JP2006278529A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】
本発明では、多段にGeドットを製造する場合に、Geドットが分裂せずに人為的に位置制御されたSi基板上の逆ピラミッド凹部の位置に多段にGeドットが形成される半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
Si(100)基板上にエッチングにより少なくとも4つの面に囲まれた逆ピラミッド状の凹構造を形成する第1の工程と、前記逆ピラミッド状の凹構造に凹部がなくなるようにGeを埋める第2の工程と、前記工程の後にSi層を形成する第3の工程と、前記Si層の上部でかつ下方のGeドットのある位置にGeドットを形成する第4の工程からなることを特徴とするGeドットの平面方向の位置を人為的に制御した多段構成のGeドットの製造方法を提供する。
【選択図】 図2
Description
Si上にGeを堆積すると4層程度までは薄膜としてエピタキシー成長する(成長する薄膜Geの平面方向の原子間隔が下地のSiの原子間隔に一致して成長する)が、4層程度を超えると自己組織化的にGeが集合してドットを形成する。Geドットの製造方法の1つとして、このように自己組織化成長させたGeドットが用いられる。
Si基板の表面をエッチングして、台形状(非特許文献1参照)や尾根状(非特許文献2参照)の凸構造を形成すると、台形の周辺や尾根の頂上に比較的に規則的にGeドットが並ぶ。しかし、究極的形態として2次元状に規則的にGeドットを並べる必要がある。
Si基板上にSiO2を形成し、SiO2に2次元的に規則的に窓を形成してGeを堆積し、窓の開いた位置のSi基板上に規則的にGeドットを形成する方法も提案された(非特許文献3参照)。
Si凹構造を規則的に配置することで、Geドットを基本的にその位置で形成できる。しかし、非特許文献4や非特許文献5等で提案されている凹部の中央に1段目に相当するGeドットを形成する方法では、1段目のGeドットの直上または、凹部と形成されたGeドットの間にリング状に凹部が形成される。凹部の中央に1段目のGeドットが形成された場合は、Geドットが小さいとその上部に逆台形状の凹部が形成される。この場合、薄いSi層を積層して一定温度下でGeを照射すると、逆台形状の底の淵に当るL字形状の部分に2段目のGeドットが複数形成される。リング状に凹部が形成された場合も、リング状の凹部に2段目のGeドットが複数形成され、いずれの場合も、1段目のGeドットの位置近傍に2段目のGeドットが複数形成され、1段目のGeドットの位置近傍に2段目のGeドットが分裂して形成されることが生じる。しかも、2段目のGeドットは不均一となる。本発明では、多段にGeドットを製造する場合に、Geドットが分裂せずに人為的に位置制御されたSi基板上の逆ピラミッド凹部の位置に多段にGeドットが形成される半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。
図1では第1の工程でSi(100)基板上に逆ピラミッド状の凹部を形成した基板について、正面図に図1に下に、逆ピラミッドを横断するA−A‘断面図を図1に上に示した。
p型Si(100)基板(1)の上にGeH4ガスを原料ガスとして基板温度500℃で、Geを成長した。Geは表面泳動も加わり逆ピラミッド状の凹部を埋め、GeH4ガスの照射量を調整することで、逆ピラミッド状の凹部を埋めたGeが盛り上がる程度でGeを成長を停止した(2)。逆ピラミッド間では、Geの表面泳動も加わりGeドットは形成されない。この上方に、Si2H6ガスを原料として、基板温度600℃でSi薄膜(3)を成長した。その後、再びGeH4ガスを原料ガスとして基板温度500℃で、Geを成長し、Geドット(4)を形成した。前記Si薄膜とGeドットの成長を9回繰り返し、9段の多段Geドットアレイを形成した。最後に、n型Siキャップ層(5)を形成した。n型にドーピングするために、Siキャップ層の成長にはSi2H6ガスとPH3ガスを用いた。
比較の為に、第1工程でGeを平坦に埋めない場合についての断面図を図3に示す。Si(100)基板上(6)に、Geが平坦に埋まらないようにGeを埋める(7)。その後、薄いSi層(8)を形成すると、逆ピラミッドの上部に逆台形状の凹部が形成される。その後Geドットを形成するとGeドットは分裂された形(9)で形成される。したがって、図2に示した本発明による方法がGeドットの位置制御に有効であることが判る。
2.逆プラミッド状の凹部を埋めたGe
3.挿入したSi層
4.形成されたGeドット
5.Siキャップ層
6.Si(100)基板
7.逆プラミッド状の凹部に形成したGeドット
8.挿入したSi層
9.形成された分裂したGeドット
Claims (4)
- シリコン基板上にエッチングにより少なくとも4つの面に囲まれた逆ピラミッド状の凹構造を形成する第1の工程と、前記逆ピラミッド状の凹構造に凹部がなくなるようにゲルマニウムを埋める第2の工程と、前記工程の後にシリコン層を形成する第3の工程と、前記シリコン層の上部でかつ下方のゲルマニウムドットのある位置にゲルマニウムドットを形成する第4の工程からなることを特徴とする多段構成の半導体装置の製造方法。
- 第3の工程と第4の工程を繰り返すことで、ゲルマニウムドットを多段に重ねたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 第1の工程と第2の工程の間にシリコン層を形成する工程を挿入したことを特徴とする請求項1乃至2のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
- 第1の工程のエッチング法としてウェットエッチング法を用いたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005092673A JP4834828B2 (ja) | 2005-03-28 | 2005-03-28 | 半導体装置の製造方法 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008060475A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Univ Of Electro-Communications | 量子半導体デバイスおよびその製造方法 |
WO2008044731A1 (fr) | 2006-10-12 | 2008-04-17 | Institute Of Medicinal Molecular Design. Inc. | Dérivé d'acide n-phényloxamidique |
JP2012526395A (ja) * | 2009-05-04 | 2012-10-25 | エンパイア テクノロジー ディベロップメント エルエルシー | 制御された量子ドット成長 |
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2005
- 2005-03-28 JP JP2005092673A patent/JP4834828B2/ja active Active
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WO2008044731A1 (fr) | 2006-10-12 | 2008-04-17 | Institute Of Medicinal Molecular Design. Inc. | Dérivé d'acide n-phényloxamidique |
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US8598566B2 (en) | 2009-05-04 | 2013-12-03 | Empire Technology Development Llc | Controlled quantum dot growth |
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