JP2006269840A - 半導体装置およびそのための樹脂パッケージ - Google Patents

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Abstract

【課題】光学的半導体素子などの半導体素子および上蓋を高精度で搭載し、且つ従来に匹敵する強度および防湿性を備えた薄型の半導体装置を提供する。
【解決手段】凹状にモールドされ、その凹部8内の周縁部から外方にリード3などの配線が引き出された樹脂パッケージ2Aと、樹脂パッケージ2Aの凹部8内に搭載され凹部8内のリード3にワイヤボンディングされた半導体素子1と、樹脂パッケージ2Aの凹部8の開口端を覆った上蓋5とを有した半導体装置において、樹脂パッケージ2Aの凹部8内は、半導体素子1を搭載するダイアタッチ面6がリード3のボンディング面11よりも高位置になるように形成する。このことにより、ダイアタッチ面6よりも下側の樹脂厚みを確保しながら、パッケージを薄型化することが可能となる。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置およびそのための樹脂パッケージに関し、特にその薄型化技術に関する。
デジタルカメラやカメラ付き携帯電話などには、イメージセンサなどの光学的半導体素子を用いた半導体装置が搭載されている。この種の半導体装置は特許文献1などにも示されるように中空パッケージを用いて構成されている。
図6(a)は従来の半導体装置、図6(b)(c)は同半導体装置のパッケージ部分の構成を示す。半導体装置は、半導体素子1を、封止金型を用いて凹状に成型した樹脂パッケージ2内に搭載し、樹脂パッケージ2の凹部8内の周縁部から外方に引き出されたリード3の内端にAu線などの金属細線4によりボンディングし、樹脂パッケージ2の開口端にガラス板などの上蓋5を搭載しており、半導体素子1を樹脂パッケージ2と上蓋5とで形成される中空部に密封した構造である。
特開平6−125019公報
イメージセンサなどの光学的半導体素子を用いた半導体装置においては、外部の光学レンズ系と半導体素子との光軸合わせの観点から、半導体素子1および上蓋5を高精度で搭載する必要があり、そのために樹脂パッケージ2のダイアタッチ面6および蓋搭載面7を平坦にすることが最も重要である。しかし半導体装置を薄型化する目的で樹脂パッケージ2を薄型化しようとすると、樹脂厚みを薄くすることになって、樹脂強度が不十分になり、反りを生じ、ダイアタッチ面6や蓋搭載面7を平坦に形成することが困難になり、さらには樹脂パッケージ2の強度低下、防湿低下を招いてしまう。
本発明は上記問題を解決するもので、半導体素子および上蓋を高精度で搭載し、且つ従来に匹敵する強度および防湿性を備えた薄型の半導体装置を提供することを目的とするものである。またそのための樹脂パッケージを提供することを目的とするものである。
上記課題を解決するために、本発明の半導体装置は、凹状にモールドされ、その凹部内の周縁部から外方に配線が引き出された樹脂パッケージと、前記樹脂パッケージの凹部内に搭載され凹部内の配線にワイヤボンディングされた半導体素子と、前記樹脂パッケージの凹部の開口端を覆った上蓋とを有した半導体装置において、前記樹脂パッケージの凹部内が、半導体素子を搭載するダイアタッチ面が前記配線のボンディング面よりも高位置になるように形成されたことを特徴とする。
また本発明の半導体装置は、凹状にモールドされ、その凹部内の周縁部から外方に配線が引き出された樹脂パッケージと、前記樹脂パッケージの凹部内に搭載され凹部内の配線にワイヤボンディングされた半導体素子と、前記樹脂パッケージの凹部の開口端を覆った上蓋とを有した半導体装置において、前記樹脂パッケージの凹部内が、半導体素子を搭載するダイアタッチ面と前記配線のボンディング面とが同一平面内に位置するように形成され、ダイアタッチ面とボンディング面との間に溝が形成されたことを特徴とする。
上記した各構成は、半導体素子が光学的半導体素子であるときに特に好都合である。
本発明の樹脂パッケージは、凹状にモールドされ、その凹部内の周縁部から外方に配線が引き出された樹脂パッケージであって、前記凹部内が、半導体素子を搭載するダイアタッチ面が前記配線のボンディング面よりも高位置になるように形成されていることを特徴とする。
また本発明の樹脂パッケージは、凹状にモールドされ、その凹部内の周縁部から外方に配線が引き出された樹脂パッケージであって、凹部内は、半導体素子を搭載するダイアタッチ面と前記配線のボンディング面とが同一平面内に位置するように形成され、ダイアタッチ面とボンディング面との間に溝が形成されていることを特徴とする。
本発明の半導体装置および樹脂パッケージは、ダイアタッチ面をボンディング面よりも高位置にするか、あるいはダイアタッチ面をボンディング面と同一高さにするようにしたことにより、ダイアタッチ面の領域で樹脂厚みを確保しながら、樹脂パッケージ全体を薄型化することが可能になった。つまり、ダイアタッチ面がボンディング面よりも低位にあった従来構造に比べて、ダイアタッチ面よりも下側の樹脂厚みとボンディング面よりも上側の樹脂厚み(樹脂高さ)は従来と同等にしながら、樹脂パッケージ全体を従来よりも薄型化することが可能になったのである。樹脂厚みが従来と同等であれば、ダイアタッチ面や蓋搭載面の平坦性、またパッケージ強度、パッケージ防湿性は従来と同等に確保できる。このようにダイアタッチ面や蓋搭載面の平坦性を保ったままパッケージ形状を薄型化できるので、本発明の半導体装置を用いて光学モージュールを構成するときも、鏡筒と接する部分のパッケージ形状を変更する必要がない。ダイボンド材料がボンディング面に干渉するのは溝によって防止できる。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
図1(a)は本発明の第1実施形態における半導体装置の断面図である。
この半導体装置は、凹状にモールドされ、その凹部8内の周縁部から外方へと複数のリード3が引き出された樹脂パッケージ2Aと、前記樹脂パッケージ2Aの凹部8内に搭載され凹部8内のリード3にAu線などの金属細線4でワイヤボンディングされた光学的半導体素子1(以下、単に半導体素子1という)と、前記樹脂パッケージ2Aの凹部8の開口端を覆ったガラス板などの透光性材料からなる上蓋5とを有していて、半導体素子1を樹脂パッケージ2Aと上蓋5とで形成される中空部に密封した構造である。9はダイボンド材料、10は上蓋5のための封着樹脂である。
この半導体装置が先に図6を用いて説明した従来のものと相違するのは、樹脂パッケージ2Aの凹部8内が、半導体素子1を搭載するダイアタッチ面6がリード3のボンディング面11よりも高位置となるように形成されている点である。
詳細には、樹脂パッケージ2Aは、図1(b)(c)にそれぞれ断面図、上面図を示すように、基台12の周縁部分に四角枠状の外枠部13が立ち上がった形状である。基台12はその1対の対辺の近傍を除いて一段高く形成されており、その上面がダイアタッチ面6である。外枠部13はその端面が蓋搭載面7である。リード3は、基台12の前記1対の対辺の近傍と面一をなすように樹脂パッケージ2Aに一体にモールドされ、真っ直ぐに外方へ延びている。周知の如く、外枠部13の内側に露出している部分はインナーリード、外枠部2bの外側に露出している部分はアウターリードと呼ばれており、インナーリードの上面がボンディング面11である。
上記構成によれば、ダイアタッチ面6をボンディング面11よりも高位置にしたことにより、凹状の樹脂パッケージ2Aの底部の大部分を占めるダイアタッチ面6の領域で樹脂厚みを確保できる。つまり、ダイアタッチ面6をボンディング面11よりも低くしていた従来構造に比べて、ダイアタッチ面6よりも下側の樹脂厚みとボンディング面11よりも上側の樹脂厚み(樹脂高さ)を従来構造と同等寸法にしても、樹脂パッケージ2A全体を薄型化することが可能になる。樹脂厚みが従来構造と同等であれば、ダイアタッチ面6や蓋搭載面7の平坦性、またパッケージ強度、パッケージ吸湿性は従来構造と同等となる。
具体例を挙げて説明する。ダイアタッチ面6に搭載する半導体素子1の厚みとボンディング高さとの寸法和は、公差を含めて0.56mmであるものとする。半導体素子1は、その表面から上蓋5まで(すなわち外枠部13の蓋搭載面7まで)の距離の調整を要するものであれば、半導体素子1自体の厚みも考慮して選択される。
従来構造の樹脂パッケージ2において(図6参照)、パッケージ全体の厚みL1を2.0mm、ダイアタッチ面6よりも下側の樹脂厚みL2を0.72mm、ダイアタッチ面6とボンディング面11との段差L3を0.33mmとする。この場合、ボンディング面11よりも下側の樹脂厚みL4は(0.72+0.33=1.05)mm、ボンディング面11よりも上側の樹脂厚みL5は(2.0−1.05=0.95)mmである。
この従来構造の樹脂パッケージ2を、パッケージ全体の厚みL1を1.32mmに薄型化すべく、上下金型によるパーティングラインを中心に、ボンディング面11よりも下側および上側の樹脂厚みをそれぞれ0.34mm薄くする。この場合、ボンディング面11よりも下側の樹脂厚みL4は(1.05−0.34=0.71)mm、ボンディング面11よりも上側の樹脂厚みL5は(0.95−0.34=0.61)mmとなり、ダイアタッチ面6よりも下側の樹脂厚みL2は(0.71−0.33=0.38)mmと、かなり薄くなる。
これに対し、本発明の樹脂パッケージ2Aにおいて(図1参照)、薄型化後の従来構造の樹脂パッケージ2と同等の寸法L1、L4、L5にした場合、ダイアタッチ面6よりも下側の樹脂厚みL2は、ボンディング面11よりダイアタッチ面6を段差L3で示すように0.34mm高くすることで(0.38+0.34=0.72)mmとなり、薄型化前の従来構造の樹脂パッケージ2と同等の樹脂厚みを確保できる。
図2は、図1に示した樹脂パッケージ2Aの製造方法を説明する工程断面図である。
図2(a)に示すように、封止金型14(上型14a・下型14b)に、リード3を櫛歯状に形成したリードフレーム15をセットし、図2(b)に示すように封止金型14を閉じてリードフレーム15をクランプする。図2(c)に示すように、閉じた封止金型14に形成されるキャビティ16内にモールド樹脂17を注入する。その際には、予めポット内にセットされたタブレット(モールド樹脂)にプランジャーによって高い圧力、高い温度をかけて圧送する。図2(d)に示すようにキャビティ16内へのモールド樹脂17の注入が完了したら、その状態で硬化させる。
硬化終了後に、図2(e)に示すように封止金型14を開いてプリモールド体18を取り出す。プリモールド体18は、封止金型14の内面形状に沿ったものとなり、ダイアタッチ面6がボンディング面11よりも高く形成されるとともに、基台12のダイアタッチ面6およびその背面、外枠部13の蓋搭載面7が平坦に形成される。リードフレーム15の不要部を切り落とすと、樹脂パッケージ2Aの完成品が得られる。
図1に示した半導体装置は、プリモールド体18に対して、ダイアタッチ面6にダイボンド材料9を使用して半導体素子1をダイボンドし、半導体素子1上のパッドとリード3のボンディング面11とをAu線などの金属細線4を用いるインナーリードボンドにより接続し、外枠部13の蓋搭載面7に上蓋5を封着樹脂10で接着することにより製造する。
適当な封止金型14を用いることにより、図3(a)(b)(c)に示すように、樹脂パッケージ2Bに、ダイアタッチ面6とボンディング面11とを同一平面内に位置するように形成し、ダイアタッチ面6とボンディング面11との間に両者を仕切る方向の溝19を形成してもよい。
この樹脂パッケージ2Bでも、図1に示した樹脂パッケージ2Aと同様に、ダイアタッチ面6よりも下側の樹脂厚みを確保しながら、樹脂パッケージ2B全体を薄型化することが可能である。ダイアタッチ面6や上蓋搭載面7の平坦性、パッケージ強度、パッケージ吸湿性も確保できる。ダイアタッチ面6のダイボンド材料9がボンディング面11に干渉すること、つまりダイボンド材9がボンディング面11を汚染してボンダビリティを低下させることは、溝19によって防止することができる。上述したパッケージ2Aに同様に溝19を形成するのも好ましい。
なお、図1,図3に示した樹脂パッケージ2A,2Bはそれぞれ、DIP(Dual In-Line Package)、SOP(Small Outline Package)と呼ばれる、パッケージの隣り合わない二側面から配線が出ているタイプのものであるが、これらに限定されず、他のタイプの樹脂パッケージに上記したような凹部内構造を適用して半導体装置を構成しても同様の効果が得られる。
たとえば図4,図5に示した樹脂パッケージ2C,2Dはそれぞれ、QFN(Quad Flat Non-Leaded Package)、SON(Small Outline Non-Leaded Package)と呼ばれる、4つあるいは2つの側面に電極パッド20を備え、リードを持たないタイプのものであり、ダイアタッチ面6をボンディング面11よりも高くする構造を適用している。
本発明に係る半導体装置は、薄型イメージセンサなどとして構成して、携帯電話、デジタルカメラなどに搭載し、その小型化、薄型化を図るのに有用である。
本発明の一実施形態における半導体装置とそのための樹脂パッケージの構成図 図1の樹脂パッケージの製造方法を説明する工程断面図 本発明の他の実施形態における半導体装置とそのための樹脂パッケージの構成図 本発明のさらに他の実施形態における半導体装置とそのための樹脂パッケージの構成図 本発明のさらに他の実施形態における半導体装置とそのための樹脂パッケージの構成図 従来の半導体装置とそのための樹脂パッケージの構成図
符号の説明
1 半導体素子
2 樹脂パッケージ
3 リード
4 金属細線
5 上蓋
6 ダイアタッチ面
7 蓋搭載面
8 凹部
11 ボンディング面
19 溝

Claims (5)

  1. 凹状にモールドされ、その凹部内の周縁部から外方に配線が引き出された樹脂パッケージと、前記樹脂パッケージの凹部内に搭載され凹部内の配線にワイヤボンディングされた半導体素子と、前記樹脂パッケージの凹部の開口端を覆った上蓋とを有した半導体装置において、前記樹脂パッケージの凹部内は、半導体素子を搭載するダイアタッチ面が前記配線のボンディング面よりも高位置になるように形成された半導体装置。
  2. 凹状にモールドされ、その凹部内の周縁部から外方に配線が引き出された樹脂パッケージと、前記樹脂パッケージの凹部内に搭載され凹部内の配線にワイヤボンディングされた半導体素子と、前記樹脂パッケージの凹部の開口端を覆った上蓋とを有した半導体装置において、前記樹脂パッケージの凹部内は、半導体素子を搭載するダイアタッチ面と前記配線のボンディング面とが同一平面内に位置するように形成され、ダイアタッチ面とボンディング面との間に溝が形成された半導体装置。
  3. 半導体素子が光学的半導体素子であり、上蓋が透光性材料で形成されている請求項1または請求項2のいずれかに記載の半導体装置。
  4. 凹状にモールドされ、その凹部内の周縁部から外方に配線が引き出された樹脂パッケージであって、前記凹部内は、半導体素子を搭載するダイアタッチ面が前記配線のボンディング面よりも高位置になるように形成された樹脂パッケージ。
  5. 凹状にモールドされ、その凹部内の周縁部から外方に配線が引き出された樹脂パッケージであって、前記凹部内は、半導体素子を搭載するダイアタッチ面と前記配線のボンディング面とが同一平面内に位置するように形成され、ダイアタッチ面とボンディング面との間に溝が形成された樹脂パッケージ。
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