JP2006269539A - 電子部品の製造方法および電子部品の製造装置 - Google Patents

電子部品の製造方法および電子部品の製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 超音波併用の熱圧着を行う第1の導体に形成されたバンプ電極と第2の導体との間のボンディング工程において、超音波振動を発生させる超音波振動系のインピーダンスを検出し、インピーダンスの低下を検出するとボンディングを終了することとして、十分な接合強度を確保しつつ、より短い接合時間で接合を行うことによって生産性の向上を図ることができる電子部品の製造方法および電子部品の製造装置を提供する。
【解決手段】 第1の導体11上にバンプ電極11aを形成し、第1の導体11と対向する位置にバンプ電極11aを介して第2の導体12を載置し、バンプ電極11aと第2の導体12との間に超音波振動を併用した熱圧着を行うボンディングを開始するとともに、ボンディングにおいて超音波振動を発生させる超音波振動系5のインピーダンスを検出し、超音波振動系5のインピーダンスの低下を検出するとボンディングを終了する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、電子部品の製造方法および電子部品の製造装置に関する。
半導体等の電子部品の基板に形成された電極と配線基板の基板に形成された電極とをバンプを介して接合する方法の一例であるフリップチップボンディングは、実装面積が小さく、また、回路の配線長が短いという特徴があり、高密度実装や高周波デバイスの実装に適している。フリップチップボンディングの方式としては、近年形成プロセスが比較的容易である金ボールバンプ(以下、適宜「バンプ」或いは、「バンプ電極」と表記する。)を用いた開発例が増加している。
電子部品の基板に形成された電極とバンプとの接合には、導電ペーストなど中間材を介する方法や熱圧着、超音波併用熱圧着により直接接合する方法などがある(特許文献1参照)。熱圧着、超音波併用熱圧着の方法は工程数が少なく、中間材が不要であり、さらに接合時間が短くなるため、実装コストを低減することができるメリットがある。
特開平08−330880号公報
しかしながら、上述のフリップチップボンディングを用いた電子部品の製造方法および電子部品の製造装置には以下のような問題があった。
フリップチップボンディングを行う時間、すなわち接合時間を横軸にとり、電子部品の基板に形成された電極とバンプとの接合強度を縦軸にとって、両者の関係を示したグラフ(図11)によれば、フリップチップボンディングをある時間をかけて行えば、一定の接合強度が得られるとともに、所定の時間経過後は接合強度が飽和状態になることがわかる。例えば、図11では一点鎖線101で示されるボンディング工程において、接合強度が飽和状態となる時間を接合時間100としている。この接合時間100は、電子部品の基板に形成された電極の材料やバンプの材料等、様々な条件を考慮して十分な接合強度が得られると判断された接合時間である。従って、通常この接合時間100を経過すれば十分な接合強度に達したと判断することができ、ボンディング工程は終了する。
この接合時間100を基準として一定の接合強度が得られるまでにかかる時間を比較してみると、点線102で表わされたボンディング工程の場合は、電子部品の基板に形成された電極とバンプとの接合の進行が早く進んでいるが、点線103で表わされたボンディング工程の場合は両者の接合の進行は遅い。このように接合の進行状態にバラツキが出るのは、例えば電子部品の裏面状態、バンプ形成状態、フレームの固定状態等によって電極とバンプとの接合の進行状態が左右されるからである。
点線102で表わされた場合は、接合が飽和しているにも拘わらず接合時間100に達するまでの間ボンディング工程が継続されるため、タクトタイムが長くなってしまい生産性が低下する。一方、点線103で表わされた場合は、ボンディングが十分に行われていないにも拘わらずボンディング工程が終了してしまうことになり、接合不良が発生して歩留まりが低下するおそれがある。
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、本発明の目的は、超音波併用の熱圧着を行う第1の導体に形成されたバンプ電極と第2の導体との間のボンディング工程において、超音波振動を発生させる超音波振動系のインピーダンスを検出し、インピーダンスの低下を検出するとボンディングを終了することとして、十分な接合強度を確保しつつ、より短い接合時間で接合を行うことによって生産性の向上を図ることができる電子部品の製造方法および電子部品の製造装置を提供することである。
本発明の実施の形態に係る第1の特徴は、電子部品の製造方法において、第1の導体上にバンプ電極を形成する工程と、この第1の導体と対向する位置にバンプ電極を介して第2の導体を載置する工程と、バンプ電極と第2の導体との間に超音波振動を併用した熱圧着を行うボンディングを開始する工程と、このボンディングにおいて超音波振動を発生させる超音波振動系のインピーダンスを検出する工程と、超音波振動系のインピーダンスの低下を検出するとボンディングを終了する工程とを備える。
本発明の実施の形態に係る第2の特徴は、電子部品の製造装置において、第1の導体を載置するステージと、第2の導体を保持するボンディングツールと、第1の導体と第2の導体との間をバンプ電極を介して加熱し圧着する熱圧着手段と、ボンディングツールに連結された超音波振動系と、超音波振動系のインピーダンスを検出するインピーダンス検出手段と、インピーダンスの低下に基づきボンディングを終了する制御手段とを備える。
本発明によれば、超音波併用の熱圧着を行う第1の導体に形成されたバンプ電極と第2の導体との間のボンディング工程において、超音波振動を発生させる超音波振動系のインピーダンスを検出し、インピーダンスの低下を検出するとボンディングを終了することとして、十分な接合強度を確保しつつ、より短い接合時間で接合を行うことによって生産性の向上を図ることができる電子部品の製造方法および電子部品の製造装置を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図1に示すように、本発明の第1の実施の形態に係る電子部品の製造装置1は、第1の導体11を載置するステージ2と、第2の導体12を形成したチップ12aを保持するボンディングツール3と、ステージ2内にあって第1の導体11を加熱する加熱部4aと第1の導体11と第2の導体12との間を圧着する上下動機構4bとから構成される熱圧着手段4と、ボンディングツール3に連結された超音波振動系5と、超音波振動系5のインピーダンスを検出するインピーダンス検出手段6と、検出したインピーダンスの低下に基づいて熱圧着の処理を終了する制御手段7とから構成される。さらに、ステージ2に載置される第1の導体11とボンディングツール3に保持される第2の導体12との接合位置を正確に決めるために用いられるカメラ8a、8bが設けられている。
ステージ2には第1の導体11が固定されて載置される。そして、熱圧着が行われる際には、このステージ2が図1に示すX方向或いはY方向に移動し、第2の導体12との間で熱圧着する場所がずれることのないように正確に位置決めがなされる。また、後述するように、ステージ2内には第1の導体11を加熱する加熱部4aを備えている。
ボンディングツール3は、チップ12aを吸着保持する。本実施形態においては、図示しないフレキシブルなホースがボンディングツール3に接続されている。さらにこのホースには図示しない排気装置が接続されており、この排気装置がホース内の空気を排気することで、ボンディングツール3はチップ12aを吸着保持する。
熱圧着手段4は、第1の導体11と第2の導体12との間を後述するバンプ電極11aを介して熱圧着するための手段である。加熱部4aは、ステージ2内に設けられており、第1の導体11を加熱する。また、上下動機構4bは、後述する超音波ホーン5aを図1に示すZ方向に沿って上下に移動させるように駆動する。超音波ホーン5aがこのように移動することで、第1の導体11と第2の導体12を加熱し、圧着することができる。
超音波振動系5は、ボンディングツール3と連結されている超音波ホーン5aと、この超音波ホーン5aに超音波を与える超音波発振器5bとを備えている。超音波発振器5bによって発振された超音波は、超音波ホーン5aを介してボンディングツール3に吸着保持されているチップ12a上の第2の導体12とバンプ電極11a、第1の導体11とに印加される。
インピーダンス検出手段6は、超音波発振器5bに接続され、超音波振動系5のインピーダンスを検出する。これは、本実施形態においては、インピーダンス検出手段6内に、印加された超音波の電流値及び電圧値を計測する計測手段(図示せず。)が設けられており、計測された電流値及び電圧値からインピーダンスの値を求める。このようにして求められたインピーダンスの値からインピーダンスの低下を検出する。
制御手段7は、インピーダンス検出手段6によりインピーダンスの低下が検出された場合に、ボンディングを終了させる制御を行う。また、超音波ホーン5aを上下動機構4bを介して図1に示すZ方向に沿って移動するように駆動させる制御や超音波発振器5bに超音波発振の開始、終了を指示する制御を行う。
次に、このように構成された電子部品の製造装置1を用いてフリップチップボンディングを行う工程を図2ないし図6を用いて説明する。
まず、第1の導体11にバンプ電極を形成する工程を説明する。図2に示されているように、第1の導体11上にはバンプ電極11aが形成される途上にある。本実施形態においては、バンプ電極11aとして金ボールバンプを用いている。このバンプ電極11aは、キャピラリ21内を貫通する図示しない金ワイヤを放電により溶融し、金ボール22を形成する。そしてキャピラリ21でこの金ボール22を第1の導体11上に加圧し、同時に超音波を印加して接合する。その後金ワイヤを引きちぎりバンプ電極11aを形成する。本実施形態においては第1の導体11にバンプ電極11aを形成したが、第2の導体12側にバンプを形成してもかまわない。
なお、本実施形態において、導体とは、チップ上の電極、配線基板上の電極、或いはリード等を指す。そして本実施形態においては、第2の導体12は、チップ12aに形成されている。
第1の導体11上にバンプ電極11aが形成されると、図3の模式図に示すように、次に第2の導体12とバンプ電極11aを接合する工程に入る。
チップ12aには予め第2の導体12が形成されて、この第2の導体12が形成された面が下を向くようにボンディングツール3によってチップ12aが保持されている。図1に示したカメラ8a、8bを用いて、チップ12aに設けられた第2の導体12の位置と接合の対象となるバンプ電極11aの位置とをステージ2を移動させることで行う。それとともに、ステージ2の上に載置する第1の導体11を200℃に加熱する。図1に示した上下動機構4bを介して超音波ホーン5aをZ方向に上下に移動させて、チップ12aとバンプ電極11aを接触させ、さらに1.25(N・bump)で荷重を負荷する。同時に超音波発振器5bが発生させた超音波を超音波ホーン5a、ボンディングツール3とチップ12aを介して第2の導体12とバンプ電極11aの接合界面に出力1Wで印加する。
次に、第2の導体12とバンプ電極11aとが接合していく過程を図4を用いて説明する。第2の導体12はチップ12aにすでに接合されており、その接合強度は十分である。また、バンプ電極11aと第1の導体11との間も同様に十分な接合強度をもって接合されている。この第2の導体12はバンプ電極11aに対して上方から接合されることから、チップ12aは、上述のようにボンディングツール3よって第2の導体12が形成された面を下にして吸着保持されている。すなわち、チップ12aはバンプ電極11aとの接合に際して少なくとも落下しない程度の吸着力でボンディングツール3に保持されていることになる。一方、第2の導体12とバンプ電極11aとは、両者の接合工程を開始したばかりのときは未だ接合をしていないため、両者の接合強度は非常に弱い状態である。
超音波が図4に示すUの方向に印加されると、その振動がボンディングツール3、チップ12a、第2の導体12、バンプ電極11a、第1の導体11の全てに伝わることになる。そのため、それぞれ接触する部分のうち最も接合状態が弱い部分が超音波の振動により動くことになる。つまり接合工程を開始した直後は、上述のように図4のAに示す部分(ボンディングツール3とチップ12aと第2の導体12)とBに示す部分(バンプ電極11aと第1の導体11)との間にある第2の導体12とバンプ電極11aとの間の接合が最も弱いため、この部分において両者が接触しつつ互いに動いている状態になる。
ボンディングの時間が経過することにより、次第に第2の導体12とバンプ電極11aとの間の接合強度は増してくる。それに伴って、第1の導体11、バンプ電極11a、第2の導体12、チップ12aとは互いに十分な強度を持って接合される。チップ12aとボンディングツール3との間は、上述のように第2の導体12とバンプ電極11aとを接合するに際して少なくとも落下しない程度の吸着力で保持されているに過ぎない。そのため、第2の導体12とバンプ電極11aとが十分な強度を持って接合されてくると、一定の強度、すなわち接合強度が飽和状態になったときを境にして、超音波が印加されることによって動く部分はこれまでの第2の導体12とバンプ電極11aとの間ではなく、チップ12aとボンディングツール3との間の部分となる。図5に示すようにA’に示す部分(ボンディングツール3)とB’に示す部分(チップ12aと第2の導体12とバンプ電極11aと第1の導体11)との間部分において両者が接触しつつ互いに動いている状態になる。
上述の状態変化を、印加される超音波のインピーダンスの変化という観点から見てみると以下のようになる。すなわち、第2の導体12とバンプ電極11aとの接合を開始する前或いは開始直後は、ボンディングツール3はチップ12aを保持しているため、ボンディングツール3には大きな負荷がかかっている。従って、所定の振幅の超音波を印加しようとするならば、ボンディングツール3に負荷がかかっていない場合と比べてより大きなパワー(所定の振幅を得るための力)が必要となり、インピーダンスも高い値を示す。さらに接合が進んで第2の導体12とバンプ電極11aとの接合強度が飽和状態になると、印加された超音波の振動により動く部分は、上述のようにボンディングツール3とチップ12aとの間となる。この状態においてボンディングツール3にかかる負荷は、接合開始時よりも小さくなっている。そのため接合当初と同じ超音波を印加するのに必要なパワーは、接合強度が飽和状態になった時点で接合開始当初に比べて小さくなり、インピーダンスの値も低下する。
このことを図6を用いて説明する。図6では横軸にボンディングを行う時間をとり、接合強度とインピーダンスとの関係を明らかにするために縦軸に両者を上下に並べて示している。図6によれば、ボンディングを行う時間が経過するに従って接合強度は増していくことがわかる。そして接合強度が飽和状態となる時点を接合時間31とすると、接合時間31の時点以降は一定の接合強度以上とはならない。一方、ボンディングを行う時間に対するインピーダンス値の変化を見ると、接合時間31の時点以降は、接合開始時点よりもインピーダンスの値が低下している。すなわち、接合強度とインピーダンスの関係は、接合時間31の時点を境に、接合強度は飽和状態に移行し、インピーダンス値は接合開始当初の値よりも低下し、これ以上超音波を印加しても接合強度が増すことはない、という関係がある。
従って、インピーダンス値を計測しその値が低下した時点以降は、接合強度が飽和状態となり十分な接合強度が得られていることになるため、インピーダンス値の低下をインピーダンス検出手段6で検出したことをもって熱圧着によるボンディング工程を終了する。なお、ボンディングの工程が終了すると、モールド工程、ホーニング工程、リードめっき工程、リードカット工程を経て、電子部品は完成となる。
このようにして、熱圧着によるボンディング工程において印加される超音波のインピーダンス値と、第2の導体12とバンプ電極11aとの接合強度との間には上述のような関係があることから、インピーダンス値を計測することで、ボンディング工程を終了する時機を簡易に知ることが可能となる。従って、接合時間が短いことに起因する接合強度の不足や接合時間が長くなることに起因してタクトタイムが長くなることを防止することができるため、十分な接合強度を確保しつつ、より短い接合時間で接合を行うことによって生産性を向上させることができる。
(第2の実施の形態)
次に本発明の第2の実施の形態について説明する。なお、第2の実施の形態において、上述の第1の実施の形態において説明した構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付し、同一の構成要素の説明は重複するので省略する。
本実施形態は、超音波を印加する時間として所定の時間を設定し、この所定の超音波印加時間内にインピーダンスの低下をインピーダンス検出手段6で検出できた場合は、第2の導体12とバンプ電極11aとの接合が十分になされ、所望の接合強度を得た状態にあると判断する。一方、上記所定の時間内にインピーダンスの低下が検出されなかった場合は、第2の導体12とバンプ電極11aとの接合が十分になされておらず、不良であると判断する。なお、この接合の良否は、例えば制御手段7にインストールされたソフトを用いて判断される。
ここで所定の時間とは、第1の導体11や第2の導体12、バンプ電極11a等の材質等、様々な条件を考慮して算出された時間である。従って、この時間があれば十分な接合強度をもって第2の導体12とバンプ電極11aとを接合することができる時間のことであり、良品と不良品とを選別するために用いられる。そこで、以下、この所定の時間を選別時間という。
本実施形態においては、図7に示すように、制御手段7に時間測定手段7aを有している。この時間測定手段7aは、例えばカウンタ等のように、ボンディングの経過時間が設定された選別時間に達したか否かを測定するものである。
このバンプ電極11aと第2の導体12との接合の良否を判定する工程を図8のフローチャート及び図9、図10のグラフを使用して詳細に説明する。すなわち、まず、上述した選別時間を設定する(ST1)。これば、例えば、図9における選別時間41、或いは図10における選別時間51である。
次にボンディングを開始することになるが(ST2)、このボンディングの開始と同時に、インピーダンス検出手段6によってインピーダンスの検出を開始し(ST3)、ボンディングの経過時間も時間測定手段7aによって測定を開始される(ST4)。
時間測定手段7aによって測定されたボンディングの経過時間が、図9に示す選別時間41内にある場合であって、インピーダンス検出手段6によってインピーダンスの低下を検出した場合は(ST5のY、ST6のY)、ボンディングが良好に行われたと判断して(ST7)、ボンディングを終了する(ST8)。この場合は、選別時間41内にインピーダンス検出手段6によってインピーダンス値の低下を測定することができたため、バンプ電極11aと第2の導体12との接合強度は飽和状態に達し、両者が十分な接合強度をもって接合されたと判断できる。
一方、ボンディングの経過時間が図10に示す選別時間51を越えて、しかも未だインピーダンス検出手段6によってインピーダンスの低下を検出しない場合は(ST5のN、ST6のN)、ボンディング不良と判断して(ST9)、ボンディングを中断する(ST10)。この場合は、選別時間51内にインピーダンス検出手段6によってインピーダンス値の低下を測定できず、バンプ電極11aと第2の導体12とは未だ十分な接合強度をもって接合されていないと判断できるため、製造された電子部品は不良品であると判断する。このように判断された場合は、電子部品の製造装置を止めて、不良品が発生したことを製造装置のオペレータに知らせ、不良品を取り除く。
このようにして、熱圧着による接合工程において印加される超音波のインピーダンス値と、第2の導体12とバンプ電極11aとの接合強度との間には、接合強度の飽和する時点でインピーダンス値も低下するという関係があることから、選別時間を設け、この時間内にインピーダンス値の低下を測定できるか否かで、第2の導体12とバンプ電極11aとの接合の良否を判定することが可能となる。従って、簡易な方法により電子部品の製造について歩留まりの向上を図ることができ、生産性の向上につなげることができる。
本発明の第1の実施の形態に係る電子部品の製造装置を示す構成図である。 第1の導体にバンプを形成する工程を説明する模式図である。 チップ電極とバンプとの接合工程を説明する製造装置の部分拡大図である。 印加された超音波の振動により動く部分を説明する部分拡大図である。 印加された超音波の振動により動く部分を説明する部分拡大図である。 ボンディング時間に対応する接合強度とインピーダンスの値との関係を示すグラフである。 本発明の第2の実施の形態に係る電子部品の製造装置を示す構成図である。 本発明の第2の実施の形態に係る電子部品の製造方法を説明するフローチャートである。 ボンディング時間に対応する接合強度とインピーダンスの値との関係を示すグラフである。 ボンディング時間に対応する接合強度とインピーダンスの値との関係を示すグラフである。 ボンディング時間と接合強度との関係を示すグラフである。
符号の説明
1…電子部品の製造装置、2…ステージ、3…ボンディングツール、4…熱圧着手段、4a…加熱部、4b…上下動機構、5…超音波振動系、5a…超音波ホーン、5b…超音波発振器、6…インピーダンス検出手段、7…制御手段、8…カメラ、11…第1の導体、11a…バンプ電極、12…第2の導体、12a…チップ

Claims (4)

  1. 第1の導体上にバンプ電極を形成する工程と、
    前記第1の導体と対向する位置に前記バンプ電極を介して第2の導体を載置する工程と、
    前記バンプ電極と第2の導体との間に超音波振動を併用した熱圧着を行うボンディングを開始する工程と、
    前記ボンディングにおいて前記超音波振動を発生させる超音波振動系のインピーダンスを検出する工程と、
    前記超音波振動系のインピーダンスの低下を検出すると前記ボンディングを終了する工程と、
    を備えたことを特徴とする電子部品の製造方法。
  2. 前記ボンディングの良否の選別時間を設定する工程と、
    前記ボンディングの経過時間を測定する工程と、
    前記ボンディングの経過時間が前記選別時間内において、前記超音波振動系のインピーダンスの低下を検出した場合、前記ボンディングを良好と判断する工程と、
    前記ボンディングの経過時間が前記選別時間を越えても前記超音波振動系のインピーダンスの低下を検出しない場合、前記ボンディングを不良と判断する工程と、
    を更に備えたことを特徴とする請求項1に記載の電子部品の製造方法。
  3. 第1の導体を載置するステージと、
    第2の導体を保持するボンディングツールと、
    前記第1の導体と前記第2の導体との間をバンプ電極を介して加熱し圧着する熱圧着手段と、
    前記ボンディングツールに連結された超音波振動系と、
    前記超音波振動系のインピーダンスを検出するインピーダンス検出手段と、
    前記インピーダンスの低下に基づきボンディングを終了する制御手段と、
    を備えることを特徴とする電子部品の製造装置。
  4. 前記ボンディングの良否の選別時間を設定する選別時間設定手段と、
    前記ボンディングの経過時間を測定する時間測定手段と、
    前記ボンディングの経過時間が前記選別時間内において前記超音波振動系のインピーダンスの低下を検出した場合、前記ボンディングを良好と判断し、前記選別時間を越えてもインピーダンスの低下を検出しない場合、前記ボンディングを不良と判断するボンディング良否判定手段と、
    を更に備えることを特徴とする請求項3に記載の電子部品の製造装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7591409B2 (en) * 2005-06-13 2009-09-22 Panasonic Corporation Semiconductor device bonding apparatus and method for bonding semiconductor device using the same

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