JP2006258951A - 光合分波素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1および第2の基板11A,11B上にそれぞれ形成された第1および第2の光導波路12A,12Bによって周期構造を有する中間層13をサンドイッチした構造を有し、第1および第2の光導波路12A,12Bの対向する面側に凹部12aが周期的に形成されている。中間層13と第1および第2の基板11A,11Bの周期構造との間で、光の反射と干渉が起こり、光の結合分離が効率的に行われる。
【選択図】 図1
Description
次に、第1の実施の形態の製造方法を図3〜図5の工程図を参照して説明する。
図3(a)に示すように、Siウェハからなる基板200を準備し、この基板200上に離型層201を0.1μm形成し、この離型層201の表面に光合分波素子10の構成要素となるa−Si薄膜202を0.5μm着膜し、その上にポジ型のフォトレジスト203を塗布する。
図4(a)に示すように、第1の構造体14Aと同様に、Siウェハからなる基板300を準備し、この基板300上に離型層301を形成し、この離型層301の表面に光合分波素子10の構成要素となるa−Siからなる薄膜302を0.5μm着膜し、その上にポジ型のフォトレジスト303を塗布する。
次に、図5(a)に示すように、第1および第2の構造体14A,14Bを真空槽内の図示しない下部ステージおよび上部ステージ上にそれぞれ配置する。続いて、真空槽内を排気して高真空状態あるいは超高真空状態にする。次に、第1の基板11A上の中間層13の表面、および第2の基板11B上の光結合層121Bの表面にアルゴン原子ビームを照射して清浄化する。
図6は、本発明の第2の実施の形態に係る光合分波素子を示し、(a)は縦断面図、(b)は(a)のA−A線断面図である。この光合分波素子10は、第1および第2の基板11A,11Bと、第1および第2の基板11A,11B上にそれぞれ形成された第1および第2の光導波路12A,12Bと、第1および第2の光導波路12A,12B間に配置された第1および第2の中間層13A,13Bとを有する。
図7は、本発明の第3の実施の形態に係る光合分波素子を示し、(a)は縦断面図、(b)は(a)のA−A線断面図である。この光合分波素子10は、第1および第2の基板11A,11Bと、第1および第2の基板11A,11B上にそれぞれ形成された第1および第2の光導波路12A,12Bと、第1および第2の光導波路12A,12B間に配置された中間層13Cとを有する。
11A,11B 基板
12A,12B 光導波路
12a 凹部
13,13A,13B,13C 中間層
13a 細孔
13b 欠陥
14A,14B 構造体
15 入射光
16A,16B 出射光
120A,120B 光導波層
121A,121B 光結合層
200 基板
201 離型層
202 a−Si薄膜
203 フォトレジスト
210 ドナー基板
300 基板
301 離型層
302 a−Si薄膜
303 フォトレジスト
310 ドナー基板
Claims (7)
- 2つ以上の光導波路を光結合して光を合波あるいは分波する光合分波素子において、
前記2つ以上の光導波路は、対向する面側に周期構造が形成された光結合部を備えたことを特徴とする光合分波素子。 - 前記2つ以上の光導波路は、前記光結合部間に屈折率又は誘電率が所定の周期で変化する周期構造体が接合されていること特徴とする請求項1に記載の光合分波素子。
- 前記周期構造体は、欠陥を有することを特徴とする請求項2に記載の光合分波素子。
- 前記周期構造体は、積層された2以上の層からなることを特徴とする請求項2に記載の光合分波素子。
- 前記2つ以上の光導波路は、光導波層と、前記光導波層上に形成され、前記光結合部を構成する光結合層とを備えたことを特徴とする請求項1に記載の光合分波素子。
- 前記光導波層および前記光結合層は、常温接合によって積層されたことを特徴とする請求項5に記載の光合分波素子。
- 前記2つ以上の光導波路は、前記光結合層間に屈折率又は誘電率が所定の周期で変化する周期構造層が常温接合によって積層されていること特徴とする請求項6に記載の光合分波素子。
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JP2005073449A JP2006258951A (ja) | 2005-03-15 | 2005-03-15 | 光合分波素子 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2005
- 2005-03-15 JP JP2005073449A patent/JP2006258951A/ja active Pending
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