JP2006277668A - レイアウト設計方法及びレイアウト設計装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】設計期間の短縮が可能なレイアウト設計方法を提供すること。
【解決手段】マクロセルに配置補助領域を設定し(ステップ23)、コア領域からマクロセル及び配置補助領域を除く最大スタンダードセル領域の面積を算出し(ステップ25)、複数のマクロセルを配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し(ステップ27)、最大スタンダードセル領域の面積とスタンダードセル領域面積とに基づいてフロアプランにおけるデッドスペース率を算出する(ステップ28)。そして、そのデッドスペース率に基づいてマクロセルの配置を変更するか否かを判断する(ステップ29)。そして、デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいてデッドスペース率を基準値以下とするようにフロアプランのマクロセルの配置を変更する(ステップ26)。
【選択図】 図1

Description

本発明は、レイアウト設計方法及びレイアウト設計装置に関するものである。
近年、半導体集積回路装置(LSI)は、大規模化が進んでおり、それに伴って設計期間も益々増大している。設計期間の短縮を図るには、設計フローでの手戻り工程を如何に少なくするかが重要であり、それにはレイアウト設計においてフロアプランの最適な設計を行うことが要求される。
従来、LSIの設計では、論理合成により得られたネットリストに基づいてフロアプランを行い、それに基づいてセルの配置/配線(レイアウト)を行った後、そのレイアウトに対する回路シミュレーションを行って動作の検証を行う。この検証により、そのチップレイアウトが信号や電源の信頼性を保証できる程度であるか否かを判断する。
多くのLSIは、スタンダードセルとマクロセルとから構成され、マクロセル及びスタンダードセルを配置してLSIのフロアプラン(レイアウト)が決定される。大規模なLSIには、100個以上のマクロセルが使用される。マクロセルは、配線性や、タイミング収束性を考慮し相対的な位置や回転が決められる(例えば、特許文献1参照)。スタンダードセルは、マクロセル以外の領域(スタンダードセル領域)に配置される。
チップサイズはマクロセルの大きさと無関係に決定されているため、マクロセルとマクロセルに挟まれた領域が生じることがある。この領域(極狭領域)にスタンダードセルが置かれると、信号ネットの回り込み(迂回ネット)が起こり、配線性やタイミング収束性が悪化される。このため、マクロセル間の極狭領域は、スタンダードセルが自動配置されないように配置禁止領域(デッドスペース)に設定される。
特開2004−13205号公報
しかしながら、上記のようにデッドスペースを設定すると、スタンダードセルの配置が可能な領域が小さくなるため、全てのスタンダードセルを配置することができなかったり、マクロセル及びスタンダードセルを接続する配線を形成する領域(配線領域)が少なくなって未結線ネットが生じることがある。また、スタンダードセルの配置位置によっては、信号ネットの回り込みが生じ、タイミング不良を生じることがある。この場合、マクロセルの配置からやり直さなければならない。即ち、マクロセルの配置、スタンダードセルの配置、配線、タイミング検証を繰り返さなければならない。各処理には長い時間がかかる。つまり、デッドスペースにスタンダードセルを配置すること、デッドスペースを設定することが配線性やタイミング収束性を悪化させる。このため、設計期間が増加したり、チップサイズが大きくなるという問題があった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、設計期間の短縮が可能なレイアウト設計方法及びレイアウト設計装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明によれば、各マクロセルに配置補助領域を設定し、コア領域からマクロセル及び配置補助領域を除く最大スタンダードセル領域の面積を算出し、複数のマクロセルを配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し、最大スタンダードセル領域の面積とスタンダードセル領域面積とに基づいてフロアプランにおけるデッドスペース率を算出する。そして、そのデッドスペース率に基づいてマクロセルの配置を変更するか否かを判断するようにした。従って、マクロセルを配置したフロアプランの状態が判断され、スタンダードセルを配置するまえにフロアプランの変更を行うことができる。このため、マクロセルのサイズを考慮した設計ループが小さくなり、設計の戻りが少なくなるため、スタンダードセルを配置した後にフロアプランを変更する場合に比べて短時間でフロアプランの決定を行うことができる。また、デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいてデッドスペース率を基準値以下とするようにフロアプランのマクロセルの配置を変更することで、コア領域のサイズを大きくすることなくレイアウトを設計することができる。
請求項2に記載の発明によれば、フロアプラン結果に基づいて、マクロセル間の極狭領域が、スタンダードセルが自動配置されない配置禁止領域に設定され、マクロセルと配置補助領域と配置禁止領域のサイズに基づいて実スタンダードセル領域を算出される。配置禁止領域はデッドスペースであり、デッドスペース率を小さくする、例えば配置禁止領域が生じないようにマクロセルの配置を変更することで、実スタンダードセル領域の面積を大きくし、スタンダードセルの配置を容易にする、つまりスタンダードセルの配置品質を向上させることができる。
請求項3に記載の発明のように、デッドスペース率を算出するステップにおいて、最大スタンダードセル領域と実スタンダードセル領域の面積とからデッドスペース量を算出し、該デッドスペース量と最大スタンダードセル領域とからデッドスペース率を算出する。
請求項4に記載の発明によれば、信号配線の混雑度、タイミング条件の少なくとも一方に基づいてマクロセルの配置位置が決定される。従って、配線やタイミングの収束性がよいマクロセルの配置を行うことができる。
請求項5に記載の発明によれば、各マクロセルに配置補助領域を設定し、コア領域からマクロセル及び配置補助領域を除く最大スタンダードセル領域の面積を算出し、複数のマクロセルを配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し、最大スタンダードセル領域の面積とスタンダードセル領域面積とに基づいてフロアプランにおけるデッドスペース率を算出する。そして、そのデッドスペース率に基づいてマクロセルの配置を変更するか否かを判断するようにした。従って、マクロセルを配置したフロアプランの状態が判断され、スタンダードセルを配置するまえにフロアプランの変更を行うことができる。このため、マクロセルのサイズを考慮した設計ループが小さくなり、設計の戻りが少なくなるため、スタンダードセルを配置した後にフロアプランを変更する場合に比べて短時間でフロアプランの決定を行うことができる。また、デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいてデッドスペース率を基準値以下とするようにフロアプランのマクロセルの配置を変更することで、コア領域のサイズを大きくすることなくレイアウトを設計することができる。
請求項6に記載の発明によれば、フロアプラン結果に基づいて、マクロセル間の極狭領域が、スタンダードセルが自動配置されない配置禁止領域に設定され、マクロセルと配置補助領域と配置禁止領域のサイズに基づいて実スタンダードセル領域を算出される。配置禁止領域はデッドスペースであり、デッドスペース率を小さくする、例えば配置禁止領域が生じないようにマクロセルの配置を変更することで、実スタンダードセル領域の面積を大きくし、スタンダードセルの配置を容易にする、つまりスタンダードセルの配置品質を向上させることができる。
請求項7に記載の発明のように、デッドスペース率を算出するステップにおいて、最大スタンダードセル領域と実スタンダードセル領域の面積とからデッドスペース量を算出し、該デッドスペース量と最大スタンダードセル領域とからデッドスペース率を算出する。
請求項8に記載の発明によれば、信号配線の混雑度、タイミング条件の少なくとも一方に基づいてマクロセルの配置位置が決定される。従って、配線やタイミングの収束性がよいマクロセルの配置を行うことができる。
以上記述したように、本発明によれば、設計期間の短縮が可能なレイアウト設計方法及びレイアウト設計装置を提供することができる。
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図2は、レイアウト処理を実行するコンピュータシステム11の概略構成図である。
このコンピュータ11は、一般的なCAD(Computer Aided Design )装置からなり、中央処理装置(以下、CPUという)12、メモリ13、記憶装置14、表示装置15、入力装置16、及び、ドライブ装置17により構成され、それらはバス18を介して相互に接続されている。
CPU12は、メモリ13を利用してプログラムを実行し、レイアウト設計等の必要な処理を実現する。メモリ13には、各種処理を提供するために必要なプログラムとデータが格納され、メモリ13としては、通常、キャッシュ・メモリ、システム・メモリおよびディスプレイ・メモリを含む。
表示装置15は、レイアウト表示、パラメータ入力画面等の表示に用いられ、これにはCRT,LCD,PDP等が用いられる。入力装置16は、ユーザからの要求や指示,パラメータの入力に用いられ、これにはキーボードおよびマウス装置(図示せず)等が用いられる。
記憶装置14は、通常、磁気ディスク装置、光ディスク装置、光磁気ディスク装置を含む。この記憶装置14には、図1に示す各ステップからなる半導体装置(半導体集積回路装置)のレイアウト設計処理のためのプログラムデータとファイル41〜47が格納され、CPU12は、入力装置16による指示に応答してプログラム,データをメモリ13へ転送し、それを実行する。
CPU12が実行するプログラムデータは、記録媒体19にて提供される。ドライブ装置17は、記録媒体19を駆動し、その記憶内容にアクセスする。CPU12は、ドライブ装置17を介して記録媒体19からプログラムデータを読み出し、それを記憶装置14にインストールする。
記録媒体19としては、磁気テープ(MT)、メモリカード、フレキシブルディスク、光ディスク(CD-ROM,DVD-ROM,… )、光磁気ディスク(MO,MD,…)等、任意のコンピュータ読み取り可能な記録媒体を使用することができる。この記録媒体19に、上述のプログラム,データを格納しておき、必要に応じて、メモリ13にロードして使用することもできる。
尚、記録媒体19には、通信媒体を介してアップロード又はダウンロードされたプログラムデータを記録した媒体、ディスク装置を含む。更に、コンピュータによって直接実行可能なプログラムを記録した記録媒体だけでなく、いったん他の記録媒体(ハードディスク等)にインストールすることによって実行可能となるようなプログラムを記録した記録媒体や、暗号化されたり、圧縮されたりしたプログラムを記録した記録媒体も含む。
次に、半導体装置のレイアウト設計処理を、図1に従って説明する。
図1は、本実施形態の半導体装置のレイアウト処理の概略を示すフローチャートである。図2のCPU12は、図1に示すステップ21〜ステップ32に従ってレイアウト処理を実行し、LSIのレイアウトデータを生成する。つまり、CPU12は、ステップ21〜ステップ32の処理を実行することで、配置補助領域算出手段,最大スタンダードセル領域算出手段,実スタンダードセル領域算出手段,デッドスペース算出手段,デッドスペース判定手段,フロアプラン実施手段として機能する。
先ず、ステップ21(レイアウト条件決定処理)において、図2に示すCPU12は、入力装置16又は図示しないファイルから入力したLSIの仕様データに基づいて、テクノロジ(配線幅等)や配線層数等のレイアウト条件を決定する。仕様データは、所定の信号を伝達する配線に対する配線長の制限、タイミング条件を含む。
ステップ22(論理合成処理)において、CPU12は、ステップ21において決定したレイアウト条件とセルライブラリ41と設計データ42に基づいてネットリスト43を生成する。セルライブラリ41は、複数のマクロセル及びスタンダードセルの情報を含むデータベースである。マクロセル及びスタンダードセルの情報は、サイズ、構成、端子位置、電気的特性を含む。設計データ42は、例えばハードウェア記述言語を用いて回路の動作を記述したものである。ネットリスト43は、回路を構成するマクロセル及びスタンダードセル(名称)、及びそれらを接続するネット情報を含む。尚、セルライブラリ41,設計データ42,ネットリスト43、後述する各ファイルは例えば図2の記憶装置14に作成される。
ステップ23(配置補助領域算出処理)において、CPU12は、マクロセルの辺のうちの少なくとも1つに、LSIに搭載されるマクロセルの種類毎、又はマクロセル毎に一定長の配置補助領域を設定する。図3には、マクロセルMaの周辺に沿って、該マクロセルMaを囲むように設定した配置補助領域Haを示す。図3において、配置補助領域Haは、マクロセルMaに対して、図の左右方向(x方向)においてそれぞれ幅L1,L2を持ち、上下方向(y方向)においてそれぞれ幅L3,L4を持つ。これらの幅L1〜L4は、マクロセルとスタンダードセルの隣接距離又は、マクロセル周りの電源配線と信号配線のリソース(配線チャネル)を考慮した値に設定されている。つまり、CPU12は、マクロセルMaを含み、そのマクロセルMaの領域よりも、マクロセルとスタンダードセルの隣接距離又は、マクロセル周りの電源配線と信号配線のリソース(配線チャネル)を考慮した大きな配置用領域Mhを設定する。そして、CPU12は、設定した領域の情報(幅L1〜L4、サイズ(マクロセルMaのサイズを(Mx、My)とした場合、配置用領域Mhのサイズ(Hx、Hy)は、(Hx=Mx+L1+L2,Hy=My+L3+L4))をメモリ13に格納する。
尚、マクロセルの種類毎に個別の値を設定してもよいし、マクロセル毎に個別の値を設定してもよい。また、対向する辺のそれぞれに配置補助領域Haを設定したが、対向する辺の一方に配置補助領域Haを設定しても良い。この場合、配置補助領域Haの幅は、Lx=L1+L2,Ly=L3+L4となる。
ステップ24(コア領域算出処理)において、CPU12は、コア領域(スタンダードセルのレイアウト領域)をサイズを算出し、チップサイズ(Lcorex,Lcorey)を確定する。この時、CPU12は、例えば特願2003−303495の明細書及び図面に記載されたコアサイズの見積り方法を用い、コア領域のサイズを算出する。そして、CPU12は、算出したコア領域のサイズをファイル44に格納する。
ステップ25(最大スタンダードセル領域算出)において、CPU12は、最大スタンダードセル領域を求める。この最大スタンダードセル領域は、ファイル44に格納したコア領域のサイズ(面積)から配置用領域の面積を除いた面積である。即ち、CPU12は、チップサイズ(Lcorex,Lcorey)と、各マクロセルに対応する配置用領域Mhのサイズ(Hx,Hy)とから、
最大スタンダードセル領域=Lcorex×Lcorey−Σ(Hx×Hy)
=Lcorex×Lcorey−Σ((Mx+L1+L2)×(My+L3+L4))
を演算する。そして、CPU12は、演算結果をメモリ13に格納する。
ステップ26(フロアプラン実施処理)において、CPU12は、ステップ24において決定したサイズのコア領域に対してフロアプランを実施する。このフロアプランの実施には、マクロセルの配置、電源配線の配置を含む。配線性や、タイミング収束性によりマクロセルの配置位置を決定する。CPU12は、信号配線の混雑度、タイミング条件に基づいてマクロセルを配置する。例えば、CPU12は、信号配線の密度が高くなりすぎないようにマクロセルの配置を決定し、所定の信号を伝達する配線の長さ、信号のタイミング条件に従って、その信号を伝達する配線にて接続されるマクロ同士を近接位置に配置する。更に、CPU12は、マクロセル間の極狭領域を、スタンダードセルが自動配置されないように配置禁止領域(デッドスペース)に設定する。そして、CPU12は、実施結果、即ちLSIのレイアウトデータをファイル45に格納する。
ステップ27(実スタンダードセル領域算出処理)において、CPU12は、ステップ26において決定されたマクロセルの配置位置、配置禁止領域をファイル45から読み出し、マクロセルの配置位置、配置禁止領域から、スタンダードセルが配置可能な領域の大きさ(面積)を算出する。そして、CPU12は、その算出結果をメモリ13に格納する。
尚、上記の処理におけるステップ25とステップ26,27は、並列的に示されている。即ち、CPU12は、マルチスレッド等の手法やマルチCPU等の構成により、ステップ25とステップ26,27を並列的に実行する。尚、ステップ25〜27を直列的に実行しても良い。また、ステップ25〜27は、これに限定されず、例えばステップ26をステップ25より先行して実施しても良い。
ステップ28(デッドスペース算出処理)において、CPU12は、ステップ25において算出した最大スタンダードセル領域の面積と、ステップ27において算出した実スタンダードセル領域の面積とをメモリ13から読み出し、それらの面積に基づいてデッドスペース量及びデッドスペース率を算出する。CPU12は、最大スタンダードセル領域の面積をSmax 、フロアプラン実施後のスタンダードセル領域の面積をSf とし、デッドスペース量Sd0、デッドスペース率Rd0を、
Sd0=Smax −Sf
Rd0=Sd0/Smax
により算出する。
ステップ29(デッドスペース判定処理)において、CPU12は、ステップ28において算出したデッドスペース率が基準値を下回るか検証する。基準値Rthは、過去の配置配線結果やシミュレーション等により、スタンダードセルの配置と配線が可能な値に設定されている。CPU12は、デッドスペース率Rd0と基準値Rthとを比較し、デッドスペース率Rd0が基準値Rthを超えた時、ステップ26に戻り、フロアプランを変更する、即ちマクロセルの位置や配置方向を変更(マクロセルの回転)したレイアウトデータを生成し、そのレイアウトデータに基づくデッドスペース率Rd0を算出する。そして、CPU12は、デッドスペース率Rd0が基準値Rth以下であれば基準を満足しているとして次のステップに移行する。
即ち、CPU12は、ステップ26〜29の処理を繰り返し実行することで、デッドスペース率Rd0が基準値Rthを越えないようにマクロセルの配置位置・配置方向を変更する。この処理ループは、エリアを重視してマクロセルの配置を行うループであり、スタンダードセルの配置や信号配線、タイミング検証を含まないため、処理負荷が少なく、短時間で複数回のループを実施することができる。尚、マクロセルの配置位置・配置方向の変更に伴って電源配線の配置を変更することは言うまでもない。
ステップ30(簡易配置配線処理)において、CPU12は、フロアプラン後の実質的なスタンダードセル領域にスタンダードセルを簡易的に配置し、マクロセル、スタンダードセル等を接続する配線の位置を決定する。このステップ30における配置配線処理は、後述するステップ32における配置配線処理比べて概略的である。例えば、CPU12は、複数のスタンダードセルを1つのまとまり(セル集合体)として扱い、複数の集合体を配置する。集合体の数は、スタンダードセルの数よりも少ないため、集合体の配置に要する時間がスタンダードセルの配置に要する時間に比べて極めて短い。従って、CPU12は、集合体によりスタンダードセルを簡易的に配置することで、スタンダードセルを大まかに配置するための時間を短縮している。そして、CPU12は、配置・配線結果のレイアウトデータをファイル46に格納する。
ステップ31(配線性・タイミング集束性判定処理)において、CPU12は、レイアウトデータの配線性やタイミング収束性を検証する、即ちファイル46に格納したレイアウトデータが配線性やタイミング収束性を満足しているか否かを判断する。満足している場合にはステップ32に移行し、満足していない、即ち改善が必要な場合、CPU12は、必要性に応じてステップ24又はステップ26に戻る。例えば、CPU12は、改善が必要な場合、先ずステップ31からステップ26に戻り、該ステップ26においてマクロセルの配置を変更する。それでも配線性・タイミング収束性が満足しない場合、CPU12は、ステップ24においてコア領域のサイズを変更する。
ステップ32(詳細配置配線処理)において、CPU12は、スタンダードセルの詳細な配置を決定し、マクロセル、スタンダードセル等を接続する配線の位置を決定する。例えば、CPU12は、概略的に配置したスタンダードセルに対して、配線の接続状態、例えば配線長が短くなるように複数のスタンダードセルを互いに入れ替えることで、配線性。タイミング性を考慮したスタンダードセルの配置位置を決定する。また、CPU12は、配置位置を決定したスタンダードセルやマクロセル等を接続する配線の位置を決定する。そして、CPU12は、位置を決定したレイアウトデータをファイル47に格納する。
次に、上記のように構成された本発明の作用を図4〜図6に従って説明する。
図4に示すように、LSIは、6個のマクロセルM1〜M6と、図示しない複数のスタンダードセルとを含み、CPU12は、コア領域51にマクロセルM1〜M6及びスタンダードセルを配置する。CPU12は、図1に示すステップ23において各マクロセルM1〜M6に配置補助領域H1〜H6を設定する。次に、CPU12は、ステップ24においてコア領域51のサイズ(Lcorex,Lcorey)を算出する。
図4は、マクロセルM1〜M6及び配置補助領域H1〜H6を整列した状態を示す。この状態ではマクロセルM1〜M6及び配置補助領域H1〜H6が隣接している(隙間がない)ように配列されているため、マクロセルM1〜M6及び配置補助領域H1〜H6を除いた領域が最大スタンダードセル領域52である。ステップ25において、CPU12は、この領域52の面積を算出する。
次に、CPU12は、図1のステップ26において、フロアプランを実施する。図5は、フロアプラン実施後のコア領域51aを示す。図5において、マクロセルM6とマクロセルM1との間、及びマクロセルM1とマクロセルM2との間に極狭のスタンダードセル配置領域が生じている。このため、CPU12は、図6に示すように、禁止領域K1,K2を設定する。このため、スタンダードセル領域が減少する。
次に、ステップ27において、CPU12は、デッドスペース量Sd0及びデッドスペース率Rd0を算出する。図6に示すレイアウトの場合、デッドスペース率Rd0が基準値Rthを越えている。このため、CPU12は、図7に示すように、マクロセルM1の配置位置を変更し、マクロセルM6の配置方向を変更(回転)する。その結果、図7に示すコア領域51bにおいて、禁止領域の設定が不要になり、図6のレイアウトと比べてスタンダードセル領域が増加する。従って、同じ面積のコア領域であっても、スタンダードセル領域が増加するため、図7に示すレイアウトでは、スタンダードセルの配置品質が向上する、即ち配線長やタイミング性を考慮してより適切な位置にスタンダードセルを配置することができる。また、スタンダードセル領域が増加するため、スタンダードセルの配置変更が容易になり、タイミングを調整しやすくなる、即ちタイミングの収束性を向上させることができる。このため、より小さいチップを短期間で開発することができる。
以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
(1)マクロセルM1〜M6に配置補助領域H1〜H6を設定し、コア領域51からマクロセルM1〜M6及び配置補助領域H1〜H6を除く最大スタンダードセル領域52の面積を算出し、複数のマクロセルM1〜M6を配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し、最大スタンダードセル領域の面積とスタンダードセル領域面積とに基づいてフロアプランにおけるデッドスペース率を算出する。そして、そのデッドスペース率に基づいてマクロセルM1〜M6の配置を変更するか否かを判断するようにした。従って、マクロセルM1〜M6を配置した段階でフロアプランの状態が判断され、スタンダードセルを配置するまえにフロアプランの変更を行うことができる。このため、マクロセルM1〜M6のサイズを考慮した設計ループが小さくなり、設計の戻りが少なくなるため、スタンダードセルを配置した後にフロアプランを変更する場合に比べて短時間でフロアプランの決定を行うことができる。また、デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいてデッドスペース率を基準値以下とするようにフロアプランのマクロセルの配置を変更することで、コア領域のサイズを大きくすることなくレイアウトを設計することができる。
(2)フロアプラン結果に基づいて、マクロセルM1,M2,M6間の極狭領域を、スタンダードセルが自動配置されない配置禁止領域K1,K2に設定する。マクロセルM1〜M6と配置補助領域H1〜H6と配置禁止領域K1,K2のサイズに基づいて実スタンダードセル領域の面積を算出する。配置禁止領域K1,K2はデッドスペースであり、デッドスペース率を小さくする、例えば配置禁止領域が生じないようにマクロセルM1〜M6の配置を変更することで、実スタンダードセル領域の面積を大きくし、スタンダードセルの配置を容易にする、つまりスタンダードセルの配置品質を向上させることができる。
(3)信号配線の混雑度、タイミング条件の少なくとも一方に基づいてマクロセルM1〜M6の配置位置を決定する。従って、配線やタイミングの収束性がよいマクロセルの配置を行うことができる。
一実施形態のレイアウト設計処理のフローチャートである。 コンピュータシステムの概略構成図である。 マクロセルの概念図である。 実スタンダードセル領域の説明図である。 コア領域のレイアウト図である。 デッドスペースを有するコア領域のレイアウト図である。 改善されたコア領域のレイアウト図である。
符号の説明
11 コンピュータ
51,51a,51b コア領域
52 最大スタンダードセル領域
Ma,M1〜M6 マクロセル
Ha,H1〜H6 配置補助領域
K1,K2 配置禁止領域
Rd0 デッドスペース率
Rth 基準値
Sd0 デッドスペース量

Claims (8)

  1. 複数のマクロセルを含む半導体集積回路装置のレイアウトデータをコンピュータにて自動生成するレイアウト設計方法であって、
    前記各マクロセルに配置補助領域を設定し記憶手段に記憶するステップと、
    コア領域から前記マクロセル及び配置補助領域を除く最大スタンダードセル領域の面積を算出し、該最大スタンダードセル領域の面積を記憶手段に記憶するステップと、
    前記複数のマクロセルを配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し、該実スタンダードセル領域の面積を記憶手段に記憶するステップと、
    前記記憶手段に記憶した最大スタンダードセル領域の面積と前記実スタンダードセル領域の面積とを読み出し、両面積に基づいて前記フロアプランにおけるデッドスペース率を算出するステップと、
    前記デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいて前記デッドスペース率を前記基準値以下とするように前記フロアプランのマクロセルの配置をコンピュータが変更するステップと、
    を備えたことを特徴とするレイアウト設計方法。
  2. 前記フロアプラン結果に基づいて、前記マクロセル間の極狭領域を、スタンダードセルが自動配置されない配置禁止領域に設定し、前記マクロセルと配置補助領域と前記配置禁止領域のサイズに基づいて前記実スタンダードセル領域を算出することを特徴とする請求項1記載のレイアウト設計方法。
  3. 前記デッドスペース率を算出するステップにおいて、前記最大スタンダードセル領域と前記実スタンダードセル領域の面積とからデッドスペース量を算出し、該デッドスペース量と前記最大スタンダードセル領域とから前記デッドスペース率を算出することを特徴とする請求項1又は請求項2記載のレイアウト設計方法。
  4. 信号配線の混雑度、タイミング条件の少なくとも一方に基づいて前記マクロセルの配置位置を決定することを特徴とする請求項1,請求項2又は請求項3記載のレイアウト設計方法。
  5. 複数のマクロセルを含む半導体集積回路装置のレイアウトデータを自動生成するレイアウト設計装置であって、
    前記各マクロセルに配置補助領域を設定し記憶手段に記憶する配置補助領域算出手段と、
    コア領域から前記マクロセル及び配置補助領域を除く最大スタンダードセル領域の面積を算出し、該最大スタンダードセル領域の面積を記憶手段に記憶する最大スタンダードセル領域算出手段と、
    前記複数のマクロセルを配置したフロアプラン結果から実スタンダードセル領域の面積を算出し、該実スタンダードセル領域の面積を記憶手段に記憶する実スタンダードセル領域算出手段と、
    前記記憶手段に記憶した最大スタンダードセル領域の面積と前記実スタンダードセル領域の面積とを読み出し、両面積に基づいて前記フロアプランにおけるデッドスペース率を算出するデッドスペース算出手段と、
    前記デッドスペース率と基準値とを比較し、該比較結果に基づいて前記マクロセルの配置変更が必要か否かを判定するデッドスペース判定手段と、
    前記デッドスペース判定手段の判定結果に基づき、前記デッドスペース率を前記基準値以下とするように前記フロアプランのマクロセルの配置をコンピュータが変更するフロアプラン実施手段と、
    を備えたことを特徴とするレイアウト設計装置。
  6. 前記フロアプラン実施手段は、前記マクロセル間の極狭領域を、スタンダードセルが自動配置されない配置禁止領域に設定し、
    前記実スタンダードセル領域算出手段は、前記マクロセルと配置補助領域と前記配置禁止領域のサイズに基づいて前記実スタンダードセル領域を算出する、
    ことを特徴とする請求項5記載のレイアウト設計装置。
  7. 前記デッドスペース算出手段は、前記最大スタンダードセル領域と前記実スタンダードセル領域の面積とからデッドスペース量を算出し、該デッドスペース量と前記最大スタンダードセル領域とから前記デッドスペース率を算出することを特徴とする請求項5又は請求項6記載のレイアウト設計装置。
  8. 前記フロアプラン実施手段は、信号配線の混雑度、タイミング条件の少なくとも一方に基づいて前記マクロセルの配置位置を決定する、
    ことを特徴とする請求項5,請求項6又は請求項7記載のレイアウト設計装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019204171A (ja) * 2018-05-21 2019-11-28 東芝情報システム株式会社 半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計用プログラム
KR102631355B1 (ko) * 2022-11-22 2024-01-31 삼성전자주식회사 반도체 소자 집적 회로 및 그것의 레이아웃을 설계하는 방법
KR102634706B1 (ko) * 2023-05-31 2024-02-13 주식회사 애자일소다 데드 스페이스의 최소화를 위한 집적회로 설계 장치 및 방법

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7703059B2 (en) * 2006-05-22 2010-04-20 Lsi Corporation Method and apparatus for automatic creation and placement of a floor-plan region
US8677292B2 (en) * 2009-04-22 2014-03-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Cell-context aware integrated circuit design
US8671376B2 (en) * 2012-03-28 2014-03-11 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Computer system and method for performing a routing supply and demand analysis during the floor planning stage of an integrated circuit design process
US10095825B2 (en) 2014-09-18 2018-10-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Computer based system for verifying layout of semiconductor device and layout verify method thereof
US9811626B2 (en) * 2014-09-18 2017-11-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of designing layout of semiconductor device
US10026661B2 (en) 2014-09-18 2018-07-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor device for testing large number of devices and composing method and test method thereof
US9704862B2 (en) 2014-09-18 2017-07-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor devices and methods for manufacturing the same
US9767248B2 (en) 2014-09-18 2017-09-19 Samsung Electronics, Co., Ltd. Semiconductor having cross coupled structure and layout verification method thereof
DE102017127276A1 (de) * 2017-08-30 2019-02-28 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Standardzellen und abwandlungen davon innerhalb einer standardzellenbibliothek

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5914888A (en) * 1996-06-28 1999-06-22 Lsi Logic Corporation Advanced modular cell placement system with coarse overflow remover
US5844811A (en) * 1996-06-28 1998-12-01 Lsi Logic Corporation Advanced modular cell placement system with universal affinity driven discrete placement optimization
JP4629189B2 (ja) * 2000-06-14 2011-02-09 富士通セミコンダクター株式会社 レイアウト方法、レイアウト装置及び記録媒体
US6671865B1 (en) * 2001-11-27 2003-12-30 Lsi Logic Corporation High density input output
US6662349B2 (en) * 2002-02-27 2003-12-09 Lsi Logic Corporation Method of repeater insertion for hierarchical integrated circuit design
JP4004860B2 (ja) 2002-06-03 2007-11-07 Necエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路のレイアウト方法
JP2004047516A (ja) * 2002-07-08 2004-02-12 Nec Electronics Corp 半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置のレイアウト方法
JP2004153138A (ja) * 2002-10-31 2004-05-27 Renesas Technology Corp 半導体集積回路
US6757883B1 (en) * 2002-12-11 2004-06-29 Lsi Logic Corporation Estimating free space in IC chips

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019204171A (ja) * 2018-05-21 2019-11-28 東芝情報システム株式会社 半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計用プログラム
JP7009039B2 (ja) 2018-05-21 2022-01-25 東芝情報システム株式会社 半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計用プログラム
KR102631355B1 (ko) * 2022-11-22 2024-01-31 삼성전자주식회사 반도체 소자 집적 회로 및 그것의 레이아웃을 설계하는 방법
KR102634706B1 (ko) * 2023-05-31 2024-02-13 주식회사 애자일소다 데드 스페이스의 최소화를 위한 집적회로 설계 장치 및 방법

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