JP2006277668A - レイアウト設計方法及びレイアウト設計装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000013461 design Methods 0.000 claims abstract description 40
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 9
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
- H01L27/0207—Geometrical layout of the components, e.g. computer aided design; custom LSI, semi-custom LSI, standard cell technique
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
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Abstract
【解決手段】マクロセルに配置補助領域を設定し(ステップ23)、コア領域からマクロセル及び配置補助領域を除く最大スタンダードセル領域の面積を算出し(ステップ25)、複数のマクロセルを配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し(ステップ27)、最大スタンダードセル領域の面積とスタンダードセル領域面積とに基づいてフロアプランにおけるデッドスペース率を算出する(ステップ28)。そして、そのデッドスペース率に基づいてマクロセルの配置を変更するか否かを判断する(ステップ29)。そして、デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいてデッドスペース率を基準値以下とするようにフロアプランのマクロセルの配置を変更する(ステップ26)。
【選択図】 図1
Description
近年、半導体集積回路装置(LSI)は、大規模化が進んでおり、それに伴って設計期間も益々増大している。設計期間の短縮を図るには、設計フローでの手戻り工程を如何に少なくするかが重要であり、それにはレイアウト設計においてフロアプランの最適な設計を行うことが要求される。
図2は、レイアウト処理を実行するコンピュータシステム11の概略構成図である。
このコンピュータ11は、一般的なCAD(Computer Aided Design )装置からなり、中央処理装置(以下、CPUという)12、メモリ13、記憶装置14、表示装置15、入力装置16、及び、ドライブ装置17により構成され、それらはバス18を介して相互に接続されている。
図1は、本実施形態の半導体装置のレイアウト処理の概略を示すフローチャートである。図2のCPU12は、図1に示すステップ21〜ステップ32に従ってレイアウト処理を実行し、LSIのレイアウトデータを生成する。つまり、CPU12は、ステップ21〜ステップ32の処理を実行することで、配置補助領域算出手段,最大スタンダードセル領域算出手段,実スタンダードセル領域算出手段,デッドスペース算出手段,デッドスペース判定手段,フロアプラン実施手段として機能する。
最大スタンダードセル領域=Lcorex×Lcorey−Σ(Hx×Hy)
=Lcorex×Lcorey−Σ((Mx+L1+L2)×(My+L3+L4))
を演算する。そして、CPU12は、演算結果をメモリ13に格納する。
Sd0=Smax −Sf
Rd0=Sd0/Smax
により算出する。
図4に示すように、LSIは、6個のマクロセルM1〜M6と、図示しない複数のスタンダードセルとを含み、CPU12は、コア領域51にマクロセルM1〜M6及びスタンダードセルを配置する。CPU12は、図1に示すステップ23において各マクロセルM1〜M6に配置補助領域H1〜H6を設定する。次に、CPU12は、ステップ24においてコア領域51のサイズ(Lcorex,Lcorey)を算出する。
(1)マクロセルM1〜M6に配置補助領域H1〜H6を設定し、コア領域51からマクロセルM1〜M6及び配置補助領域H1〜H6を除く最大スタンダードセル領域52の面積を算出し、複数のマクロセルM1〜M6を配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し、最大スタンダードセル領域の面積とスタンダードセル領域面積とに基づいてフロアプランにおけるデッドスペース率を算出する。そして、そのデッドスペース率に基づいてマクロセルM1〜M6の配置を変更するか否かを判断するようにした。従って、マクロセルM1〜M6を配置した段階でフロアプランの状態が判断され、スタンダードセルを配置するまえにフロアプランの変更を行うことができる。このため、マクロセルM1〜M6のサイズを考慮した設計ループが小さくなり、設計の戻りが少なくなるため、スタンダードセルを配置した後にフロアプランを変更する場合に比べて短時間でフロアプランの決定を行うことができる。また、デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいてデッドスペース率を基準値以下とするようにフロアプランのマクロセルの配置を変更することで、コア領域のサイズを大きくすることなくレイアウトを設計することができる。
51,51a,51b コア領域
52 最大スタンダードセル領域
Ma,M1〜M6 マクロセル
Ha,H1〜H6 配置補助領域
K1,K2 配置禁止領域
Rd0 デッドスペース率
Rth 基準値
Sd0 デッドスペース量
Claims (8)
- 複数のマクロセルを含む半導体集積回路装置のレイアウトデータをコンピュータにて自動生成するレイアウト設計方法であって、
前記各マクロセルに配置補助領域を設定し記憶手段に記憶するステップと、
コア領域から前記マクロセル及び配置補助領域を除く最大スタンダードセル領域の面積を算出し、該最大スタンダードセル領域の面積を記憶手段に記憶するステップと、
前記複数のマクロセルを配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し、該実スタンダードセル領域の面積を記憶手段に記憶するステップと、
前記記憶手段に記憶した最大スタンダードセル領域の面積と前記実スタンダードセル領域の面積とを読み出し、両面積に基づいて前記フロアプランにおけるデッドスペース率を算出するステップと、
前記デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいて前記デッドスペース率を前記基準値以下とするように前記フロアプランのマクロセルの配置をコンピュータが変更するステップと、
を備えたことを特徴とするレイアウト設計方法。 - 前記フロアプラン結果に基づいて、前記マクロセル間の極狭領域を、スタンダードセルが自動配置されない配置禁止領域に設定し、前記マクロセルと配置補助領域と前記配置禁止領域のサイズに基づいて前記実スタンダードセル領域を算出することを特徴とする請求項1記載のレイアウト設計方法。
- 前記デッドスペース率を算出するステップにおいて、前記最大スタンダードセル領域と前記実スタンダードセル領域の面積とからデッドスペース量を算出し、該デッドスペース量と前記最大スタンダードセル領域とから前記デッドスペース率を算出することを特徴とする請求項1又は請求項2記載のレイアウト設計方法。
- 信号配線の混雑度、タイミング条件の少なくとも一方に基づいて前記マクロセルの配置位置を決定することを特徴とする請求項1,請求項2又は請求項3記載のレイアウト設計方法。
- 複数のマクロセルを含む半導体集積回路装置のレイアウトデータを自動生成するレイアウト設計装置であって、
前記各マクロセルに配置補助領域を設定し記憶手段に記憶する配置補助領域算出手段と、
コア領域から前記マクロセル及び配置補助領域を除く最大スタンダードセル領域の面積を算出し、該最大スタンダードセル領域の面積を記憶手段に記憶する最大スタンダードセル領域算出手段と、
前記複数のマクロセルを配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し、該実スタンダードセル領域の面積を記憶手段に記憶する実スタンダードセル領域算出手段と、
前記記憶手段に記憶した最大スタンダードセル領域の面積と前記実スタンダードセル領域の面積とを読み出し、両面積に基づいて前記フロアプランにおけるデッドスペース率を算出するデッドスペース算出手段と、
前記デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいて前記マクロセルの配置変更が必要か否かを判定するデッドスペース判定手段と、
前記デッドスペース判定手段の判定結果に基づき、前記デッドスペース率を前記基準値以下とするように前記フロアプランのマクロセルの配置をコンピュータが変更するフロアプラン実施手段と、
を備えたことを特徴とするレイアウト設計装置。 - 前記フロアプラン実施手段は、前記マクロセル間の極狭領域を、スタンダードセルが自動配置されない配置禁止領域に設定し、
前記実スタンダードセル領域算出手段は、前記マクロセルと配置補助領域と前記配置禁止領域のサイズに基づいて前記実スタンダードセル領域を算出する、
ことを特徴とする請求項5記載のレイアウト設計装置。 - 前記デッドスペース算出手段は、前記最大スタンダードセル領域と前記実スタンダードセル領域の面積とからデッドスペース量を算出し、該デッドスペース量と前記最大スタンダードセル領域とから前記デッドスペース率を算出することを特徴とする請求項5又は請求項6記載のレイアウト設計装置。
- 前記フロアプラン実施手段は、信号配線の混雑度、タイミング条件の少なくとも一方に基づいて前記マクロセルの配置位置を決定する、
ことを特徴とする請求項5,請求項6又は請求項7記載のレイアウト設計装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005099939A JP2006277668A (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | レイアウト設計方法及びレイアウト設計装置 |
US11/156,668 US7185303B2 (en) | 2005-03-30 | 2005-06-21 | Method and apparatus for laying out cells in a semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005099939A JP2006277668A (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | レイアウト設計方法及びレイアウト設計装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006277668A true JP2006277668A (ja) | 2006-10-12 |
Family
ID=37072114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005099939A Pending JP2006277668A (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | レイアウト設計方法及びレイアウト設計装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7185303B2 (ja) |
JP (1) | JP2006277668A (ja) |
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- 2005-03-30 JP JP2005099939A patent/JP2006277668A/ja active Pending
- 2005-06-21 US US11/156,668 patent/US7185303B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7185303B2 (en) | 2007-02-27 |
US20060225016A1 (en) | 2006-10-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090915 |