JP2006278375A - 乾燥装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 乾燥装置1は外箱3を有し、外箱3の底面にはホットプレート5が設けられている。
ホットプレート5上にはリフトピン11a、11b、11c、11d、11e、11fが設けられており、これらは図示しないアクチュエータ等によって上下に移動可能である。
さらにホットプレート5上には可動ピン12a、12b、12c、12d、12e、12f、12g、12h、12iが設けられている。
可動ピン12a、12b、12c、12d、12e、12f、12g、12h、12iの裏面には磁石が設けられており、ホットプレート5上の任意の位置に固定可能である。
【選択図】 図8
Description
特に、携帯電話やノート型パーソナルコンピュータの普及により、これらの表示装置に求められるカラー液晶ディスプレイの精細さの向上には著しいものがある。
このような処理を行った基板表面にインクを吹きつけると、親インク性面にのみインクが定着するため、所望の着色層のパターンを形成することができる。
このとき、基板を直接ホットプレート上に載置すると、基板の裏面の汚染、急激な加熱によりガラスにヒビが入る、ホットプレート定盤上の模様やリフトピン口がムラとなって転写される等の問題があるため、ピン等を用いて基板を浮かせる必要がある。
このような方法としては、以下のようなものが知られている。
(特許文献1)。
前記可動ピンは、前記ホットプレートと固定する磁石を有してもよい。
前記可動ピンは支持点が一点であってもよい。
前記可動ピンは、接触面積が最小となるような形状を有してもよい。
前記基板は、パターンが描画された描画部と、パターンが描画されていない非描画部と、を有し、前記可動ピンは前記基板の非描画部の裏面と接触するように前記ホットプレート上に設置されてもよい。
前記ホットプレートには、複数のリフトピンが上下に移動可能に設けられていてもよい。
最初に、図1を用いてカラーフィルタ用の基板71の着色工程の概略を説明する。
また、図4は基板71にコーティング液19aを塗布して形成したコーティング層19の乾燥工程を示す図、図5は基板71の水洗工程を示す図、図6は基板71の露光工程を示す図であり、図7は基板71へのインクの吹き付け工程を示す図である。
コーティング液19aの具体例については後述する。
次に、図1に示すように、基板71上に塗布したコーティング層19を焼成する(ステップ103)。
なお、この状態では、コーティング層19の表面はインクを弾く撥インク性を有している。
水洗を行う目的は、基板71上に付着したゴミを除去し、後述する露光の際の、ゴミによる点欠陥を除去するためである。
この際、基板71の裏面、即ちガラス基板73側から紫外線89を照射するため、遮光部となるブラックマトリクス75a、75b、75c、75dの上部に塗布されたコーティング層19には紫外線89が当たらず、この部分は撥インク性を有する撥インク部87a、87b、87c、87dのままである。
この際、図7に示すように、撥インク部87a、87b、87c、87dは撥インク性を有するためカラーインク91a、91b、91cは濡れ広がらず、親インク部85a、85b、85cのみにインクは濡れ広がり、着色層が形成される。
コーティング液19aは2種類の溶液を混合してなる溶液であり、一方の溶液は少なくとも酸化チタンとアルキルシリケートを含有する溶液であり、他方の溶液は少なくともポリシロキサンを含有する溶液である。
本実施形態においては、光の照射により生じた活性酸素が、撥インク性を発現させる有機物を分解するため、親インク性に変化させる。
酸化チタンにはアナタ−ゼ型とルチル型があり、本実施形態ではいずれも使用可能であるが、アナタ−ゼ型を使用するのが好ましい。
これは、アルキルシリケートの配合量が、上記範囲より少ないと分散安定性が低下しやすく、逆に上記範囲より多いと、酸化チタンの光触媒機能が低下するからである。
この撥インク性を有する置換基が、ポリシロキサンを構成するSi原子に直接結合していることから、コーティング液を塗布してパターン形成層を形成した際に、パターン形成層の表面が全面撥インク性を発現する。
Yn SiX(4−n)
(ここでYはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、またはエポキシ基を示し、Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの整数である)で示されるケイ素化合物の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であることが好ましく、上記2種類以上のケイ素化合物同士の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であってもよい。
CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH3)3;
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3;
CF3(CF2)9CH2CH2Si(OCH3)3;
(CF3)2CF(CF2)4CH2CH2Si(OCH3)3;
(CF3)2CF(CF2)6CH2CH2Si(OCH3)3;
(CF3)2CF(CF2)8CH2CH2Si(OCH3)3;
CF3(C6H4)C2H4Si(OCH3)3;
CF3(CF2)3(C6H4)C2H4Si(OCH3)3;
CF3(CF2)5(C6H4)C2H4Si(OCH3)3;
CF3(CF2)7(C6H4)C2H4Si(OCH3)3;
CF3(CF2)3CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)5CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)7CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)9CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
(CF3)2CF(CF2)4CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
(CF3)2CF(CF2)6CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
(CF3)2CF(CF2)8CH2CH2SiCH3(OCH3)2;
CF3(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)2;
CF3(CF2)3(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)3;
CF3(CF2)5(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)3;
CF3(CF2)7(C6H4)C2H4SiCH3(OCH3)3;
CF3(CF2)3CH2CH2Si(OCH2CH3)3;
CF3(CF2)5CH2CH2Si(OCH2CH3)3;
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH2CH3)3;
CF3(CF2)9CH2CH2Si(OCH2CH3)3;および
CF3(CF2)7SO2N(C2H5)C2H4CH2Si(OCH3)3。
図8は本実施形態に係る乾燥装置1を示す斜視図であって、図9は可動ピン12aの拡大図である。また、図10は図9の断面図である。
外箱3の1つの側面には吸気口6a、6b、6cが設けられており、吸気口6a、6b、6cが設けられた面と反対側の側面には排気口7a、7b、7cが設けられている。
図10に示すようにボール15aは本体13aに対して回転できるように設けられている。
なお、可動ピン12b、12c、12d、12e、12f、12g、12h、12iの構造は、可動ピン12aと同様であるため、説明を省略する。
なお、ホットプレート5の表面は鋼板であり、可動ピン12a、12b、12c、12d、12e、12f、12g、12h、12iは底面に設けられた磁石によってホットプレート5の任意の位置に固定される。
吸気口6a、6b、6cおよび排気口7a、7b、7cは、乾燥装置1内の換気に用いられる。
リフトピン11a、11b、11c、11d、11e、11fは後述するように、乾燥装置1に基板71を出し入れする際に基板71を一時的に保持する。
可動ピン12a、12b、12c、12d、12e、12f、12g、12h、12iは、後述するように基板を乾燥する際に基板71を保持する。
図11は基板71を乾燥装置から出し入れする際の図、図12は図11の側面図である。
また、図13は基板71を乾燥する際の図であり、図14は図13の側面図である。また、図15は図13の底面図である。なお、各図とも外箱3の表記を省略してある。
なお、この際、リフトピン11a、11b、11c、11d、11e、11fは可動ピン12a、12b、12c、12d、12e、12fよりも高い位置に上昇させておく。
なお、図15に示すように、基板71にはブラックマトリクス等が描画された描画部21a、21b、21c、21dと、ブラックマトリクス等が描画されていない非描画部21eとが設けられているが、可動ピン12a、12b、12c、12d、12e、12f、12g、12h、12iは、非描画部21eの裏面に接触するように設けられる。
したがって、基板71の種類に応じて可動ピン12a、12b、12c、12d、12e、12f、12g、12h、12iの位置を基板に応じて変更することができる。
従って、基板の大きさや形状によらず容易に基板71を乾燥できる。
また、基板上に遮光部を設けて、基板、遮光部、及び、感光層が一体となった例について説明してきたが、感光層付基板と遮光部が別体となっていてもよく、また、遮光部はブラックマトリクス以外にも、ストライプ状でも曲線状であってもよい。
さらにまた、可動ピンの底面積を増やすことでピンの安定化を図ってもよく、その場合、例えば、ワッシャを可動ピンに接着してもよい。
3…………外箱
5…………ホットプレート
6a………吸気口
7a………排気口
9…………シャッタ
11a……リフトピン
12a……可動ピン
21a……描画部
21e……非描画部
Claims (6)
- コーティング液が塗布された基板を乾燥する乾燥装置であって、
ホットプレートと、
前記ホットプレート上に着脱可能に設けられ、前記基板を保持する複数の可動ピンと、
を有することを特徴とする乾燥装置。 - 前記可動ピンは、前記ホットプレートと固定する磁石を有することを特徴とする請求項1記載の乾燥装置。
- 前記可動ピンは支持点が一点であることを特徴とする請求項1記載の乾燥装置。
- 前記可動ピンは、接触面積が最小となるような形状を有することを特徴とする請求項1記載の乾燥装置。
- 前記基板は、
パターンが描画された描画部と、
パターンが描画されていない非描画部と、
を有し、
前記可動ピンは前記基板の非描画部の裏面と接触するように前記ホットプレート上に設置されることを特徴とする請求項1記載の乾燥装置。 - 前記ホットプレートには、複数のリフトピンが上下に移動可能に設けられていることを特徴とする請求項1記載の乾燥装置。
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