8 ステンレス鋼板
9 シリコンゴム板
10 ガラス磁気ディスク(ガラス基板)
10a ガラス基板の強化処理部分
10b ガラス基板の強化処理部分
11 ガラス基板の強化処理部分の内周側の限界
12 ガラス基板の外周端
13a ガラス基板の上面
13b ガラス基板の下面
14 外周端面
20 ハードディスクドライブ
21 ケーシング
23 ヘッドを移動させるスライダー
24 ヘッドを収納するための部材
H 落下高さ
Claims (3)
- ハードディスクドライブに用いるド−ナツ状形状の磁気ディスク用ガラス基板であって、該磁気ディスク用ガラス基板の上下面の外周端から2mm内周側の位置までの部分および外周端面に、強化処理部分を設けてなることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
- ハードディスクドライブに用いるド−ナツ状形状の磁気ディスク用ガラス基板の強化方法であって、該磁気ディスク用ガラス基板の上下面の外周端から2mm内周側の位置までの部分および外周端面に、超短波長のパルスレーザー光を集光照射して磁気ディスク用ガラス基板表面および/または磁気ディスク用ガラス基板の内部に異質相を形成させて強化処理部分を設けることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の強化方法。
- 請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板を用いてなるハードディスクドライブ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005107567A JP2006286139A (ja) | 2005-04-04 | 2005-04-04 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の強化方法、およびそれを用いてなるハードディスクドライブ |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013055160A (ja) * | 2011-09-01 | 2013-03-21 | Canon Inc | 光透過性部材、光学装置およびそれらの製造方法 |
DE102020119306A1 (de) | 2020-07-22 | 2022-01-27 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Härten eines transparenten Materials |
-
2005
- 2005-04-04 JP JP2005107567A patent/JP2006286139A/ja not_active Withdrawn
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