JP2006276369A - Liquid crystal display device and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に従来の液晶表示装置の製造工程と同様の工程で製造することができ、しかも交差している配線間でクロスショートを起こす可能性が少ないアクティブマトリクス基板を有する液晶表示装置及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, and more particularly, an active device that can be manufactured in the same process as that of a conventional liquid crystal display device and that is less likely to cause a cross short between crossed wirings. The present invention relates to a liquid crystal display device having a matrix substrate and a method for manufacturing the same.
一般に液晶表示装置には薄型軽量、低消費電力という特徴があり、特に、薄膜トランジスタ方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置は携帯電話機などの携帯端末から大型テレビに至るまで幅広く利用されている。 In general, liquid crystal display devices are characterized by being thin and light and low power consumption. In particular, thin film transistor type active matrix liquid crystal display devices are widely used from portable terminals such as cellular phones to large television sets.
まず、従来のアクティブマトリクス型の液晶表示装置の一般的な構成を、数画素部分の平面図である図5、その数画素分の模式的な等価回路図である図6及び図5のA−A断面図である図7を参照して簡単に説明する。従来の液晶表示パネル10Aは、第1の透光性基板11上に直接又は絶縁膜11’を介してマトリクス状に設けられた走査線X1、X2・・・Xnと信号線Y1、Y2・・・Ymで囲まれた領域毎に画素電極12が設けられており、この画素電極12は図6においては等価的に液晶容量CLCで表わされている。通常液晶容量CLCには補助容量電極13により形成された補助容量Csが並列に接続されている。液晶容量CLCの一端は駆動用のスイッチングトランジスタ14に接続されているとともに、他端は第2の透光性基板15にカラーフィルタ層CFを介して設けられた対向電極16に接続されて所定のコモン電位Vcが印加されている。
First, a general configuration of a conventional active matrix type liquid crystal display device is shown in FIG. 5 which is a plan view of several pixel portions, and a schematic equivalent circuit diagram corresponding to several pixels of FIG. 6 and FIG. A brief description will be given with reference to FIG. The conventional liquid
スイッチングトランジスタ14は絶縁ゲート電界効果型の薄膜トランジスタTFT(Thin Film Transistor)からなり、そのソース電極Sは信号線Y1、Y2・・・Ymに接続されて画像信号Vsの供給を受け、また、ドレイン電極Dは液晶容量CLCの一端、すなわち画素電極12に接続されている。さらに、スイッチングトランジスタ14のゲート電極Gは走査線X1、X2・・・Xnに接続されて所定の電圧を有するゲートパルスVgが印加されるようになされている。
The
また、画素電極12及び対向電極16の表面にはそれぞれ配向膜(図示せず)が設けられているとともに、第1の透光性基板11と第2の透光性基板15との間には液晶17が封入されている。なお、符号18及び19はそれぞれSiO2もしくはSiNからなる絶縁膜を示し、符号20はアモルファスSi層を示す。そして複数本の走査線X1、X2・・・Xn及び信号線Y1、Y2・・・Ymは、基板の額縁部(基板の周縁部)の2方向ないしは1方向に引き出され、それぞれの終端部に走査線用入力端子部21及び信号線用入力端子部22が設けられている。
In addition, an alignment film (not shown) is provided on the surface of each of the
このような構成のアクティブマトリクス型の液晶表示装置は、携帯電話機用の小型のものから対角40インチ(約102cm)ないし50インチ(約127cm)サイズ程度の大型のものまで製造されるようになってきている。しかしながら、液晶表示装置は、製造工程において表示領域内に静電気が浸入したり配線の短絡等が生じると、液晶表示装置としてでき上がった段階で表示欠陥が生じる。静電気は、製造工程においても、パネルを搬送する際にも、他のものと接触するだけで発生してしまう。また、配向膜のラビング時には摩擦により最も静電気が発生しやすい。特に中小型機種等においては、高精細化が進むにつれて今まで以上に静電気不良が発生しやすいので、様々な静電気対策が取られているが、配線クロス部は特に静電気による短絡故障が発生しやすい。したがって、液晶表示装置の製造技術分野では、静電気による表示欠陥が生じないようにすることは特に急務である。 The active matrix type liquid crystal display device having such a structure is manufactured from a small size for a mobile phone to a large size of about 40 inches (about 102 cm) to 50 inches (about 127 cm) diagonal. It is coming. However, in the liquid crystal display device, when static electricity enters the display region or a short circuit of the wiring occurs in the manufacturing process, a display defect occurs when the liquid crystal display device is completed. Static electricity is generated only by contact with other objects in the manufacturing process and when the panel is transported. Further, when the alignment film is rubbed, static electricity is most likely to occur due to friction. Especially in small and medium-sized models, static electricity defects are more likely to occur than ever as high definition progresses, so various countermeasures against static electricity have been taken, but wiring crosses are particularly susceptible to short circuit failures due to static electricity. . Therefore, in the manufacturing technical field of liquid crystal display devices, it is particularly urgent to prevent display defects due to static electricity.
このような配線クロス部における静電気による短絡故障の発生を防止するための技術も幾つか知られている。例えば、下記特許文献1には、補助容量Cs引き回し配線と走査線との交差部でクロスショートが発生するのを防止し、製造中に発生する静電気を充分に分散させた、歩留まりの高い液晶表示装置の発明が開示されている。
Several techniques for preventing the occurrence of a short-circuit failure due to static electricity in such a wiring cross portion are also known. For example, in
この特許文献1に開示されている液晶表示装置50は、図8の平面図に示すように、基板51上に複数本の互いに平行な走査線52が形成され、この走査線52と平行に且つ走査線間に複数の補助容量配線53が形成され、さらにこれら配線に絶縁膜を介して直交するように複数のデータ配線54が形成されている。そして、走査線52とデータ配線54とはそれぞれその延線上に走査線パッド55部、データ配線パッド56部が形成されている。そして、それぞれのパッド部から基板の切断線57より外周方向に引き出し電極が配設され、外部短絡配線58に接続されることで、全走査線52と全データ配線54が接続され、各配線は電気的に同電位に保たれる。
In the liquid
そして、走査線パッド55及びデータ配線パッド56の内側には矩形リング状の内部短絡配線59が形成されており、全ての走査線52と全てのデータ配線54とが高抵抗素子RG、RSを介して内部短絡配線59に接続されている。また、補助容量配線53は1本1本が内部短絡配線59に直接接続されており、内部短絡配線59はその一部から補助容量配線パッド60に接続されており、補助容量パッド60から基板の切断線57より外周方向に引き出し電極が形成されて外部短絡配線58に導通している。
Further, rectangular ring-shaped internal short-
この液晶表示装置50は、液晶表示装置として組み立てた後には補助容量配線パッド60をとおして内部短絡配線59をCs電位として補助容量配線53にCs電位を与えることができるから、走査線52やデータ配線54に生じる静電気を内部短絡配線59だけでなく補助容量配線53にも分散させることができ、充分な静電気対策をとることができ、しかも、補助容量配線53を走査線52と交差することなく内部短絡配線59に接続することにより、従来のようなCs引き回し配線が不要になり配線構造が単純化されて狭額縁化を達成でき、さらに従来はこのCs引き回し配線と走査線52が交差している部分(走査線本数分)で生じていたクロスショートの問題がなくなるという効果を奏するというものである。
しかしながら、上述した従来例の液晶表示装置50は、少なくとも内部短絡配線59及び高抵抗素子RG、RSを設けることが必要である。このうち、内部短絡配線59そのものは従来のCs引き回し配線と実質的に相違はないが、この内部短絡配線59と走査線52との間でクロスショートを起こさないようにするために、高低抗素子RG、RSとして走査線52やデータ配線54に印加される電圧では導通せず、静電気のような高電圧が印加されたときに全ての配線が短絡するような素子、例えばそれぞれ互いに並列接続された2端子TFTやダイオード等、低電圧域では高抵抗、高電圧域では低抵抗となるような特殊な素子が必要である。
However, the above-described conventional liquid
したがって、このような特殊な素子は、従来からの一般的な液晶表示装置で普通に用いられているものではないため、上述した従来例の液晶表示装置50の製造工程には別途特別な工程が必要となるという問題点が存在する。
Therefore, since such a special element is not normally used in a conventional general liquid crystal display device, a special process is separately performed in the manufacturing process of the conventional liquid
本願の発明者等は、特にこのような特殊な素子を使用せずとも、液晶表示装置の製造工程中に交差している配線間の静電気によるクロスショートを防止できる構成を種々検討した結果、交差している保護すべき配線(以下、「主配線」という。)に並列に静電気によりクロスショートを起こしやすい配線(以下、「従配線」という。)を形成しておき、液晶表示装置の製造段階の後半でこの従配線を主配線から切り離せば、たとえ製造工程中に従配線が静電気によりクロスショートを起こしても主配線を有効に保護できるため、クロスショートを起こしていない主配線を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至ったのである。 The inventors of the present application have studied various configurations that can prevent cross short-circuiting due to static electricity between wires intersecting during the manufacturing process of the liquid crystal display device without using such special elements. A wiring that is likely to cause a cross short circuit due to static electricity (hereinafter referred to as “secondary wiring”) is formed in parallel with the wiring to be protected (hereinafter referred to as “main wiring”), and the liquid crystal display device is manufactured. If this sub-wiring is disconnected from the main wiring in the latter half of the process, the main wiring can be effectively protected even if the sub-wiring causes a cross-short due to static electricity during the manufacturing process. The present inventors have found out what can be done and have completed the present invention.
すなわち、本発明は、従来の液晶表示装置の製造工程と同様の工程で製造することができ、しかも交差している配線間でクロスショートを起こす可能性が少ない液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 That is, the present invention provides a liquid crystal display device that can be manufactured in the same process as that of a conventional liquid crystal display device, and that is less likely to cause a cross short between crossed wirings, and a method for manufacturing the same. The purpose is to do.
本発明の上記目的は以下の構成により達成し得る。すなわち、請求項1の液晶表示装置の発明は、アクティブマトリクス基板上の表示領域周辺に配線交差部を有する液晶表示装置において、前記配線交差部には、絶縁膜を介して上側に位置する主配線の両側に、絶縁膜の下側に位置する他の配線と交差するように、複数の従配線が並列に接続され、前記従配線は前記絶縁膜の下側に位置する他の配線の両端部で電気的に切断されていることを特徴とする。
The above object of the present invention can be achieved by the following configurations. That is, the invention of the liquid crystal display device according to
また、請求項2の発明は、請求項1に記載の液晶表示装置において、前記主配線及び他の配線は、走査線、信号線及び補助容量配線から選択された任意の2つの組合せからなることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the liquid crystal display device according to the first aspect, the main wiring and the other wiring are composed of any two combinations selected from a scanning line, a signal line, and an auxiliary capacitance wiring. It is characterized by.
また、請求項3の発明は、請求項1又は2に記載の液晶表示装置において、前記従配線の数は2本又は4本であることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the liquid crystal display device according to the first or second aspect, the number of the sub wirings is two or four.
さらの本発明の別の目的は、以下の方法により達成し得る。すなわち、請求項4の液晶表示装置の製造方法の発明は、液晶表示装置のアクティブマトリクス基板上の表示領域周辺に設けられた配線交差部の製造に際し、絶縁膜を介して上側に位置する主配線の両側に複数本の従配線を絶縁膜の下側に位置する他の配線と交差するようにかつ主配線よりも短絡しやすいように並列に設け、その後の製造工程において、前記復数本の従配線を前記絶縁膜の下側に位置する他の配線の両端部で電気的に切断することを特徴とする。 Still another object of the present invention can be achieved by the following method. That is, according to the invention of the manufacturing method of the liquid crystal display device of claim 4, the main wiring located on the upper side through the insulating film when manufacturing the wiring intersection provided around the display area on the active matrix substrate of the liquid crystal display device. A plurality of sub wirings are provided in parallel on both sides of the wiring so as to intersect with other wirings located below the insulating film and to be short-circuited more easily than the main wiring. The sub-wiring is electrically disconnected at both ends of the other wiring located below the insulating film.
また、請求項5の発明は、請求項4に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記主配線及び従配線がアルミニウム又はアルミニウム合金からなり、前記従配線はIZOからなる透明電極材料の湿式エッチング工程において同時に切断することを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the fourth aspect, the main wiring and the sub wiring are made of aluminum or an aluminum alloy, and the sub wiring is wet etching of a transparent electrode material made of IZO. It cut | disconnects simultaneously in a process, It is characterized by the above-mentioned.
また、請求項6の発明は、請求項4又は5に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記主配線及び他の配線は、走査線、信号線及び補助容量配線から選択された任意の2つの組合せからなることを特徴とする。 According to a sixth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the fourth or fifth aspect, the main wiring and the other wiring are any two selected from a scanning line, a signal line, and an auxiliary capacitance wiring. It consists of two combinations.
また、請求項7の発明は、請求項4〜6のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法において、前記従配線の数は2本又は4本であることを特徴とする。 According to a seventh aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of the fourth to sixth aspects, the number of the sub wirings is two or four.
本発明は上記の構成を備えることにより以下に述べるような優れた効果を奏する。すなわち、請求項1の発明によれば、交差部の主配線の両側に従配線を設けたので、例えば、後工程に致るまでに大きな静電気負荷がかかった場合でも、従配線側に短絡が発生するが本来必要としている主配線には短絡が発生しないため、後工程でその従配線を切断することにより短絡が生じていた従配線は主配線から電気的に切り離される。そのため、交差部における主配線と他の配線との間の静電気から有効に保護することができるようになる。加えて、後工程で行う処理により従配線を切断するので、工程数が増えることもない。 By providing the above configuration, the present invention has the following excellent effects. In other words, according to the first aspect of the present invention, since the sub wiring is provided on both sides of the main wiring at the intersection, for example, even if a large electrostatic load is applied before the subsequent process, a short circuit is caused on the sub wiring side. Since the main wiring that is generated but originally necessary does not cause a short circuit, the sub wiring that has been short-circuited is cut off from the main wiring by cutting the sub wiring in a later process. Therefore, it is possible to effectively protect against static electricity between the main wiring and other wiring at the intersection. In addition, since the sub-wiring is cut by a process performed in a later process, the number of processes does not increase.
また、請求項2の発明によれば、この交差部における従配線は、表示領域周辺の配線交差部の全てに設けることができるため、主配線の不良発生頻度が少なくなる。 According to the second aspect of the present invention, since the sub-wiring at the intersection can be provided in all the wiring intersections around the display area, the frequency of occurrence of defects in the main wiring is reduced.
また、請求項3の発明によれば、従配線は復数本設けられているので、複数回の静電気負荷に対処することができる。従配線の数が多ければ多いほど多数回の静電気負荷に対処できるが、この従配線は液晶表示装置の完成後には無用のものであるため、無駄な面積を減らすためには、最大値を4本に止めることが好ましい。 According to the invention of claim 3, since the number of subordinate wirings is provided, it is possible to cope with a plurality of electrostatic loads. The larger the number of subwirings, the more the electrostatic load can be dealt with. However, since the subwiring is useless after the liquid crystal display device is completed, the maximum value is set to 4 in order to reduce the useless area. It is preferable to stop in a book.
また、請求項4の発明によれば、簡単な製造方法により請求項1の発明の効果を奏する液晶表示装置を作製することができる。
According to the invention of claim 4, a liquid crystal display device having the effect of the invention of
また、請求項5の発明によれば、アルミニウム又はアルミニウム合金はIZO用の湿式エッチング液でエッチングされることが周知であるから、IZOからなる透明電極材料の湿式エッチング工程において同時に従配線を切断すれば、工数を増やすことなく静電気負荷に対処することができるようになる。 According to the invention of claim 5, since it is well known that aluminum or an aluminum alloy is etched with a wet etching solution for IZO, in the wet etching process of the transparent electrode material made of IZO, the slave wiring is cut simultaneously. Thus, it becomes possible to cope with the electrostatic load without increasing the number of steps.
また、請求項6及び7の発明によれば、それぞれ請求項2又は3の発明の効果を奏する液晶表示装置の製造方法を提供できる。
Moreover, according to the invention of Claim 6 and 7, the manufacturing method of the liquid crystal display device which has an effect of the invention of
以下、本発明に係る液晶表示装置及びその製造方法の実施例を図面を参照して詳細に説明する。ただし、以下に示す実施例は、本発明の技術思想を具体化するための液晶表示装置としてのアクティブマトリクス型液晶表示装置の場合を例示するものであって、本発明をこのアクティブマトリクス型液晶表示装置に特定することを意図するものではなく、本発明は特許請求の範囲に示した技術思想を逸脱することなく種々の変更を行ったものにも均しく適用し得るものである。なお、図1は実施例に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置の従配線切断前の表示領域周辺の拡大平面図であり、図2は図1のアクティブマトリクス型液晶表示装置の従配線切断後を示す図であり、また、図3は従配線数を4本とした図1に対応する従配線切断前の拡大平面図であり、図4は図3の液晶表示装置の従配線切断後を示す図であり、図5〜図7に示した従来例の液晶表示装置と同一の構成部分には同一の参照符号を付与して説明する。 Hereinafter, embodiments of a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the embodiments shown below exemplify the case of an active matrix type liquid crystal display device as a liquid crystal display device for embodying the technical idea of the present invention. The present invention is not intended to be specified as an apparatus, and the present invention can be equally applied to various modifications without departing from the technical idea shown in the claims. FIG. 1 is an enlarged plan view of the periphery of the display area before cutting the sub-wiring of the active matrix liquid crystal display device according to the embodiment. FIG. 2 shows the sub-wiring of the active matrix liquid crystal display device of FIG. 3 is an enlarged plan view before cutting the sub wiring corresponding to FIG. 1 in which the number of sub wirings is four, and FIG. 4 is a diagram showing the liquid crystal display device of FIG. 3 after cutting the sub wiring. The same components as those of the conventional liquid crystal display device shown in FIGS.
実施例に係るアクティブマトリクス型の液晶表示装置10は、第1の透光性基板11上にマトリクス状に設けられた走査線X1、X2・・・Xnと信号線Y1、Y2・・・Ymが設けられている。このうち、走査線X1、X2・・・Xn及び信号線Y1、Y2・・・Ymで囲まれた領域が表示領域であり、この表示領域の周囲に各配線と端子部(図示せず)とを結ぶ各種配線が設けられている。
In the active matrix type liquid
この有効表示領域においては、各走査線及び信号線で囲まれた領域毎に表示に寄与する画素電極12が設けられている。また、スイッチングトランジスタ14はTFTからなり、そのソース電極Sは信号線Y1、Y2・・・Ymに接続され、ゲート電極Gは走査線X1、X2・・・Xnに接続され、さらに、ドレイン電極Dは画素電極12に接続されている。また、ドレイン電極Dの下部には補助容量電極13が、走査線X1、X2・・・Xnと平行に設けられている。これらの液晶表示装置10の表示領域の具体的構成及び動作原理は、図5〜図7に示した従来例のものと同様であるので、必要に応じて図5〜図7を引用して説明することとする。
In this effective display area,
この液晶表示装置10は、図7に示したように、透光性基板11上に絶縁膜11’を介してアルミニウム又はアルミニウム合金により走査線X1、X2・・・Xn及びこれらの走査線に平行に各補助容量電極13が形成されており、このうち各補助容量電極13は、図1に示すように、表示領域の周辺で、コンタクトホール31を介して絶縁膜11’の下部に補助容量電極13と直交する方向に設けられた補助容量配線32に接続されている。したがって、走査線X1、X2・・・Xnは表示領域の周辺で補助容量配線32と絶縁膜11’を介して交差することになる。
As shown in FIG. 7, the liquid
そこで、以下においては、走査線Xn−1、Xnを代表させて説明することとする。本実施例においては、図1に示すように、走査線Xn−1、Xn及び補助容量電極13の形成時に同時に、走査線Xn−1、Xnと補助容量配線30との交差部に、それぞれの走査線Xn−1、Xnに対応する主配線33及び34とともに、この主配線33及び34に並列にそれぞれ2本の従配線33a、33b及び34a、34bを形成する。この従配線33a、33b及び34a、34bと補助容量配線32との間は、外部から静電気が浸入した場合に主配線33及び34と補助容量配線32との間が絶縁破壊を起こすよりも低いエネルギーで静電破壊を起こすように設計されている。この静電破壊の容易さの調節は、絶縁膜11’の厚さ、絶縁膜11’と主配線33及び34ないし従配線33a、33b及び34a、34bの下部に設けられるアモルファスSi層35の面積等を調整することにより容易に行うことができる。
Therefore, in the following, the scanning lines Xn−1 and Xn will be described as a representative. In the present embodiment, as shown in FIG. 1, at the same time when the scanning lines Xn−1, Xn and the
そして、その後に補助容量配線32の両側の従配線33a、33b及び34a、34bの切断位置361〜364及び371〜374の部分を除いて、基板全体を別の絶縁層18(図7参照)で被覆し、常法に応じて、信号線Y1、Y2・・・Ymの形成、画素トランジスタ14の形成、IZOからなる透明電極12の形成、ゲート絶縁膜19の形成等を行う。この間、前記の切断位置361〜364の部分は露出したままの状態とする。
Thereafter, the entire substrate is separated from the other insulating layer 18 (see FIG. 5) except for the portions of the cutting positions 36 1 to 36 4 and 37 1 to 37 4 of the
そうすると、ここまでの工程が終了するまでに外部から大きなエネルギーの静電気が浸入すると、交差部において従配線33a、33b及び34a、34bのうちのいずれかが主配線33及び34よりも優先的に静電破壊を起こし、静電気を補助容量配線32を経て逃がすので、主配線33及び34は補助容量配線32と短絡することが少なくなる。
Then, if static electricity with a large energy enters from the outside until the above steps are completed, any of the sub-wirings 33a, 33b and 34a, 34b is preferentially static over the
その後、周知のエッチング液を用いてIZO透明電極及び前記切断位置361〜364及び371〜374の露出している従配線33a、33b及び34a、34bを同時にエッチングする。そうすると、このエッチングの終了時点では、従配線33a、33b及び34a、34bの絶縁膜18で被覆されている部分はエッチングされないで残るが、補助容量配線32上に位置していた従配線は主配線33及び34とは電気的に切り離された状態となるので、たとえ従配線33a、33b及び34a、34bが補助容量配線32と短絡を起こしていても、主配線33及び34は電気的に補助容量配線32とは絶縁されている状態となるので、特に工程数を増やすことなく、特殊な固定を陥ることもなく、効率よく正常に作動する液晶表示装置を作製することができる。
Thereafter, simultaneously etched IZO transparent electrode and the cutting position 36 1-36 4 and 37 1 to 37 4 of the exposed portion of the従配
なお、ここでは主配線の両側の従配線の数を2本とした例を示したが、より多くたとえば4本とすることもできる。この従配線数を4本とした変形例の液晶表示装置10’を図3及び図4を用いて説明する。なお、図3は従配線切断前の表示領域周辺の拡大平面図であり、図4は従配線切断後の配線交差部の拡大図である。図3に示した液晶表示装置10’では、従配線を符号33a〜33dの4本とするとともに、切断位置361〜364で2本の従配線を同時に切断するようにしたほかは前述の液晶表示装置10の構成と同一であるので、その詳細な説明は省略する。
Although an example in which the number of sub-wirings on both sides of the main wiring is two is shown here, it can be increased to four, for example. A modification of the liquid
このように、従配線の数が多ければ多いほど多数回の静電気負荷に対処できるが、この従配線は液晶表示装置の完成後には無用のものであるため、無駄な面積を減らすためには、最大値を4本に止めることが好ましい。 In this way, the larger the number of subwirings, the greater the number of electrostatic loads that can be dealt with, but since the subwiring is useless after the liquid crystal display device is completed, in order to reduce wasted area, It is preferable to limit the maximum value to four.
なお、本実施例では透過型の液晶表示装置を例にとり説明したが、これに限らず、半透過型の液晶表示装置に対しても適用可能である。さらに、本実施例では従配線を走査線と補助容量配線との交差部に設けた例を示したが、走査線と信号線との交差部、信号線と補助容量配線との交差部に設けてもよく、また、絶縁膜を介しての各配線間の上下関係については任意である。 In this embodiment, the transmissive liquid crystal display device is described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can also be applied to a transflective liquid crystal display device. Furthermore, in the present embodiment, an example in which the secondary wiring is provided at the intersection between the scanning line and the auxiliary capacitance wiring is shown, but the secondary wiring is provided at the intersection between the scanning line and the signal line, and at the intersection between the signal line and the auxiliary capacitance wiring. In addition, the vertical relationship between the wirings via the insulating film is arbitrary.
10、10’、10A 液晶表示装置
11、15 透光性基板
12 画素電極
13 補助容量電極
14 画素トランジスタ
16 対向電極
17 液晶
11’、18、19 絶縁膜
20、35 アモルファスSi層
31 コンタクトホール
32 補助容量配線
33、34 主配線
33a、33b、34a、34b 従配線
361〜364 切断位置
371〜374 切断位置
10, 10 ′, 10 A Liquid
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1138449A (en) * | 1997-01-31 | 1999-02-12 | Fujitsu Ltd | Thin film transistor matrix substrate and its production |
JP2003248439A (en) * | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Fujitsu Display Technologies Corp | Substrate for display device, liquid crystal display device equipped with the same, and defect repairing method therefor |
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1138449A (en) * | 1997-01-31 | 1999-02-12 | Fujitsu Ltd | Thin film transistor matrix substrate and its production |
JP2003248439A (en) * | 2002-02-22 | 2003-09-05 | Fujitsu Display Technologies Corp | Substrate for display device, liquid crystal display device equipped with the same, and defect repairing method therefor |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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