JP2006276598A5 - - Google Patents
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- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 claims 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims 4
- -1 quinonediazide compound Chemical class 0.000 claims 3
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 claims 3
- 150000001875 compounds Chemical group 0.000 claims 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005097272A JP4725160B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005097272A JP4725160B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006276598A JP2006276598A (ja) | 2006-10-12 |
| JP2006276598A5 true JP2006276598A5 (US06244707-20010612-C00007.png) | 2008-05-15 |
| JP4725160B2 JP4725160B2 (ja) | 2011-07-13 |
Family
ID=37211409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005097272A Active JP4725160B2 (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4725160B2 (US06244707-20010612-C00007.png) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007049440A1 (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Toray Industries, Inc. | シロキサン樹脂組成物およびその製造方法 |
| JP5050684B2 (ja) * | 2006-10-13 | 2012-10-17 | 日立化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、シリカ系被膜の形成方法、及びシリカ系被膜を備える装置及び部材 |
| JP2008122916A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-05-29 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、シリカ系被膜の形成方法、及びシリカ系被膜を備える装置及び部材 |
| JP5056260B2 (ja) * | 2006-12-14 | 2012-10-24 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物およびその製造方法、並びにそれから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子 |
| KR101558442B1 (ko) * | 2007-11-13 | 2015-10-07 | 가부시키가이샤 아데카 | 포지티브형 감광성 조성물, 포지티브형 영구 레지스트 및 포지티브형 영구 레지스트의 제조 방법 |
| JP5343649B2 (ja) * | 2008-06-23 | 2013-11-13 | 東レ株式会社 | 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
| JP5533232B2 (ja) * | 2009-06-29 | 2014-06-25 | Ｊｓｒ株式会社 | ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、表示素子、及び層間絶縁膜形成用のシロキサンポリマー |
| JP5381508B2 (ja) * | 2009-08-27 | 2014-01-08 | Ｊｓｒ株式会社 | ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン |
| JP5917150B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2016-05-11 | Jsr株式会社 | ポジ型感放射線性組成物、硬化膜及びその形成方法 |
| TWI443465B (zh) | 2012-04-23 | 2014-07-01 | Chi Mei Corp | 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜及具有保護膜的元件 |
| JP6318634B2 (ja) * | 2013-02-14 | 2018-05-09 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物、硬化膜及び素子 |
| EP3194502A4 (en) | 2015-04-13 | 2018-05-16 | Honeywell International Inc. | Polysiloxane formulations and coatings for optoelectronic applications |
| CN118206716A (zh) * | 2024-02-02 | 2024-06-18 | 广州市斯洛柯高分子聚合物有限公司 | 一种有机硅改性热塑性聚氨酯弹性体及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2646241B2 (ja) * | 1988-07-20 | 1997-08-27 | 富士写真フイルム株式会社 | フォトレジスト組成物 |
| JPH02105156A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JP3870471B2 (ja) * | 1997-03-05 | 2007-01-17 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、およびこれを使用したパターン形成方法 |
| JP2003185860A (ja) * | 2001-12-17 | 2003-07-03 | Jsr Corp | 光導波路形成用放射線硬化性組成物および光導波路 |
| JP4373082B2 (ja) * | 2001-12-28 | 2009-11-25 | 富士通株式会社 | アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法 |
| JP2006091806A (ja) * | 2003-10-07 | 2006-04-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路 |
| JP4687250B2 (ja) * | 2004-06-02 | 2011-05-25 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| JP4784283B2 (ja) * | 2004-11-26 | 2011-10-05 | 東レ株式会社 | ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
-
2005
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