JP2006264017A - Lamination method of laminate and laminator therefor - Google Patents

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和芳 末原
Mitsutoshi Tanaka
光利 田中
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently laminate a laminate to a substrate by a simple process and a simple constitution while preventing the mixing with air bubbles to the utmost. <P>SOLUTION: This laminator 20 of the laminate is equipped with a pressing mechanism 42 for pressing a photosensitive resin layer, which is protruded by peeling a protective film 30 from a photosensitive web 22, to a glass substrate 24 and a hot press bonding mechanism 43 for bonding the photosensitive resin layer and the glass substrate 24 under heating and pressure. The pressing mechanism 42 is constituted so as to press the photosensitive web 22 to the glass substrate 24 under a temperature condition lower than the melting temperature of the photosensitive resin layer and softening a cushioning layer and the hot press bonding mechanism 43 performs the hot press bonding of the photosensitive web 22 and the glass substrate 24 under a melting temperature condition. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、少なくとも感光性樹脂層と熱可塑性樹脂層とが積層された積層体を、前記感光性樹脂層側が基板に向かうように前記基板に接合する積層体のラミネート方法及びラミネート装置に関する。   The present invention relates to a laminate laminating method and laminating apparatus for joining a laminate in which at least a photosensitive resin layer and a thermoplastic resin layer are laminated to the substrate so that the photosensitive resin layer side faces the substrate.

例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、PDPパネル用基板では、感光性樹脂(色材)層を有する感光性シート体(感光性ウエブ)を基板表面に貼り付けて構成されている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光性樹脂層と保護フイルムとが、順次、積層されている。   For example, in a liquid crystal panel substrate, a printed wiring substrate, and a PDP panel substrate, a photosensitive sheet (photosensitive web) having a photosensitive resin (coloring material) layer is attached to the substrate surface. In the photosensitive sheet body, a photosensitive resin layer and a protective film are sequentially laminated on a flexible plastic support.

そこで、この種の感光性シート体の貼り付けに使用される貼付装置は、通常、ガラス基板や樹脂基板等の基板を所定の間隔ずつ離間させて搬送するとともに、前記感光性シート体から保護フイルムを剥離した後、前記基板に感光性樹脂層を貼り付ける方式が採用されている。   Therefore, a pasting apparatus used for pasting this type of photosensitive sheet body usually transports a substrate such as a glass substrate or a resin substrate spaced apart by a predetermined distance, and also protects the protective film from the photosensitive sheet body. After peeling off, a method of sticking a photosensitive resin layer to the substrate is employed.

上記の貼付装置では、通常、一対のラミネートロールを備えており、前記ラミネートロールが誘導加熱等によって所定の温度に加熱されている。このため、ラミネートロールにより挟持される感光性シート体と基板とが熱圧着されている。しかしながら、感光性樹脂層の加熱と基板への熱圧着とが同時に行われているため、前記基板に貼り付けられた感光性シート体に皺や弛み、あるいは、気泡の混入が発生するという問題がある。   The above-mentioned sticking apparatus usually includes a pair of laminate rolls, and the laminate rolls are heated to a predetermined temperature by induction heating or the like. For this reason, the photosensitive sheet | seat body and board | substrate clamped by the lamination roll are thermocompression-bonded. However, since the heating of the photosensitive resin layer and the thermocompression bonding to the substrate are performed at the same time, there is a problem that wrinkles, slack, or air bubbles are mixed in the photosensitive sheet attached to the substrate. is there.

そこで、例えば、特許文献1に開示されているフイルム貼付装置では、積層体フイルム及び基板を挟み込んで送りつつ、熱圧着温度でこれらを熱圧着する一対のラミネーティングロールの上流側に、一対の予備接着ロールが設けられている。この予備接着ロールは、外周に弾性材料が積層され、積層体フイルムと基板とを挟み込んで送りつつ、これらを熱圧着温度よりも低い温度で圧着して予備接着を行っている。その際、予備接着ロールは、ロール表面のフイルムを介して基板に接触して平面状に弾性変形する範囲が、基板搬送方向に5mm以下となるように構成されている。   Therefore, for example, in the film sticking device disclosed in Patent Document 1, a pair of preliminary films is disposed upstream of a pair of laminating rolls that sandwich and send the laminate film and the substrate and thermocompress them at the thermocompression bonding temperature. An adhesive roll is provided. This pre-adhesion roll has an elastic material laminated on the outer periphery, and presses and adheres these at a temperature lower than the thermocompression bonding temperature while sandwiching and feeding the laminate film and the substrate. At this time, the pre-adhesion roll is configured such that the range of elastic deformation in a planar shape by contacting the substrate via the film on the roll surface is 5 mm or less in the substrate transport direction.

特開2000−85011号公報(図1)JP 2000-85011 A (FIG. 1)

ところで、感光性シート体(積層体)フイルムでは、ベースフイルム(支持層)上に熱可塑性樹脂層(以下、クッション層ともいう)と感光性樹脂層とを積層して構成されている。その際、感光性樹脂層及びクッション層は、温度の上昇によって粘度が低下して軟化し、前記感光性樹脂層が活性化温度(溶融温度)に加熱されることによって基板に熱圧着されている。   By the way, the photosensitive sheet (laminate) film is formed by laminating a thermoplastic resin layer (hereinafter also referred to as a cushion layer) and a photosensitive resin layer on a base film (support layer). At that time, the photosensitive resin layer and the cushion layer are softened by decreasing the viscosity with an increase in temperature, and the photosensitive resin layer is thermocompression bonded to the substrate by being heated to the activation temperature (melting temperature). .

このため、感光性シート体を予備接着ロールで予備加熱する際、この予備接着ロールの温度が低いと、感光性樹脂層の粘度及びクッション層の粘度が高くなる場合がある。これにより、感光性樹脂層及びクッション層は、可撓性が低下し、前記感光性樹脂層が基板の凹凸形状に追随することができず、気泡が混入するという問題がある。   For this reason, when preliminarily heating the photosensitive sheet body with the pre-adhesion roll, if the temperature of the pre-adhesion roll is low, the viscosity of the photosensitive resin layer and the viscosity of the cushion layer may increase. Thereby, the photosensitive resin layer and the cushion layer have a problem that flexibility is lowered, the photosensitive resin layer cannot follow the uneven shape of the substrate, and bubbles are mixed therein.

しかも、感光性樹脂層の粘度が高いために、十分な粘着性が得られず、基板との密着が不完全となる。このため、例えば、ベースフイルムを剥離する際に、このベースフイルムをクッション層との界面で確実に剥離することができず、剥離不良が発生し易い。   And since the viscosity of the photosensitive resin layer is high, sufficient adhesiveness cannot be obtained, and adhesion | attachment with a board | substrate becomes incomplete. For this reason, for example, when the base film is peeled off, the base film cannot be reliably peeled off at the interface with the cushion layer, and a peeling failure tends to occur.

本発明はこの種の問題を解決するものであり、簡単な工程及び構成で、気泡の混入を可及的に阻止することができ、積層体を基板に効率的且つ良好にラミネートすることが可能な積層体のラミネート方法及びラミネート装置を提供することを目的とする。   The present invention solves this type of problem, and with a simple process and configuration, it is possible to prevent air bubbles from entering as much as possible, and the laminate can be efficiently and satisfactorily laminated on the substrate. An object of the present invention is to provide a laminating method and laminating apparatus for a laminate.

本発明は、少なくとも感光性樹脂層と熱可塑性樹脂層とが積層された積層体を、前記感光性樹脂層側が基板に向かうように前記基板に熱圧着する積層体のラミネート方法及びラミネート装置である。   The present invention is a laminate laminating method and laminating apparatus in which a laminate in which at least a photosensitive resin layer and a thermoplastic resin layer are laminated is thermocompression-bonded to the substrate so that the photosensitive resin layer side faces the substrate. .

そして、先ず、感光性樹脂層の溶融温度以下で且つ熱可塑性樹脂層が軟化する温度条件下で、積層体と基板とが加圧された後、前記溶融温度条件下で、前記積層体と前記基板とが熱圧着される。ここで、加圧とは、非溶融状態の感光性樹脂層が基板に圧接されてこの基板上に密着される状態をいう一方、熱圧着とは、溶融状態(活性化状態)の前記感光性樹脂層が前記基板に接着される状態をいう。   First, after the laminate and the substrate are pressed under a temperature condition that is equal to or lower than the melting temperature of the photosensitive resin layer and the thermoplastic resin layer is softened, under the melting temperature condition, the laminate and the The substrate is thermocompression bonded. Here, pressurization refers to a state in which a non-molten photosensitive resin layer is pressed against and in close contact with the substrate, and thermocompression bonding refers to the photosensitive state in a molten state (activated state). A state in which the resin layer is bonded to the substrate.

また、少なくとも第1工程(加圧機構)又は第2工程(熱圧着機構)のいずれかは、多段に設定されることが好ましい。   Moreover, it is preferable that at least one of the first step (pressure mechanism) or the second step (thermocompression bonding mechanism) is set in multiple stages.

さらに、第1工程(加圧機構)と第2工程(熱圧着機構)との間に、少なくとも積層体又は基板のいずれかを、溶融温度未満の温度条件下で予熱することが好ましい。   Furthermore, it is preferable to preheat at least either the laminate or the substrate under a temperature condition lower than the melting temperature between the first step (pressure mechanism) and the second step (thermocompression mechanism).

本発明では、積層体と基板とが加圧される際、感光性樹脂層は、溶融温度以下であるために所定の剛性を有する一方、熱可塑性樹脂層は、軟化している。従って、熱可塑性樹脂層は、柔軟性(可撓性)が向上し、感光性樹脂層は、前記熱可塑性樹脂層の変形作用下に基板表面の形状(凹凸パターン)に倣って前記基板に確実に重なり合い、気泡の残存を良好に阻止することができる。   In the present invention, when the laminate and the substrate are pressed, the photosensitive resin layer has a predetermined rigidity because it is below the melting temperature, while the thermoplastic resin layer is softened. Therefore, the thermoplastic resin layer is improved in flexibility (flexibility), and the photosensitive resin layer is reliably attached to the substrate following the shape of the substrate surface (uneven pattern) under the deformation action of the thermoplastic resin layer. It is possible to satisfactorily prevent bubbles from remaining.

次いで、積層体と基板とが熱圧着される際、感光性樹脂層は、溶融温度条件下で活性化しており、粘度が低下している。このため、感光性樹脂層は、所望の粘着性を有し、基板に対して確実に接着することが可能になる。   Next, when the laminate and the substrate are thermocompression bonded, the photosensitive resin layer is activated under the melting temperature condition, and the viscosity is reduced. For this reason, the photosensitive resin layer has desired adhesiveness and can be reliably bonded to the substrate.

これにより、積層体と基板とは、気泡の残存を確実に阻止して高品質なラミネート処理が遂行されるとともに、生産効率の向上を図ってラミネート作業の高速化が容易になされる。   As a result, the laminate and the substrate are reliably prevented from remaining bubbles and are subjected to high-quality laminating processing, and the production efficiency is improved to facilitate the speeding up of the laminating operation.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る感光性積層体の製造装置(ラミネート装置)20の概略構成図である。この製造装置20は、プリント配線用基板、液晶、PDP又は有機EL用カラーフィルタ等の製作工程で、長尺状感光性ウエブ22の感光性樹脂層29(後述する)をガラス基板24に熱転写(ラミネート)する作業を行う。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a photosensitive laminate manufacturing apparatus (laminating apparatus) 20 according to the first embodiment of the present invention. The manufacturing apparatus 20 thermally transfers a photosensitive resin layer 29 (described later) of a long photosensitive web 22 to a glass substrate 24 in a manufacturing process of a printed wiring board, a liquid crystal, a PDP, an organic EL color filter, or the like. Lamination).

図2は、製造装置20に使用される感光性ウエブ22の断面図である。この感光性ウエブ22は、可撓性ベースフイルム(支持層)26、クッション層(熱可塑性樹脂層)27、中間層(酸素遮断膜)28、感光性樹脂層29及び保護フイルム30を積層して構成される。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the photosensitive web 22 used in the manufacturing apparatus 20. This photosensitive web 22 is formed by laminating a flexible base film (support layer) 26, a cushion layer (thermoplastic resin layer) 27, an intermediate layer (oxygen barrier film) 28, a photosensitive resin layer 29, and a protective film 30. Composed.

ベースフイルム26は、ポリエチレンテレフタレート(PET)で形成され、クッション層27は、エチレンと酸化ビニル共重合体で形成され、中間層28は、ポリビニルアルコールで形成され、感光性樹脂層29は、アルカリ可溶性バインダとモノマーと光重合開始材と着色剤を含む着色感光性樹脂組成物で形成され、保護フイルム30は、ポリプロピレンで形成される。   The base film 26 is formed of polyethylene terephthalate (PET), the cushion layer 27 is formed of ethylene and vinyl oxide copolymer, the intermediate layer 28 is formed of polyvinyl alcohol, and the photosensitive resin layer 29 is alkali-soluble. It is formed of a colored photosensitive resin composition containing a binder, a monomer, a photopolymerization initiator, and a colorant, and the protective film 30 is formed of polypropylene.

図1に示すように、製造装置20は、感光性ウエブ22をロール状に巻回した感光性ウエブロール22aを収容し、この感光性ウエブロール22aから前記感光性ウエブ22を送り出すウエブ送り出し機構32と、前記感光性ウエブ22から保護フイルム30を連続して剥離させる剥離機構34と、前記感光性ウエブ22の表面に露呈する感光性樹脂層29に、送り出し方向(矢印A方向)に所定の間隔ずつ離間してマスキングテープ36を貼り付けるマスキングテープ貼付機構38と、ガラス基板24を所定の温度に加熱した状態で接合位置に搬送する基板搬送機構40と、前記保護フイルム30の剥離により露出した感光性樹脂層29と前記ガラス基板24とを加圧する加圧機構42と、前記感光性樹脂層29を前記ガラス基板24に熱圧着する熱圧着機構43とを備える。   As shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus 20 accommodates a photosensitive web roll 22a in which a photosensitive web 22 is wound in a roll shape, and a web feed mechanism 32 that feeds the photosensitive web 22 from the photosensitive web roll 22a. And a peeling mechanism 34 for continuously peeling the protective film 30 from the photosensitive web 22 and a photosensitive resin layer 29 exposed on the surface of the photosensitive web 22 at a predetermined interval in the delivery direction (arrow A direction). A masking tape attaching mechanism 38 for attaching the masking tape 36 at a distance from each other, a substrate transport mechanism 40 for transporting the glass substrate 24 to a bonding position while being heated to a predetermined temperature, and a photosensitive film exposed by peeling off the protective film 30. A pressure mechanism 42 that pressurizes the photosensitive resin layer 29 and the glass substrate 24, and heats the photosensitive resin layer 29 to the glass substrate 24. And a thermocompression bonding mechanism 43 to be deposited.

加圧機構42における接合位置の上流近傍には、感光性ウエブ22の境界位置であるマスキングテープ36を直接検出する検出機構44が配設されるとともに、前記加圧機構42の下流には、各ガラス基板24間の前記感光性ウエブ22を切断する基板間ウエブ切断機構48が配設される。この基板間ウエブ切断機構48の上流には、運転開始時、トラブル発生時あるいは不良品フイルム排出時に使用されるウエブ先端切断機構48aが設けられる。   A detection mechanism 44 that directly detects the masking tape 36 that is the boundary position of the photosensitive web 22 is disposed in the vicinity of the joining position in the pressurizing mechanism 42. An inter-substrate web cutting mechanism 48 for cutting the photosensitive web 22 between the glass substrates 24 is provided. Upstream of the inter-substrate web cutting mechanism 48 is provided a web tip cutting mechanism 48a used at the start of operation, when trouble occurs or when defective products are discharged.

ウエブ送り出し機構32の下流近傍には、略使用済みの感光性ウエブ22の後端と、新たに使用される感光性ウエブ22の先端とを接合させる接合台47が配設される。この接合台47の下流には、感光性ウエブロール22aの巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端位置検出器49が配設される。ここで、フイルム端位置調整は、ウエブ送り出し機構32を幅方向に移動させて行うが、ローラを組み合わせた位置調整機構を付設して行ってもよい。なお、ウエブ送り出し機構32は、感光性ウエブロール22aを装填して感光性ウエブ22を繰り出す繰り出し軸を、2軸又は3軸等の多軸に構成してもよい。   In the vicinity of the downstream side of the web feed mechanism 32, a joining table 47 is provided for joining the rear end of the substantially used photosensitive web 22 and the front end of the newly used photosensitive web 22. A film end position detector 49 is disposed downstream of the joining base 47 in order to control the deviation in the width direction due to the winding deviation of the photosensitive web roll 22a. Here, the film end position adjustment is performed by moving the web feed mechanism 32 in the width direction, but may be performed by attaching a position adjustment mechanism combined with a roller. Note that the web feed mechanism 32 may be configured so that the feeding shaft for loading the photosensitive web roll 22a and feeding the photosensitive web 22 is multi-axis such as two axes or three axes.

剥離機構34は、感光性ウエブ22の送り出し側のテンション変動を低減し、ラミネート時のテンションを安定化させるためのサクションドラム46を備える。サクションドラム46の近傍には、剥離ローラ46aが配置されるとともに、この剥離ローラ46aを介して感光性ウエブ22から鋭角の剥離角で剥離される保護フイルム30は、保護フイルム巻き取り部50に連続的に巻き取られる。   The peeling mechanism 34 includes a suction drum 46 for reducing fluctuations in tension on the delivery side of the photosensitive web 22 and stabilizing the tension during lamination. In the vicinity of the suction drum 46, a peeling roller 46a is disposed, and the protective film 30 peeled off from the photosensitive web 22 at an acute peeling angle via the peeling roller 46a continues to the protective film take-up unit 50. Rolled up.

剥離機構34の下流側には、感光性ウエブ22にテンションを付与可能なテンション制御機構52が配設される。テンション制御機構52は、シリンダ54を備え、このシリンダ54の駆動作用下に、テンションダンサー56が揺動変位することにより、このテンションダンサー56が摺接する感光性ウエブ22のテンションが調整可能である。なお、テンション制御機構52は、必要に応じて使用すればよく、削除することもできる。   A tension control mechanism 52 that can apply tension to the photosensitive web 22 is disposed on the downstream side of the peeling mechanism 34. The tension control mechanism 52 includes a cylinder 54, and the tension dancer 56 swings and displaces under the driving action of the cylinder 54, whereby the tension of the photosensitive web 22 with which the tension dancer 56 is in sliding contact can be adjusted. The tension control mechanism 52 may be used as necessary, and can be deleted.

マスキングテープ貼付機構38は、図3に示すように、保護フイルム30が剥離された感光性樹脂層29に、基板間隔Tを跨いでマスキングテープ36を貼り付ける。このマスキングテープ36は、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)製基材の一面(感光性樹脂層29との接着面)側に、例えば、アクリル系、シリコーン系、アクリル及びシリコーン系又はゴム系の接着剤58が設けられている。マスキングテープ36の他方の面には、接着剤が設けられておらず、好適には、フッ素系樹脂コーティング等の非着性の表面処理を行う。   As shown in FIG. 3, the masking tape sticking mechanism 38 sticks the masking tape 36 across the substrate interval T to the photosensitive resin layer 29 from which the protective film 30 has been peeled off. The masking tape 36 is, for example, an acrylic, silicone, acrylic and silicone or rubber adhesive on one surface (adhesive surface with the photosensitive resin layer 29) side of a polyethylene terephthalate (PET) substrate. 58 is provided. The other surface of the masking tape 36 is not provided with an adhesive, and is preferably subjected to non-sticking surface treatment such as fluorine resin coating.

マスキングテープ貼付機構38は、図1に示すように、吸着部材60によりマスキングテープ36を吸着し、この吸着部材60と貼付受台62との作用下に、前記マスキングテープ36を感光性樹脂層29の所定の位置に貼り付ける。   As shown in FIG. 1, the masking tape attaching mechanism 38 adsorbs the masking tape 36 by the adsorbing member 60, and the masking tape 36 is attached to the photosensitive resin layer 29 under the action of the adsorbing member 60 and the attaching table 62. Affix in place.

検出機構44は、レーザセンサやフォトセンサ等の光電センサ82を備えており、前記光電センサ82は、マスキングテープ36が透過光を遮蔽することによる変化を直接検出し、この検出信号を境界位置信号とする。光電センサ82は、バックアップローラ83に対向して配置される。   The detection mechanism 44 includes a photoelectric sensor 82 such as a laser sensor or a photo sensor, and the photoelectric sensor 82 directly detects a change caused by the masking tape 36 blocking transmitted light, and this detection signal is used as a boundary position signal. And The photoelectric sensor 82 is disposed to face the backup roller 83.

なお、光電センサ82に代えて、非接触変位計でテープ厚さの段差を検出したり、CCDカメラ等の画像検査手段等を用いてもよい。   Instead of the photoelectric sensor 82, a tape thickness step may be detected with a non-contact displacement meter, or an image inspection means such as a CCD camera may be used.

基板搬送機構40は、ガラス基板24を挟持するように配設される複数組の基板加熱部(例えば、ヒータ)84と、このガラス基板24を矢印C方向に搬送する搬送部86とを備える。基板加熱部84では、ガラス基板24の温度を常時監視し、異常時には、搬送部86の停止や警報を発生するとともに、異常情報を発信して異常なガラス基板24を後工程でNG排出、品質管理又は生産管理等に活用することができる。搬送部86には、図示しないエア浮上プレートが配設され、ガラス基板24が浮上されて矢印C方向に搬送される。ガラス基板24の搬送は、ローラコンベアでも行える。   The substrate transport mechanism 40 includes a plurality of sets of substrate heating units (for example, heaters) 84 disposed so as to sandwich the glass substrate 24 and a transport unit 86 that transports the glass substrate 24 in the direction of arrow C. The substrate heating unit 84 constantly monitors the temperature of the glass substrate 24. When an abnormality occurs, the conveyance unit 86 is stopped or alarmed, and abnormal information is transmitted to cause the abnormal glass substrate 24 to be NG discharged in the subsequent process. It can be used for management or production management. An air levitation plate (not shown) is disposed in the conveyance unit 86, and the glass substrate 24 is levitated and conveyed in the direction of arrow C. The glass substrate 24 can be transported by a roller conveyor.

ガラス基板24の温度測定は、基板加熱部84内さらには接合位置直前で行うことが好ましい。測定方法としては、接触式(例えば、熱電対)の他、非接触式であってもよい。   The temperature measurement of the glass substrate 24 is preferably performed in the substrate heating unit 84 and immediately before the bonding position. The measuring method may be a contact type (for example, thermocouple) or a non-contact type.

基板加熱部84の下流には、ガラス基板24の先端に当接してこのガラス基板24を保持するストッパ87と、前記ガラス基板24の先端位置を検出する位置センサ88とが配設される。位置センサ88は、ガラス基板24が接合位置に向かう途中でガラス基板先端を検出し、そこから定量送ることで、加圧ローラ90a、90b間の所定の位置に位置決めするためにある。ここで、位置センサ88は、複数個配設して各位置におけるガラス基板24の到着タイミングを監視し、基板搬送開始時のスリップ等による遅れをチェックするのが好ましい。なお、ガラス基板24の加熱は、上記のような搬送加熱の他、バッチ式のオーブンを使用してロボット搬送してもよい。   Downstream of the substrate heating unit 84, a stopper 87 that contacts the tip of the glass substrate 24 and holds the glass substrate 24, and a position sensor 88 that detects the tip position of the glass substrate 24 are disposed. The position sensor 88 is for detecting the front end of the glass substrate while the glass substrate 24 is heading toward the bonding position, and sending the fixed amount therefrom to position it at a predetermined position between the pressure rollers 90a and 90b. Here, it is preferable that a plurality of position sensors 88 are provided to monitor the arrival timing of the glass substrate 24 at each position, and to check a delay due to slip or the like at the start of substrate conveyance. The glass substrate 24 may be heated by a robot using a batch type oven in addition to the above-described transfer heating.

加圧機構42は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱又は冷却される加圧ローラ90a、90bを備える。加圧ローラ90a、90bには、バックアップローラ92a、92bが摺接するとともに、前記バックアップローラ92bは、ローラクランプ部93を介して加圧ローラ90b側に押圧される。なお、バックアップローラ92a、92bは、必要に応じて設けられており、削除することもできる。   The pressure mechanism 42 includes pressure rollers 90a and 90b that are arranged vertically and heated or cooled to a predetermined temperature. The backup rollers 92a and 92b are slidably contacted with the pressure rollers 90a and 90b, and the backup roller 92b is pressed toward the pressure roller 90b via the roller clamp portion 93. The backup rollers 92a and 92b are provided as necessary and can be deleted.

加圧ローラ90aの近傍には、感光性ウエブ22が前記加圧ローラ90aに接触することを防止するための接触防止ローラ96が移動可能に配設される。加圧機構42の上流近傍には、感光性ウエブ22を予め所定温度に予備加熱するための予備加熱部97が配設される。この予備加熱部97は、例えば、コイル、カーボン、ハロゲン等の赤外線バーヒータ、セラミックタイプのIRヒータや各種接触式加熱ローラ等により構成される。   In the vicinity of the pressure roller 90a, a contact prevention roller 96 for preventing the photosensitive web 22 from contacting the pressure roller 90a is movably disposed. In the vicinity of the upstream side of the pressurizing mechanism 42, a preheating unit 97 for preheating the photosensitive web 22 to a predetermined temperature is disposed. The preheating unit 97 includes, for example, an infrared bar heater such as a coil, carbon, and halogen, a ceramic type IR heater, various contact heating rollers, and the like.

熱圧着機構43は、加圧機構42と同様に、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱される熱圧着ローラ90c、90dを備える。熱圧着ローラ90c、90dは、バックアップローラ92c、92dが摺接するとともに、前記バックアップローラ92dは、ローラクランプ部93を介して熱圧着ローラ90d側に押圧される。なお、バックアップローラ92c、92dは、必要に応じて設けられる。   Similar to the pressurizing mechanism 42, the thermocompression bonding mechanism 43 includes thermocompression rollers 90c and 90d that are arranged above and below and are heated to a predetermined temperature. The thermocompression rollers 90c and 90d are in sliding contact with the backup rollers 92c and 92d, and the backup roller 92d is pressed toward the thermocompression roller 90d via the roller clamp portion 93. The backup rollers 92c and 92d are provided as necessary.

加圧機構42は、感光性樹脂層29の溶融温度以下で且つクッション層27が軟化する温度条件下で、感光性ウエブ22をガラス基板24に加圧する一方、熱圧着機構43は、前記溶融温度条件下で、前記感光性ウエブ22を前記ガラス基板24に熱圧着する。加圧ローラ90a、90bは、熱圧着ローラ90c、90dよりも小径に且つ高硬度に設定される。   The pressurizing mechanism 42 pressurizes the photosensitive web 22 against the glass substrate 24 under a temperature condition that is equal to or lower than the melting temperature of the photosensitive resin layer 29 and the cushion layer 27 is softened. Under the conditions, the photosensitive web 22 is thermocompression bonded to the glass substrate 24. The pressure rollers 90a and 90b are set to have a smaller diameter and higher hardness than the thermocompression rollers 90c and 90d.

加圧ローラ90a、90b及び熱圧着ローラ90c、90dは、例えば、クラウンローラで構成してもよく、同様に、バックアップローラ92a〜92dは、クラウンローラで構成してもよい。また、加圧機構42及び熱圧着機構43は、矢印C方向にそれぞれ複数段に配設してもよい。   The pressure rollers 90a and 90b and the thermocompression-bonding rollers 90c and 90d may be constituted by, for example, crown rollers. Similarly, the backup rollers 92a to 92d may be constituted by crown rollers. Further, the pressurizing mechanism 42 and the thermocompression bonding mechanism 43 may be arranged in a plurality of stages in the arrow C direction.

加圧機構42と熱圧着機構43との間には、必要に応じて予熱機構45が配設される。この予熱機構45は、コイル、カーボン、ハロゲン等の赤外線バーヒータ、セラミックタイプのIRヒータや各種接触式加熱ローラ等により構成される。   A preheating mechanism 45 is disposed between the pressurizing mechanism 42 and the thermocompression bonding mechanism 43 as necessary. The preheating mechanism 45 includes an infrared bar heater such as a coil, carbon, and halogen, a ceramic type IR heater, various contact heating rollers, and the like.

ガラス基板24は、加圧機構42から基板間ウエブ切断機構48を通ってさらに矢印C方向に延在する搬送路98を介して矢印C方向に搬送される。この搬送路98には、フイルム搬送ローラ100と基板搬送ローラ102とが、ウエブ先端切断機構48aを介装して配設される。熱圧着ローラ90c、90dと基板搬送ローラ102との間隔は、ガラス基板24の一枚分の長さ以下に設定されることが好ましい。   The glass substrate 24 is transported in the arrow C direction from the pressurizing mechanism 42 through the inter-substrate web cutting mechanism 48 and further through the transport path 98 extending in the arrow C direction. In this conveyance path 98, a film conveyance roller 100 and a substrate conveyance roller 102 are disposed via a web tip cutting mechanism 48a. The distance between the thermocompression rollers 90 c and 90 d and the substrate transport roller 102 is preferably set to be equal to or less than the length of one glass substrate 24.

製造装置20では、ウエブ送り出し機構32、剥離機構34、テンション制御機構52、マスキングテープ貼付機構38及び検出機構44が、加圧機構42及び熱圧着機構43の上方に配置されているが、これとは逆に、前記ウエブ送り出し機構32から前記検出機構44を前記加圧機構42及び前記熱圧着機構43の下方に配置し、感光性ウエブ22の上下が逆になって感光性樹脂層29がガラス基板24の下側に接合されてもよく、また、前記製造装置20全体を直線上に構成してもよい。   In the manufacturing apparatus 20, the web feed mechanism 32, the peeling mechanism 34, the tension control mechanism 52, the masking tape attaching mechanism 38 and the detection mechanism 44 are disposed above the pressurizing mechanism 42 and the thermocompression bonding mechanism 43. Conversely, the detection mechanism 44 from the web delivery mechanism 32 is disposed below the pressurization mechanism 42 and the thermocompression bonding mechanism 43 so that the photosensitive web 22 is turned upside down so that the photosensitive resin layer 29 is made of glass. It may be bonded to the lower side of the substrate 24, and the entire manufacturing apparatus 20 may be configured on a straight line.

製造装置20は、基板間ウエブ切断機構48の下流側に、保護フイルム30が剥離された感光性ウエブ22とガラス基板24とが接合された接合基板24aを冷却する冷却機構110と、冷却された前記接合基板24aを加熱する加熱機構112と、吸着パッド113に吸着保持されている前記接合基板24aからベースフイルム26を剥離して感光性積層体114を得る剥離機構(図示せず)とを備える。   The manufacturing apparatus 20 is cooled on the downstream side of the inter-substrate web cutting mechanism 48, the cooling mechanism 110 for cooling the bonded substrate 24a in which the photosensitive web 22 from which the protective film 30 has been peeled off and the glass substrate 24 are bonded. A heating mechanism 112 that heats the bonding substrate 24 a and a peeling mechanism (not shown) that peels the base film 26 from the bonding substrate 24 a that is sucked and held by the suction pad 113 to obtain the photosensitive laminate 114. .

冷却機構110は、接合基板24aに冷風を供給して冷却処理を施すものであり、具体的には、冷風温度が10℃で、風速が0.5〜2.0m/minに設定される。加熱機構112は、接合基板24aのベースフイルム26側に配設される加熱ローラ118と、前記加熱ローラ118に対向してガラス基板24側に配設される受けローラ120とを備える。   The cooling mechanism 110 supplies cooling air to the bonding substrate 24a to perform a cooling process. Specifically, the cooling air temperature is set to 10 ° C. and the air speed is set to 0.5 to 2.0 m / min. The heating mechanism 112 includes a heating roller 118 disposed on the base film 26 side of the bonding substrate 24 a and a receiving roller 120 disposed on the glass substrate 24 side facing the heating roller 118.

製造装置20内は、仕切り壁150を介して第1クリーンルーム152aと第2クリーンルーム152bとに仕切られる。第1クリーンルーム152aには、ウエブ送り出し機構32からマスキングテープ貼付機構38までが収容されるとともに、第2クリーンルーム152bには、検出機構44以降が収容される。第1クリーンルーム152aと第2クリーンルーム152bとは、貫通部154を介して連通する。   The inside of the manufacturing apparatus 20 is partitioned into a first clean room 152a and a second clean room 152b through a partition wall 150. The first clean room 152a accommodates the web feed mechanism 32 to the masking tape attaching mechanism 38, and the second clean room 152b accommodates the detection mechanism 44 and the subsequent elements. The first clean room 152a and the second clean room 152b communicate with each other through the penetrating portion 154.

このように構成される製造装置20の動作について、本発明に係る製造方法との関連で以下に説明する。   The operation of the manufacturing apparatus 20 configured as described above will be described below in relation to the manufacturing method according to the present invention.

先ず、イニシャル(頭出し)開始時には、ウエブ送り出し機構32に取り付けられている感光性ウエブロール22aから感光性ウエブ22が繰り出される。この感光性ウエブ22は、剥離機構34、マスキングテープ貼付機構38、加圧機構42及び熱圧着機構43を通ってフイルム搬送ローラ100に先端部が挟持される。   First, at the start of initial (cueing), the photosensitive web 22 is fed out from the photosensitive web roll 22a attached to the web feed mechanism 32. The leading end of the photosensitive web 22 is sandwiched between the film transport roller 100 through the peeling mechanism 34, the masking tape attaching mechanism 38, the pressurizing mechanism 42, and the thermocompression bonding mechanism 43.

次いで、光電センサ82によりマスキングテープ36が検出されると、この検出信号に基づいて、フイルム搬送ローラ100が回転駆動され、感光性ウエブ22がラミネート位置に向かって定量搬送される。このため、マスキングテープ36は、所定のラミネート位置に対応して位置決めされる。なお、ラミネート位置の下流でマスキングテープ36を検出し、感光性ウエブ22を所定の位置に停止させてもよい。   Next, when the masking tape 36 is detected by the photoelectric sensor 82, the film transport roller 100 is rotationally driven based on this detection signal, and the photosensitive web 22 is transported quantitatively toward the laminating position. For this reason, the masking tape 36 is positioned corresponding to a predetermined laminating position. Note that the masking tape 36 may be detected downstream of the laminating position, and the photosensitive web 22 may be stopped at a predetermined position.

その際、接触防止ローラ96が下降して、感光性ウエブ22が加圧ローラ90aに接触することを防止している。また、ガラス基板24は、接合位置の直前で待機している。これにより、イニシャル開始状態が得られる。   At that time, the contact prevention roller 96 is lowered to prevent the photosensitive web 22 from contacting the pressure roller 90a. Further, the glass substrate 24 stands by immediately before the joining position. Thereby, an initial start state is obtained.

次に、ラミネート運転時における製造装置20を構成する各機能部の動作について説明する。   Next, the operation of each functional unit constituting the manufacturing apparatus 20 during the laminating operation will be described.

図1に示すように、感光性ウエブ22は、ウエブ送り出し機構32から繰り出されて剥離機構34に連続的に搬送される。剥離機構34では、感光性ウエブ22のベースフイルム26がサクションドラム46に吸着保持されるとともに、保護フイルム30が前記感光性ウエブ22から連続的に剥離される。この保護フイルム30は、剥離ローラ46aを介して鋭角の剥離角で剥離されて保護フイルム巻き取り部50に巻き取られる。   As shown in FIG. 1, the photosensitive web 22 is fed from a web feed mechanism 32 and continuously conveyed to a peeling mechanism 34. In the peeling mechanism 34, the base film 26 of the photosensitive web 22 is adsorbed and held by the suction drum 46, and the protective film 30 is continuously peeled from the photosensitive web 22. The protective film 30 is peeled off at a sharp peeling angle via the peeling roller 46 a and wound around the protective film winding unit 50.

剥離機構34の作用下に、保護フイルム30がベースフイルム26から連続して剥離された後、感光性ウエブ22は、テンション制御機構52によってテンション調整が行われ、さらにマスキングテープ貼付機構38に送られる。   After the protective film 30 is continuously peeled from the base film 26 under the action of the peeling mechanism 34, the tension of the photosensitive web 22 is adjusted by the tension control mechanism 52 and further sent to the masking tape applying mechanism 38. .

マスキングテープ貼付機構38では、吸着部材60がマスキングテープ36を吸着した後、前記吸着部材60及び貼付受台62が、感光性ウエブ22と同期して移動しながらこの感光性ウエブ22を保持し、感光性樹脂層29にマスキングテープ36を貼り付ける(図3参照)。   In the masking tape attaching mechanism 38, after the adsorbing member 60 adsorbs the masking tape 36, the adsorbing member 60 and the attaching pedestal 62 hold the photosensitive web 22 while moving in synchronization with the photosensitive web 22, A masking tape 36 is affixed to the photosensitive resin layer 29 (see FIG. 3).

上記のように、感光性樹脂層29の所定の部位のマスキングテープ36が貼り付けられた感光性ウエブ22は、検出機構44に送られる。図1に示すように、この検出機構44では、光電センサ82によりマスキングテープ36の境界部位が検出される。感光性ウエブ22は、マスキングテープ36の位置検出情報に基づいて、フイルム搬送ローラ100の回転作用下に、加圧機構42に定量搬送される。その際、接触防止ローラ96が上方に待機するとともに、加圧ローラ90bが下方に配置されている。   As described above, the photosensitive web 22 on which the masking tape 36 of a predetermined portion of the photosensitive resin layer 29 is attached is sent to the detection mechanism 44. As shown in FIG. 1, in this detection mechanism 44, the photoelectric sensor 82 detects the boundary portion of the masking tape 36. The photosensitive web 22 is quantitatively conveyed to the pressure mechanism 42 under the rotational action of the film conveying roller 100 based on the position detection information of the masking tape 36. At that time, the contact prevention roller 96 waits upward, and the pressure roller 90b is disposed below.

図4に示すように、ガラス基板24は、基板搬送機構40の作用下に、予め加熱された状態で加圧位置に搬送される。このガラス基板24は、感光性ウエブ22の感光性樹脂層29とマスキングテープ36との接合部分に対応して加圧ローラ90a、90b間に一旦配置される。   As shown in FIG. 4, the glass substrate 24 is transported to the pressurization position in a preheated state under the action of the substrate transport mechanism 40. The glass substrate 24 is temporarily disposed between the pressure rollers 90 a and 90 b corresponding to the joint portion between the photosensitive resin layer 29 of the photosensitive web 22 and the masking tape 36.

この状態で、ローラクランプ部93の作用下に、加圧ローラ90a、90b間にガラス基板24が所定のプレス圧力で挟み込まれる。さらに、加圧ローラ90aの回転作用下に、ガラス基板24には、感光性樹脂層29が重合される。   In this state, the glass substrate 24 is sandwiched between the pressure rollers 90 a and 90 b with a predetermined pressing pressure under the action of the roller clamp portion 93. Further, the photosensitive resin layer 29 is polymerized on the glass substrate 24 under the rotating action of the pressure roller 90a.

ここで、ラミネート条件としては、速度が1.0m/min〜10m/min、加圧ローラ90a、90bの温度が80℃、前記加圧ローラ90a、90bのゴム硬度が40度〜90度、好ましくは、70度、該加圧ローラ90a、90bのプレス圧(線圧)が1MPa/cmである。   Here, as lamination conditions, the speed is 1.0 m / min to 10 m / min, the temperature of the pressure rollers 90 a and 90 b is 80 ° C., and the rubber hardness of the pressure rollers 90 a and 90 b is 40 degrees to 90 degrees, preferably Is 70 degrees, and the pressing pressure (linear pressure) of the pressure rollers 90a and 90b is 1 MPa / cm.

ガラス基板24に感光性樹脂層29が重合された後、このガラス基板24は、熱圧着機構43に搬送される。熱圧着機構43では、熱圧着ローラ90c、90dの温度が110℃〜150℃、前記熱圧着ローラ90c、90dのゴム硬度が55度、プレス圧(線圧)が0.7MPa/cmに設定されている。このため、感光性樹脂層29は、加熱溶融されてガラス基板24に接着される。   After the photosensitive resin layer 29 is polymerized on the glass substrate 24, the glass substrate 24 is conveyed to the thermocompression bonding mechanism 43. In the thermocompression bonding mechanism 43, the temperature of the thermocompression rollers 90c and 90d is set to 110 ° C. to 150 ° C., the rubber hardness of the thermocompression rollers 90c and 90d is set to 55 degrees, and the press pressure (linear pressure) is set to 0.7 MPa / cm. ing. For this reason, the photosensitive resin layer 29 is heated and melted and bonded to the glass substrate 24.

この場合、感光性樹脂層29及びクッション層27の温度と粘度とは、図5に示す関係を有している。なお、粘弾性測定装置として、例えば、レオロジカル社製のレオメータ(DER−100)を用いて、粘度測定を行った。   In this case, the temperature and viscosity of the photosensitive resin layer 29 and the cushion layer 27 have the relationship shown in FIG. In addition, as a viscoelasticity measuring apparatus, the viscosity was measured, for example using the rheometer (DER-100) by a rheological company.

そこで、第1の実施形態では、加圧機構42において、感光性樹脂層29は、所定の剛性を有するように粘度が高い状態(溶融温度以下)になる一方、クッション層27は、粘度が低くなって軟化する状態になるように、温度範囲が設定される。具体的には、クッション層27は、低温では粘度が高すぎて柔軟性(可撓性)に欠けており、例えば、70℃前後の温度に設定されることによって、前記クッション層27の粘度低下が生じ、このクッション層27が良好に軟化する。ここで、クッション層27が軟化する温度条件とは、このクッション層27の粘度が0.05MPa以下になる温度をいう。   Therefore, in the first embodiment, in the pressure mechanism 42, the photosensitive resin layer 29 is in a high viscosity state (below the melting temperature) so as to have a predetermined rigidity, while the cushion layer 27 has a low viscosity. Thus, the temperature range is set so as to be softened. Specifically, the cushion layer 27 has a viscosity too high at a low temperature and lacks flexibility (flexibility). For example, the cushion layer 27 is set to a temperature of about 70 ° C., so that the viscosity of the cushion layer 27 decreases. And the cushion layer 27 is softened well. Here, the temperature condition at which the cushion layer 27 softens refers to a temperature at which the viscosity of the cushion layer 27 becomes 0.05 MPa or less.

従って、加圧機構42では、加圧ローラ90a、90bが加熱又は冷却されることにより、感光性ウエブ22を略70℃に温度調整した状態で、ガラス基板24と感光性樹脂層29とが加圧される。その際、クッション層27の柔軟性(可撓性)が向上し、感光性樹脂層29は、前記クッション層27の変形作用下にガラス基板24の表面の形状に倣って前記ガラス基板24に確実に重ね合わされ、気泡の残存を良好に阻止することができる。   Accordingly, in the pressure mechanism 42, the glass substrate 24 and the photosensitive resin layer 29 are heated while the temperature of the photosensitive web 22 is adjusted to approximately 70 ° C. by heating or cooling the pressure rollers 90a and 90b. Pressed. At this time, the softness (flexibility) of the cushion layer 27 is improved, and the photosensitive resin layer 29 is securely attached to the glass substrate 24 following the shape of the surface of the glass substrate 24 under the deformation action of the cushion layer 27. It is possible to satisfactorily prevent bubbles from remaining.

次いで、熱圧着機構43では、感光性樹脂層は、溶融温度条件(110℃〜150℃)に加熱されて活性化しており、粘度が低下している。このため、感光性樹脂層29は、所望の粘着性を有し、ガラス基板24に対して確実に接着することが可能になる。   Next, in the thermocompression bonding mechanism 43, the photosensitive resin layer is activated by being heated to a melting temperature condition (110 ° C. to 150 ° C.), and the viscosity is reduced. For this reason, the photosensitive resin layer 29 has desired adhesiveness and can be reliably bonded to the glass substrate 24.

これにより、第1の実施形態では、感光性ウエブ22とガラス基板24とは、気泡の残存を確実に阻止して高品質なラミネート処理が遂行されるとともに、生産効率の向上を図ってラミネート作業の高速化が容易になされるという効果が得られる。   As a result, in the first embodiment, the photosensitive web 22 and the glass substrate 24 perform a high-quality laminating process by reliably preventing bubbles from remaining, and improving the production efficiency. It is possible to obtain an effect that the speeding up of the apparatus can be easily performed.

なお、図5に示すように、クッション層27に代えて、粘度特性が変更されたクッション層27aを用いることができる。このクッション層27aでは、クッション層27に比べて粘度が低く、加圧機構42での温度を、例えば、60℃近傍まで下げることができる。   In addition, as shown in FIG. 5, it can replace with the cushion layer 27 and the cushion layer 27a by which the viscosity characteristic was changed can be used. The cushion layer 27 a has a lower viscosity than the cushion layer 27, and the temperature at the pressurizing mechanism 42 can be lowered to, for example, around 60 ° C.

また、熱圧着機構43では、熱圧着ローラ90c、90dの加熱は、電磁誘導加熱方式、シーズヒータ加熱方式、コイルヒータ加熱方式、加熱液体方式又はこれらの組み合わせによる方式を採用することができ、あるいは、紫外線照射によって活性化エネルギを付与してもよい。   Further, in the thermocompression bonding mechanism 43, the heating of the thermocompression bonding rollers 90c and 90d can employ an electromagnetic induction heating method, a sheathed heater heating method, a coil heater heating method, a heating liquid method, or a combination thereof, or The activation energy may be applied by ultraviolet irradiation.

次いで、ガラス基板24の先端がフイルム搬送ローラ100の近傍に至ると、このフイルム搬送ローラ100が前記ガラス基板24から離間する方向に移動する。さらに、ガラス基板24から前方(矢印C方向)に突出する感光性ウエブ22の先端が、ウエブ先端切断機構48aに対して所定の位置に至ると、このウエブ先端切断機構48aが駆動されて前記感光性ウエブ22の先端が切断される。ウエブ先端切断機構48aは、感光性ウエブ22の先端部を切断した後、基の待機位置に復帰しており、通常運転時には、使用されない。   Next, when the tip of the glass substrate 24 reaches the vicinity of the film transport roller 100, the film transport roller 100 moves in a direction away from the glass substrate 24. Further, when the front end of the photosensitive web 22 protruding forward (in the direction of arrow C) from the glass substrate 24 reaches a predetermined position with respect to the web front end cutting mechanism 48a, the web front end cutting mechanism 48a is driven to perform the photosensitive operation. The tip of the web 22 is cut. The web tip cutting mechanism 48a returns to the base standby position after cutting the tip of the photosensitive web 22, and is not used during normal operation.

図6に示すように、熱圧着ローラ90c、90dを介してガラス基板24に感光性ウエブ22の一枚分のラミネートが終了すると、前記熱圧着ローラ90cの回転が停止される一方、前記感光性ウエブ22が前記ガラス基板24にラミネートされた接合基板24aは、基板搬送ローラ102によりクランプされる。   As shown in FIG. 6, when the lamination of one photosensitive web 22 on the glass substrate 24 is completed via the thermocompression rollers 90c and 90d, the thermocompression roller 90c stops rotating, while the photosensitive web 22 is stopped. The bonded substrate 24 a in which the web 22 is laminated on the glass substrate 24 is clamped by the substrate transport roller 102.

そして、熱圧着ローラ90dが、熱圧着ローラ90cから離間する方向に退避してクランプが解除される。この状態で、基板搬送ローラ102の回転が開始されて、接合基板24aが矢印C方向に定量搬送され、感光性ウエブ22の基板間位置22bが加圧ローラ90aの下方付近の所定位置に移動する。なお、加圧ローラ90a、90bにおいても同様に動作する。   Then, the thermocompression roller 90d is retracted in a direction away from the thermocompression roller 90c, and the clamp is released. In this state, the rotation of the substrate conveying roller 102 is started, the bonded substrate 24a is quantitatively conveyed in the direction of arrow C, and the inter-substrate position 22b of the photosensitive web 22 moves to a predetermined position near the lower side of the pressure roller 90a. . The pressure rollers 90a and 90b operate similarly.

一方、基板搬送機構40を介して次なるガラス基板24がラミネート位置に向かって搬送される。この次なるガラス基板24の先端が加圧ローラ90a、90b間に配置されると、前記加圧ローラ90bが上昇して、前記加圧ローラ90a、90bにより前記次なるガラス基板24と感光性ウエブ22とがクランプされる。同時に基板搬送ローラ102が接合基板24aをクランプする。そして、加圧ローラ90a、90b及び基板搬送ローラ102の回転作用下にラミネートが開始されるとともに、接合基板24aが矢印C方向に搬送される。   On the other hand, the next glass substrate 24 is conveyed toward the laminating position via the substrate conveying mechanism 40. When the leading edge of the next glass substrate 24 is disposed between the pressure rollers 90a and 90b, the pressure roller 90b is raised, and the next glass substrate 24 and the photosensitive web are moved by the pressure rollers 90a and 90b. 22 is clamped. At the same time, the substrate transport roller 102 clamps the bonded substrate 24a. Then, laminating is started under the rotating action of the pressure rollers 90a and 90b and the substrate transport roller 102, and the bonded substrate 24a is transported in the direction of arrow C.

その際、接合基板24aは、図7に示すように、それぞれの端部同士がマスキングテープ36によって覆われている。従って、感光性樹脂層29がガラス基板24に転写される際、額縁状に転写を行うことができる。   At that time, as shown in FIG. 7, the bonding substrate 24 a is covered with a masking tape 36 at each end. Therefore, when the photosensitive resin layer 29 is transferred to the glass substrate 24, the transfer can be performed in a frame shape.

図8に示すように、基板搬送ローラ102が一枚目の接合基板24aの搬送方向後端部に至ると、前記基板搬送ローラ102を構成する上方ローラが上昇してクランプを解除するとともに、下方ローラと搬送路98の回転が継続されて前記接合基板24aが搬送される。さらに、二枚目の接合基板24aの後端部が熱圧着ローラ90c、90dの近傍に至ると、前記熱圧着ローラ90c、90d及び基板搬送ローラ102の回転が停止される。   As shown in FIG. 8, when the substrate transport roller 102 reaches the rear end of the first bonded substrate 24a in the transport direction, the upper roller constituting the substrate transport roller 102 rises to release the clamp and The rotation of the rollers and the conveyance path 98 is continued and the bonding substrate 24a is conveyed. Further, when the rear end portion of the second bonded substrate 24a reaches the vicinity of the thermocompression rollers 90c, 90d, the rotation of the thermocompression rollers 90c, 90d and the substrate transport roller 102 is stopped.

そして、基板搬送ローラ102の上方ローラが下降して二枚目の接合基板24aをクランプする一方、熱圧着ローラ90dが下降してクランプを解除する。次に、基板搬送ローラ102の回転作用下に二枚目の接合基板24aが挟持搬送され、基板間位置22bが加圧ローラ90aの下方付近の所定位置に移動し、三枚目以降のラミネート処理が繰り返される。   Then, the upper roller of the substrate transport roller 102 is lowered to clamp the second bonded substrate 24a, while the thermocompression roller 90d is lowered to release the clamp. Next, the second bonded substrate 24a is nipped and conveyed under the rotating action of the substrate conveying roller 102, the inter-substrate position 22b moves to a predetermined position near the lower side of the pressure roller 90a, and the third and subsequent laminating processes are performed. Is repeated.

図9示すように、接合基板24a間が基板間ウエブ切断機構48に対応する位置に至ると、この基板間ウエブ切断機構48は、前記接合基板24aと同一の搬送速度で矢印C方向に移動しながら、該接合基板24a間、すなわち、マスキングテープ36の中間で感光性ウエブ22を切断する。この切断後に、基板間ウエブ切断機構48は、所定の待機位置に戻される一方、接合基板24aは、矢印C方向に搬送される。   As shown in FIG. 9, when the distance between the bonding substrates 24a reaches a position corresponding to the inter-substrate web cutting mechanism 48, the inter-substrate web cutting mechanism 48 moves in the direction of arrow C at the same transport speed as the bonding substrate 24a. However, the photosensitive web 22 is cut between the bonding substrates 24 a, that is, in the middle of the masking tape 36. After this cutting, the inter-substrate web cutting mechanism 48 is returned to a predetermined standby position, while the bonded substrate 24a is conveyed in the direction of arrow C.

なお、基板間ウエブ切断機構48及びウエブ先端切断機構48aは、感光性ウエブ22を切断する際に、この感光性ウエブ22と同期して矢印C方向に移動しているが、これに限定されるものではない。例えば、ウエブ停止時には、ウエブ幅方向にのみ走行して感光性ウエブ22の切断を行ってもよい。また、ウエブ停止中にトムソン刃による切断、ウエブ移動中にロータリカットによる切断方法も可能である。   The inter-substrate web cutting mechanism 48 and the web tip cutting mechanism 48a move in the direction of the arrow C in synchronization with the photosensitive web 22 when cutting the photosensitive web 22, but are not limited thereto. It is not a thing. For example, when the web is stopped, the photosensitive web 22 may be cut by running only in the web width direction. Also, a cutting method using a Thomson blade while the web is stopped and a cutting method using a rotary cut while the web is moving are possible.

基板間ウエブ切断機構48により分離された各接合基板24aは、図1に示すように、冷却機構110に搬送され、冷風の供給作用下に強制的に、例えば、室温(略20℃)まで冷却された後、加熱機構112に搬送される。加熱機構112では、加熱ローラ118と受けローラ120とを介して接合基板24aが挟持されるとともに、前記加熱ローラ118から前記接合基板24aのベースフイルム26に直接伝熱される。   As shown in FIG. 1, each bonded substrate 24a separated by the inter-substrate web cutting mechanism 48 is transported to the cooling mechanism 110 and forcibly cooled to, for example, room temperature (approximately 20 ° C.) under the action of supplying cold air. Then, it is conveyed to the heating mechanism 112. In the heating mechanism 112, the bonding substrate 24a is sandwiched between the heating roller 118 and the receiving roller 120, and heat is directly transferred from the heating roller 118 to the base film 26 of the bonding substrate 24a.

これにより、ベースフイルム26からクッション層27が所定の温度に加熱された後、接合基板24aは、剥離機構(図示せず)に送られる。この剥離機構では、接合基板24aのガラス基板24側が吸着パッド113の吸引作用下に保持された状態で、前記接合基板24aからベースフイルム26が剥離されることにより、感光性積層体114が得られる。   Thereby, after the cushion layer 27 is heated to a predetermined temperature from the base film 26, the bonding substrate 24a is sent to a peeling mechanism (not shown). In this peeling mechanism, the photosensitive laminate 114 is obtained by peeling the base film 26 from the bonding substrate 24a in a state where the glass substrate 24 side of the bonding substrate 24a is held under the suction action of the suction pad 113. .

図10は、本発明の第2の実施形態に係る製造装置200の概略構成図である。   FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a manufacturing apparatus 200 according to the second embodiment of the present invention.

製造装置200は、トラブル停止時のウエブ切断や不良品を排出するための分離等の作業以外には、通常、基板間ウエブ切断機構48を用いておらず、冷却機構110及び加熱機構112の下流に、連続剥離機構202が設けられる。連続剥離機構202は、各ガラス基板24が所定間隔ずつ離間して接合されている長尺なベースフイルム26を、マスキングテープ36と共に連続して剥離するものであり、プレ剥離部204と、比較的小径な剥離ローラ206と、巻き取り軸208と、自動接合機210とを備えている。剥離ローラ206は、巻き初めにのみ吸着を行う吸着カップ(図示せず)を有する。   The manufacturing apparatus 200 normally does not use the inter-substrate web cutting mechanism 48 except for operations such as web cutting when trouble stops and separation for discharging defective products, and is downstream of the cooling mechanism 110 and the heating mechanism 112. In addition, a continuous peeling mechanism 202 is provided. The continuous peeling mechanism 202 continuously peels the long base film 26 to which the glass substrates 24 are bonded at a predetermined interval together with the masking tape 36. A small-diameter peeling roller 206, a winding shaft 208, and an automatic joining machine 210 are provided. The peeling roller 206 has a suction cup (not shown) that performs suction only at the beginning of winding.

プレ剥離部204は、搬送方向に進退可能なニップローラ212、214と、上下動自在な剥離バー216とを備える。ニップローラ212、214は、ガラス基板24を挟持する一方、剥離バー216は、前記ガラス基板24間で昇降可能である。   The pre-peeling unit 204 includes nip rollers 212 and 214 that can advance and retreat in the transport direction, and a peeling bar 216 that can move up and down. The nip rollers 212 and 214 sandwich the glass substrate 24, while the peeling bar 216 can be moved up and down between the glass substrates 24.

連続剥離機構202の下流には、ガラス基板24に実際に接合された感光性樹脂層29のエリア位置を測定する測定器218が配設される。この測定器218は、例えば、CCD等のカメラ220を備え、感光性樹脂層29が接合されたガラス基板24の四隅を撮影するために4台配設される。   A measuring instrument 218 that measures the area position of the photosensitive resin layer 29 actually bonded to the glass substrate 24 is disposed downstream of the continuous peeling mechanism 202. The measuring device 218 includes, for example, a camera 220 such as a CCD, and four measuring devices 218 are provided for photographing the four corners of the glass substrate 24 to which the photosensitive resin layer 29 is bonded.

なお、測定器218は、カメラ220による画像処理を行う構成を採用するが、カラーセンサやレーザセンサにより端面位置を検出したり、LEDセンサ、フォトアレイ或いはラインセンサ等を組み合わせたりしてもよい。その際、各端面に少なくとも2台ずつ配設して該端面の直線度も検出することが望ましい。   Note that the measuring device 218 employs a configuration in which image processing is performed by the camera 220, but an end face position may be detected by a color sensor or a laser sensor, or an LED sensor, a photo array, a line sensor, or the like may be combined. At that time, it is desirable to arrange at least two units on each end face and detect the linearity of the end faces.

また、面状検査器(図示せず)を付勢することにより、感光性ウエブ22自体に起因するムラ、設備に起因するラミネートの濃度ムラ、皺、筋の他、塵埃や異物等の面状欠陥を検出し、警報を出すとともに、NG排出や後工程の管理に利用することができる。   In addition, by energizing a surface inspection device (not shown), unevenness due to the photosensitive web 22 itself, unevenness in the density of the laminate due to equipment, wrinkles, streaks, and surface conditions such as dust and foreign matter While detecting a defect and giving an alarm, it can utilize for the management of NG discharge | emission and a post process.

このように構成される第2の実施形態では、加圧機構42及び熱圧着機構43でラミネートされた接合基板24aは、プレ剥離部204によりプレ剥離された後、連続剥離機構202に送られる。この連続剥離機構202では、巻き取り軸208の回転作用下に、接合基板24aからベースフイルム26及びマスキングテープ36が連続して巻き取られる。さらに、トラブル停止での切り離しや、不良品分離時の切断の後、新たにラミネート処理が開始された接合基板24aのベースフイルム26の先端と、巻き取り軸208に巻き取られているベースフイルム26の後端とは、自動接合機210を介して自動的に接合される。   In the second embodiment configured as described above, the bonding substrate 24 a laminated by the pressurizing mechanism 42 and the thermocompression bonding mechanism 43 is pre-peeled by the pre-peeling unit 204 and then sent to the continuous peeling mechanism 202. In the continuous peeling mechanism 202, the base film 26 and the masking tape 36 are continuously wound from the bonding substrate 24 a under the rotating action of the winding shaft 208. Further, after separation at trouble stop or separation at the time of defective product separation, the tip of the base film 26 of the bonded substrate 24a which has been newly laminated and the base film 26 wound around the winding shaft 208 are obtained. The rear end is automatically joined via an automatic joining machine 210.

ベースフイルム26及びマスキングテープ36が剥離された感光性積層体114は、測定器218に対応する検査ステーションに配置される。この検査ステーションでは、感光性積層体114が位置決め固定された状態で、4台のカメラ220によりガラス基板24と感光性樹脂層29の画像を取り込む。そして、画像処理が施されることにより、貼り付け位置が演算される。   The photosensitive laminate 114 from which the base film 26 and the masking tape 36 have been peeled is placed at an inspection station corresponding to the measuring device 218. In this inspection station, images of the glass substrate 24 and the photosensitive resin layer 29 are captured by the four cameras 220 with the photosensitive laminate 114 positioned and fixed. Then, by applying image processing, the pasting position is calculated.

なお、検査ステーションでは、感光性積層体114を停止させずに搬送し、幅方向は端面位置をカメラやスキャンで検出する一方、進行方向は前記感光性積層体114の位置をタイミングセンサ等で検知して、画像の取り込みやセンサ検出による測定を行ってもよい。   In the inspection station, the photosensitive laminate 114 is transported without stopping, and in the width direction, the position of the end face is detected by a camera or scan, while in the traveling direction, the position of the photosensitive laminate 114 is detected by a timing sensor or the like. Then, measurement by image capture or sensor detection may be performed.

このように、第2の実施形態では、ラミネート後に接合基板24a間の感光性ウエブ22を切断することがなく、巻き取り軸208の回転作用下に、前記接合基板24aからベースフイルム26及びマスキングテープ36を連続して巻き取ることができる。さらに、剥離したベースフイルム26及びマスキングテープ36の処理作業も容易である。ここで、マスキングテープ36とベースフイルム26とを同一の材料で構成することにより、処理が一層簡素化する。   Thus, in the second embodiment, the photosensitive web 22 between the bonded substrates 24a is not cut after lamination, and the base film 26 and the masking tape are removed from the bonded substrate 24a under the rotating action of the winding shaft 208. 36 can be wound up continuously. Further, the processing of the peeled base film 26 and masking tape 36 is easy. Here, the masking tape 36 and the base film 26 are made of the same material, thereby further simplifying the processing.

これにより、第2の実施形態では、感光性積層体114の製造作業全体が自動的且つ効率的に遂行される等の効果が得られる。   Thereby, in 2nd Embodiment, the effect that the whole manufacturing operation of the photosensitive laminated body 114 is performed automatically and efficiently is acquired.

なお、第1及び第2の実施形態では、剥離機構116及び連続剥離機構202に図示しない除塵エア吹き付け機構を設けてもよい。また、接合基板24aのベースフイルム26に直接接触して加熱を行う接触式加熱機構112を用いているが、これに限定されるものではなく、各種非接触式の加熱機構を採用することができる。   In the first and second embodiments, a dust removal air blowing mechanism (not shown) may be provided in the peeling mechanism 116 and the continuous peeling mechanism 202. Further, although the contact type heating mechanism 112 that performs heating by directly contacting the base film 26 of the bonding substrate 24a is used, the present invention is not limited to this, and various non-contact type heating mechanisms can be employed. .

なお、第1及び第2の実施形態では、積層体として、図2に示すように、ベースフイルム26、クッション層27、中間層28及び感光性樹脂層29が積層された感光性ウエブ22を用いているが、これに限定されるものではない。例えば、支持層(ベースフイルム26)と少なくとも一層の樹脂層(クッション層27又は感光性樹脂層29)とが積層された積層体であれば、同様の効果が得られる。   In the first and second embodiments, as shown in FIG. 2, a photosensitive web 22 in which a base film 26, a cushion layer 27, an intermediate layer 28, and a photosensitive resin layer 29 are laminated is used as a laminate. However, it is not limited to this. For example, the same effect can be obtained if it is a laminate in which a support layer (base film 26) and at least one resin layer (cushion layer 27 or photosensitive resin layer 29) are laminated.

本発明の第1の実施形態に係る製造装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 前記製造装置に使用される長尺状感光性ウエブの断面図である。It is sectional drawing of the elongate photosensitive web used for the said manufacturing apparatus. 前記長尺状感光性ウエブにマスキングテープが接着された状態の説明図である。It is explanatory drawing of the state by which the masking tape was adhere | attached on the said elongate photosensitive web. ゴムローラ間にガラス基板が進入する状態を示す前記製造装置の一部説明図である。It is a partial explanatory view of the manufacturing apparatus showing a state in which a glass substrate enters between rubber rollers. 感光性樹脂層とクッション層の温度−粘度関係図である。It is a temperature-viscosity relationship figure of the photosensitive resin layer and a cushion layer. 一枚目のラミネート終了時の動作を示す前記製造装置の一部説明図である。It is a partial explanatory view of the manufacturing apparatus showing the operation at the end of lamination of the first sheet. 前記ガラス基板に感光性樹脂層が転写された状態の説明図である。It is explanatory drawing of the state by which the photosensitive resin layer was transcribe | transferred to the said glass substrate. 基板搬送ローラが接合基板の端末から離間する動作を示す前記製造装置の一部説明図である。It is a partial explanatory view of the manufacturing apparatus showing an operation in which the substrate transport roller moves away from the end of the bonded substrate. 前記接合基板間の前記感光性ウエブを切断する動作を示す前記製造装置の一部説明図である。It is a partial explanatory view of the manufacturing apparatus showing an operation of cutting the photosensitive web between the bonded substrates. 本発明の第2の実施形態に係る製造装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

20、200…製造装置 22…感光性ウエブ
24…ガラス基板 26…ベースフイルム
27…クッション層 28…中間層
29…感光性樹脂層 30…保護フイルム
32…ウエブ送り出し機構 34…剥離機構
36…マスキングテープ 38…マスキングテープ貼付機構
40…基板搬送機構 42…加圧機構
43…熱圧着機構 44…検出機構
46…サクションドラム 48…基板間ウエブ切断機構
52…テンション制御機構 84…基板加熱部
86…搬送部 90a、90b…加圧ローラ
90c、90d…熱圧着ローラ 93…ローラクランプ部
96…接触防止ローラ 98…搬送路
100…フイルム搬送ローラ 102…基板搬送ローラ
110…冷却機構 112…加熱機構
113…吸着パッド 114…感光性積層体
202…連続剥離機構 204…プレ剥離部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20,200 ... Manufacturing apparatus 22 ... Photosensitive web 24 ... Glass substrate 26 ... Base film 27 ... Cushion layer 28 ... Intermediate layer 29 ... Photosensitive resin layer 30 ... Protective film 32 ... Web delivery mechanism 34 ... Peeling mechanism 36 ... Masking tape DESCRIPTION OF SYMBOLS 38 ... Masking tape sticking mechanism 40 ... Substrate conveyance mechanism 42 ... Pressurization mechanism 43 ... Thermocompression bonding mechanism 44 ... Detection mechanism 46 ... Suction drum 48 ... Inter-substrate web cutting mechanism 52 ... Tension control mechanism 84 ... Substrate heating unit 86 ... Conveyance unit 90a, 90b ... pressure rollers 90c, 90d ... thermo-compression roller 93 ... roller clamp part 96 ... contact prevention roller 98 ... transport path 100 ... film transport roller 102 ... substrate transport roller 110 ... cooling mechanism 112 ... heating mechanism 113 ... suction pad 114 ... photosensitive laminate 202 ... continuous peeling mechanism 204 ... pre-peeling Part

Claims (6)

少なくとも感光性樹脂層と熱可塑性樹脂層とが積層された積層体を、前記感光性樹脂層側が基板に向かうように前記基板に熱圧着する積層体のラミネート方法であって、
前記感光性樹脂層の溶融温度以下で且つ前記熱可塑性樹脂層が軟化する温度条件下で、前記積層体と前記基板とを加圧する第1工程と、
前記溶融温度条件下で、前記積層体と前記基板とを熱圧着する第2工程と、
を有することを特徴とする積層体のラミネート方法。
A laminate in which a laminate in which at least a photosensitive resin layer and a thermoplastic resin layer are laminated is thermocompression-bonded to the substrate such that the photosensitive resin layer side faces the substrate,
A first step of pressurizing the laminate and the substrate under a temperature condition equal to or lower than a melting temperature of the photosensitive resin layer and the thermoplastic resin layer softening;
A second step of thermocompression bonding the laminate and the substrate under the melting temperature condition;
A method for laminating a laminate, comprising:
請求項1記載のラミネート方法において、少なくとも前記第1工程又は前記第2工程のいずれかは、多段に設定されることを特徴とする積層体のラミネート方法。   The laminating method according to claim 1, wherein at least one of the first step and the second step is set in multiple stages. 請求項1又は2記載のラミネート方法において、前記第1工程と前記第2工程との間に、少なくとも前記積層体又は前記基板のいずれかを、前記溶融温度未満の温度条件下で予熱する工程を有することを特徴とする積層体のラミネート方法。   3. The laminating method according to claim 1, wherein, between the first step and the second step, at least one of the laminate and the substrate is preheated under a temperature condition lower than the melting temperature. A method for laminating a laminate, comprising: 少なくとも感光性樹脂層と熱可塑性樹脂層とが積層された積層体を、前記感光性樹脂層側が基板に向かうように前記基板に熱圧着する積層体のラミネート装置であって、
前記感光性樹脂層の溶融温度以下で且つ前記熱可塑性樹脂層が軟化する温度条件下で、前記積層体と前記基板とを加圧する加圧機構と、
前記溶融温度条件下で、前記積層体と前記基板とを熱圧着する熱圧着機構と、
を備えることを特徴とする積層体のラミネート装置。
A laminate laminating apparatus for thermocompression bonding a laminate in which at least a photosensitive resin layer and a thermoplastic resin layer are laminated to the substrate such that the photosensitive resin layer side faces the substrate,
A pressure mechanism that pressurizes the laminate and the substrate under a temperature condition that is equal to or lower than the melting temperature of the photosensitive resin layer and the thermoplastic resin layer softens;
A thermocompression bonding mechanism for thermocompression bonding the laminate and the substrate under the melting temperature condition;
A laminate laminating apparatus comprising:
請求項4記載のラミネート装置において、少なくとも前記加圧機構又は前記熱圧着機構のいずれかは、多段に構成されることを特徴とする積層体のラミネート装置。   The laminating apparatus according to claim 4, wherein at least one of the pressurizing mechanism and the thermocompression bonding mechanism is configured in multiple stages. 請求項4又は5記載のラミネート装置において、前記加圧機構と前記熱圧着機構との間には、少なくとも前記前記積層体又は前記基板のいずれかを、前記溶融温度未満の温度条件下で予熱する予熱機構が配設されることを特徴とする積層体のラミネート装置。   6. The laminating apparatus according to claim 4, wherein at least either the laminate or the substrate is preheated between the pressurizing mechanism and the thermocompression bonding mechanism under a temperature condition lower than the melting temperature. A laminate laminating apparatus, wherein a preheating mechanism is provided.
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