JP2006251374A - 光学補償シート、楕円偏光板、および液晶表示装置 - Google Patents
光学補償シート、楕円偏光板、および液晶表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006251374A JP2006251374A JP2005067905A JP2005067905A JP2006251374A JP 2006251374 A JP2006251374 A JP 2006251374A JP 2005067905 A JP2005067905 A JP 2005067905A JP 2005067905 A JP2005067905 A JP 2005067905A JP 2006251374 A JP2006251374 A JP 2006251374A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- substituted
- phenyl
- halogen atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【課題】 配向膜と光学異方層間の密着を確保することで、層間剥離の発生を防ぎ、偏光膜との貼り合せ工程及び液晶セルとの貼り合わせ工程を従来よりも容易にして、歩留まりを向上させること。
【解決手段】 液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が一般式（１）〜（４）で表される化合物または一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする光学補償シート。
【化１】
【解決手段】 液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が一般式（１）〜（４）で表される化合物または一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする光学補償シート。
【化１】
Description
本発明は、透明支持体上に液晶性化合物を含む液晶性組成物を塗布して形成した光学異方性層を有する光学補償シートに関する。
液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および光学補償シート（位相差板）からなる。透過型液晶表示装置では、二枚の偏光素子を液晶セルの両側に取り付け、少なくとも一枚の光学補償シートを液晶セルと偏光素子との間に配置する。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、少なくとも一枚の光学補償シート、そして一枚の偏光素子の順に配置する。液晶セルは、棒状液晶性化合物、それを封入するための二枚の基板および棒状液晶性化合物に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、棒状液晶性化合物の配向状態の違いで、透過型については、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、反射型については、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償シートとしては、延伸ポリマーフィルムが従来から使用されていた。延伸ポリマーフィルムからなる光学補償シートに代えて、透明支持体上に液晶性化合物を含む液晶性組成物を塗布して形成した光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。液晶性化合物には、多様な配向形態がある。液晶性化合物を用いることで、従来の延伸ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。液晶性化合物を用いた光学補償シートでは、液晶セルの様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。例えば、ＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特許文献１〜４に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償シートは、特許文献５に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特許文献６，７に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特許文献８に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償シートは、特許文献９に記載がある。
光学補償シートは、透明支持体上に配向膜及び液晶性組成物である光学異方層を塗布し作製することが出来るが、一方で配向膜と透明支持体と配向膜や配向膜と光学異方層間の密着力が十分でないと、偏光膜との貼り合わせ工程や液晶セルとの貼り合わせ工程で、層間剥離が発生してしまう問題がある。
本発明は、配向膜と光学異方層間の密着を確保することで、偏光膜との貼り合せ工程及び液晶セルとの貼り合わせ工程を従来よりも容易にし、歩留まりを向上させることを目的としたものである。
本発明は、配向膜と光学異方層間の密着を確保することで、偏光膜との貼り合せ工程及び液晶セルとの貼り合わせ工程を従来よりも容易にし、歩留まりを向上させることを目的としたものである。
本発明の目的は、下記［１］〜［８］により達成された。
［１］ 透明支持体及び配向層及び液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする光学補償シート。
［１］ 透明支持体及び配向層及び液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする光学補償シート。
〔式（１）において、Ｒ1はフェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数１〜２０のアルキル基（但し、アルキル基の炭素数が２〜２０の場合、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、炭素数１〜４のハロアルキル基、−Ｓ(Ｏ)m−Ｒ12（但し、Ｒ12は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｍは１または２である。）、−Ｓ(Ｏ)m−Ｒ13（但し、Ｒ13は炭素数６〜１２のアリール基を示し、炭素数１〜１２のアルキル基で置換されてもよく、ｍは１または２である。）、炭素数１〜６のアルコキシスルホニル基、炭素数６〜１０のアリーロキシスルホニル基、またはジフェニルホスフィノイル基を示し；Ｒ2は炭素数２〜１２のアルカノイル基（但し、ハロゲン原子もしくはシアノ基の１個以上で置換されてもよい。）、その二重結合がカルボニル基と共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、またはフェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基もしくはハロゲン原子の１個以上で置換されてもよい。）を示し；Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはフェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中もしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ(Ｏ)Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＯ2Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)であり；Ｒ8は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有する炭素数２〜６のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ(Ｒ14)r(Ｒ15)3-r（但し、Ｒ14は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ15はフェニル基を示し、ｒは１〜３の整数である。）、下記式で表される基、
を示し；Ｒ9は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは硫黄原子を有する炭素数２〜１２のアルキル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、下記式で表される基、
を示し；Ｒ10およびＲ11は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、フェニル基（但し、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜３のアルカノイル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基を示すか、あるいはＲ10とＲ11が一緒になって炭素数２〜６のアルキレン基（但し、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは−ＮＲ8−を有するか、および／または水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ基の１個以上で置換されてもよい。）を示すか、あるいはＲ10が水素原子のとき、Ｒ11は下記式で表される基、
を示し；Ｒ16は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、シアノ基、置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）、または炭素数１〜１２のアルキル基（但し、ハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは−ＳＲ9の１個以上で置換されるか、および／または主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ(ＣＯ)−の１個以上を有してもよい。）を示し；Ｍ1は直接結合または−Ｒ17−Ｏ−を示し；Ｍ2は直接結合または−Ｒ17−Ｓ−を示し；Ｍ3は直接結合、ピペラジノ基または−Ｒ17−ＮＨ−を示し；Ｒ17は炭素数１〜１２のアルキレン基（但し、その炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子、硫黄原子もしくは−ＮＲ10−の１〜５個を有してもよい。）を示す。〕
〔式（２）において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は式（１）のそれぞれＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7と同義であり；Ｍは炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、−ＣＯＯ−Ｒ18−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−ＣＯ−（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、または−ＣＯ−Ｒ18−ＣＯ−を示し；Ｒ18は炭素数２〜１２のアルキレン基を示す。〕
〔式（３）において、Ｒ2は式（１）のＲ2と同義であり；Ｒ19は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、シアノ基、または置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）を示すか、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22を有するフェニル環中の炭素原子と結合して、基Ｒ9を介し５−員環もしくは６−員環を形成してもよく、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも１個が−ＳＲ9のとき、炭素数１〜１２のアルキル基｛但し、炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ(ＣＯ)−の１個以上を有するか、および／またはハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは置換フェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）の１個以上で置換されてもよい。｝を示し；Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または水酸基の１個以上で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ(Ｏ)Ｒ9、−ＳＯ2Ｒ9、または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)であり、；Ｒ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は式（１）のそれぞれＲ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11と同義である。〕
〔式（４）において、Ｒ2およびＭはそれぞれ式（１）のＲ2および式（２）のＭと同義であり；Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は式（３）のそれぞれＲ20、Ｒ21およびＲ22と同義である。〕
［２］ 透明支持体及び配向層及び液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が下記一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする光学補償シート。
［２］ 透明支持体及び配向層及び液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が下記一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする光学補償シート。
〔一般式（５）において、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｙは−ＣＸ3、−ＮＨ2、−ＮＨＲ′、−ＮＲ′2、−ＯＲ′を表す。ここにＲ′はアルキル基、アリール基を表す。またＲは、−ＣＸ3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表す。〕
〔一般式(６)において、Ａはフェニル基、ナフチル基、置換フェニル基または置換ナフチル基を表す。ここで置換基とはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基もしくはメチレンジオキシ基である。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
〔一般式（７）において、Ｗは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、フェニル基又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
〔一般式(８)において、Ａは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
［３］ 液晶性分子が重合により配向した状態のまま固定されていることを特徴とする［１］又は［２］に記載の光学補償シート。
［４］ 液晶性分子がディスコティック液晶であることを特徴とする［１］乃至［３］のいずれかに記載の光学補償シート。
［５］ 透明支持体及び配向層及び液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が［１］乃至［４］のいずれかに記載している特徴を有する光学補償シート。
［６］ 配向層が有機化合物であり、重合性基を有することを特徴とする［１］乃至［５］のいずれかに記載の光学補償シート。
［７］ 透明支持体がセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする［１］乃至［６］のいずれかに記載の光学補償シート。
［８］ 透明保護膜、偏光膜、光学補償シートが積層されており、該光学補償シートが［１］から［７］のいずれかに記載の特徴を有する楕円偏光板。
［９］ ＴＮ型液晶セル及びその両側に配置された二枚の楕円偏光板を有するＴＮ型液晶表示装置であって、該楕円偏光板が［８］に記載の特徴を有する液晶表示装置。
［１０］ ベンド配向モードの液晶セル及びその両側に配置された二枚の楕円偏光板を有するベンド配向モード型液晶表示装置であって、該楕円偏光板が［８］に記載の特徴を有する液晶表示装置。
［３］ 液晶性分子が重合により配向した状態のまま固定されていることを特徴とする［１］又は［２］に記載の光学補償シート。
［４］ 液晶性分子がディスコティック液晶であることを特徴とする［１］乃至［３］のいずれかに記載の光学補償シート。
［５］ 透明支持体及び配向層及び液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が［１］乃至［４］のいずれかに記載している特徴を有する光学補償シート。
［６］ 配向層が有機化合物であり、重合性基を有することを特徴とする［１］乃至［５］のいずれかに記載の光学補償シート。
［７］ 透明支持体がセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする［１］乃至［６］のいずれかに記載の光学補償シート。
［８］ 透明保護膜、偏光膜、光学補償シートが積層されており、該光学補償シートが［１］から［７］のいずれかに記載の特徴を有する楕円偏光板。
［９］ ＴＮ型液晶セル及びその両側に配置された二枚の楕円偏光板を有するＴＮ型液晶表示装置であって、該楕円偏光板が［８］に記載の特徴を有する液晶表示装置。
［１０］ ベンド配向モードの液晶セル及びその両側に配置された二枚の楕円偏光板を有するベンド配向モード型液晶表示装置であって、該楕円偏光板が［８］に記載の特徴を有する液晶表示装置。
本発明者は研究の結果、光学異方層に特定の構造の光重合開始剤を加える事で、配向膜と光学異方層の相関密着を著しく向上させる事が可能となった。
光学異方層に添加する物質は、液晶性化合物の配向や光学異方性層の光学的性質に影響を与えない高分子化合物を選択して使用する必要がある。液晶性組成物には、下記の液晶性化合物および上記の有機溶媒または高分子化合物に加えて、任意の添加剤（例、重合開始剤、可塑剤、モノマー、界面活性剤、配向温度低下剤、カイラル剤）を加えてもよい。
［液晶性化合物］
液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物が好ましく、ディスコティック液晶性化合物が特に好ましい。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。高分子液晶性化合物は、以上のような低分子液晶性化合物に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性化合物を用いた光学補償シートについては、特開平５−５３０１６号公報に記載がある。
液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物が好ましく、ディスコティック液晶性化合物が特に好ましい。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。高分子液晶性化合物は、以上のような低分子液晶性化合物に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性化合物を用いた光学補償シートについては、特開平５−５３０１６号公報に記載がある。
円盤状化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４））に記載されている。円盤状化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
円盤状化合物を重合により固定するためには、円盤状化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有する円盤状化合物は、下記式（Ｉ）で表わされる化合物であることが好ましい。
円盤状化合物を重合により固定するためには、円盤状化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有する円盤状化合物は、下記式（Ｉ）で表わされる化合物であることが好ましい。
（Ｉ） Ｄ(−Ｌ−Ｐ)n
式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり；Ｐは重合性基であり；そして、ｎは４乃至１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＰ（またはＰＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｐ）との組み合わせを意味する。
式（Ｉ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好まし。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好ましい。
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｐ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ10：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ11：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ12：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ13：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ14：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ15：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ16：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ17：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ18：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ19：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ20：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ21：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ22：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ23：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ24：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ10：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ11：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ12：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ13：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ14：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ15：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ16：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ17：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ18：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ19：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ20：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ21：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ22：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ23：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ24：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
式（Ｉ）の重合性基（Ｐ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｐ）の例を以下に示す。
重合性基（Ｐ）は、不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）またはエポキシ基（Ｐ６、Ｐ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｐ１、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ１５、Ｐ１６、Ｐ１７）であることが最も好ましい。
式（Ｉ）において、ｎは４乃至１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
光学異方性層は、円盤状化合物および必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
光学異方性層の厚さは、０．５乃至１００μｍであることが好ましく、０．５乃至３０μｍであることがさらに好ましい。
式（Ｉ）において、ｎは４乃至１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＰの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
光学異方性層は、円盤状化合物および必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
光学異方性層の厚さは、０．５乃至１００μｍであることが好ましく、０．５乃至３０μｍであることがさらに好ましい。
配向させた円盤状化合物を、配向状態を維持して固定する。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５乃至５質量％であることがさらに好ましい。
円盤状化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０乃至５０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５乃至５質量％であることがさらに好ましい。
円盤状化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０乃至５０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
［光学異方性層］
光学異方性層は、液晶性組成物を後述する配向膜の上に、塗布して形成する。液晶組成物の塗布は、公知の方法（例、バーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。液晶性化合物の重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５乃至５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2乃至５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学異方性層の厚さは、０．１乃至２０μｍであることが好ましく、０．２乃至１５μｍであることがさらに好ましく、０．３乃至１０μｍであることが最も好ましい。
光学異方性層は、液晶性組成物を後述する配向膜の上に、塗布して形成する。液晶組成物の塗布は、公知の方法（例、バーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。液晶性化合物の重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１乃至２０質量％であることが好ましく、０．５乃至５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2乃至５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００乃至８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学異方性層の厚さは、０．１乃至２０μｍであることが好ましく、０．２乃至１５μｍであることがさらに好ましく、０．３乃至１０μｍであることが最も好ましい。
［光重合開始剤］
本発明では、光重合開始剤として、一般式（１）〜（４）で表される化合物の少なくとも一種または一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有する。
本発明では、光重合開始剤として、一般式（１）〜（４）で表される化合物の少なくとも一種または一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有する。
〔式（１）において、Ｒ1はフェニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数１〜２０のアルキル基（但し、アルキル基の炭素数が２〜２０の場合、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、炭素数１〜４のハロアルキル基、−Ｓ(Ｏ)m−Ｒ12（但し、Ｒ12は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｍは１または２である。）、−Ｓ(Ｏ)m−Ｒ13（但し、Ｒ13は炭素数６〜１２のアリール基を示し、炭素数１〜１２のアルキル基で置換されてもよく、ｍは１または２である。）、炭素数１〜６のアルコキシスルホニル基、炭素数６〜１０のアリーロキシスルホニル基、またはジフェニルホスフィノイル基を示し；
Ｒ2は炭素数２〜１２のアルカノイル基（但し、ハロゲン原子もしくはシアノ基の１個以上で置換されてもよい。）、その二重結合がカルボニル基と共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、またはフェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基もしくはハロゲン原子の１個以上で置換されてもよい。）を示し；
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはフェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中もしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ(Ｏ)Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＯ2Ｒ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)であり；
Ｒ8は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有する炭素数２〜６のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＨ（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ(Ｒ14)r(Ｒ15)3-r（但し、Ｒ14は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ15はフェニル基を示し、ｒは１〜３の整数である。）、
下記式で表される基、
または下記式で表される基
を示し；
Ｒ9は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは硫黄原子を有する炭素数２〜１２のアルキル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、
下記式で表される基
または下記式で表される基
を示し；
Ｒ10およびＲ11は相互に独立に水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、フェニル基（但し、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のアルコキシ基の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数２〜３のアルカノイル基、炭素数３〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基を示すか、あるいはＲ10とＲ11が一緒になって炭素数２〜６のアルキレン基（但し、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは−ＮＲ8−を有するか、および／または水酸基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルカノイルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ基の１個以上で置換されてもよい。）を示すか、あるいはＲ10が水素原子のとき、Ｒ11は
下記式で表される基
または下記式で表される基
を示し；
Ｒ16は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、シアノ基、置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）、または炭素数１〜１２のアルキル基（但し、ハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは−ＳＲ9の１個以上で置換されるか、および／または主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ(ＣＯ)−の１個以上を有してもよい。）を示し；
Ｍ1は直接結合または−Ｒ17−Ｏ−を示し；Ｍ2は直接結合または−Ｒ17−Ｓ−を示し；Ｍ3は直接結合、ピペラジノ基または−Ｒ17−ＮＨ−を示し；Ｒ17は炭素数１〜１２のアルキレン基（但し、その炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子、硫黄原子もしくは−ＮＲ10−の１〜５個を有してもよい。）を示す。〕
〔式（２）において、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は式（１）のそれぞれＲ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7と同義であり；Ｍは炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、−ＣＯＯ−Ｒ18−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)n−ＣＯ−（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、または−ＣＯ−Ｒ18−ＣＯ−を示し；Ｒ18は炭素数２〜１２のアルキレン基を示す。〕
〔式（３）において、Ｒ2は式（１）のＲ2と同義であり；Ｒ19は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−ＯＲ8もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル基、−ＣＯＮ(Ｒ10)(Ｒ11)、シアノ基、または置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）を示すか、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22を有するフェニル環中の炭素原子と結合して、基Ｒ9を介し５−員環もしくは６−員環を形成してもよく、あるいはＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも１個が−ＳＲ9のとき、炭素数１〜１２のアルキル基｛但し、炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ(ＣＯ)−の１個以上を有するか、および／またはハロゲン原子、水酸基、−ＯＲ2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基もしくは置換フェニル基（但し、置換基は−ＳＲ9である。）の１個以上で置換されてもよい。｝を示し；
Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、−ＯＲ8、−ＳＲ9もしくは−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)の１個以上で置換されてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシ基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／または水酸基の１個以上で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−ＯＲ8（但し、Ｒ8はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ9（但し、Ｒ9はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、−Ｓ(Ｏ)Ｒ9、−ＳＯ2Ｒ9、または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)（但し、Ｒ10および／またはＲ11はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ20、Ｒ21およびＲ22の少なくとも一つは−ＯＲ8、−ＳＲ9または−Ｎ(Ｒ10)(Ｒ11)であり、；Ｒ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は式（１）のそれぞれＲ8，Ｒ9、Ｒ10およびＲ11と同義である。〕
〔式（４）において、Ｒ2およびＭはそれぞれ式（１）のＲ2および式（２）のＭと同義であり；Ｒ20、Ｒ21およびＲ22は式（３）のそれぞれＲ20、Ｒ21およびＲ22と同義である。〕
開始剤の使用量に特に制限はないが、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部である。また（１）〜（８）の開始剤は複数種を使用しても良いし、他のラジカル重合開始剤や光増感剤などと併用して使用しても良い。
（１）〜（４）の開始剤として、具体的な化合物としては、特開２０００−８００６８号公報あるいは特開２００１−２６４５３０号公報記載の化合物などを使用できるが、特にこれに限定されるものではない。
以下に、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物を例示する。（例示化合物１〜２１）
（１）〜（４）の開始剤として、具体的な化合物としては、特開２０００−８００６８号公報あるいは特開２００１−２６４５３０号公報記載の化合物などを使用できるが、特にこれに限定されるものではない。
以下に、特開２０００−８００６８号公報に記載の化合物を例示する。（例示化合物１〜２１）
一般式（５）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
〔一般式（６）において、Ａはフェニル基、ナフチル基、置換フェニル基または置換ナフチル基を表す。ここで置換基とはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基もしくはメチレンジオキシ基である。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
一般式（６）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
一般式（６）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
〔一般式（７）において、Ｗは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、フェニル基又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
一般式（７）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
一般式（７）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
〔一般式（８）において、Ａは無置換もしくは置換されたフェニル基又は無置換のナフチル基を表し、フェニル基の置換基はハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数１〜３のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基の数はハロゲン原子のときは１つ又は２つであり、その他の場合は１つである。Ｘは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基を表す。Ｙはハロゲン原子を表し、ｎは１〜３の整数を示す。〕
一般式（８）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
一般式（８）で表される化合物の具体例は以下の通りである。
［配向膜］
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜に使用するポリマーの種類は、液晶セルの表示モードの種類に応じて決定する。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に垂直（ダイレクターが透明支持体面の法線方向に平行）に配向している表示モード（例、ＶＡ、ＯＣＢ、ＨＡＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に水平（ディスコティック液晶性分子ではダイレクターが透明支持体面の法線方向に平行）に配向させる機能を有する配向膜を用いる。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に水平に配向している表示モード（例、ＳＴＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に垂直に配向させる機能を有する配向膜を用いる。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に斜めに配向している表示モード（例、ＴＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に斜めに配向させる機能を有する配向膜を用いる。
具体的なポリマーの種類については、液晶セルの表示モードに対応する液晶性分子を用いた光学補償シートについての文献に記載がある。配向膜に使用するポリマーに架橋性基を導入して架橋性基を反応させることにより、配向膜の強度が上がるとともに層間の密着も改良することが可能となる。なお、配向膜に使用する有機化合物の重合については、特開平８−３３８９１３号公報に記載がある。配向膜の厚さは、０．０１乃至５μｍであることが好ましく、０．０５乃至２μｍであることがさらに好ましい。本発明の配向膜に使用されるポリマーは、上記有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。
好ましいポリマーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーであり、さらにゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜に使用するポリマーの種類は、液晶セルの表示モードの種類に応じて決定する。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に垂直（ダイレクターが透明支持体面の法線方向に平行）に配向している表示モード（例、ＶＡ、ＯＣＢ、ＨＡＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に水平（ディスコティック液晶性分子ではダイレクターが透明支持体面の法線方向に平行）に配向させる機能を有する配向膜を用いる。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に水平に配向している表示モード（例、ＳＴＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に垂直に配向させる機能を有する配向膜を用いる。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に斜めに配向している表示モード（例、ＴＮ）では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に斜めに配向させる機能を有する配向膜を用いる。
具体的なポリマーの種類については、液晶セルの表示モードに対応する液晶性分子を用いた光学補償シートについての文献に記載がある。配向膜に使用するポリマーに架橋性基を導入して架橋性基を反応させることにより、配向膜の強度が上がるとともに層間の密着も改良することが可能となる。なお、配向膜に使用する有機化合物の重合については、特開平８−３３８９１３号公報に記載がある。配向膜の厚さは、０．０１乃至５μｍであることが好ましく、０．０５乃至２μｍであることがさらに好ましい。本発明の配向膜に使用されるポリマーは、上記有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。
好ましいポリマーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーであり、さらにゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のものであり、一般に鹸化度８０〜１００％のものであり、より好ましくは鹸化度８５乃至９５％のものである。重合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ(ＯＸ)3、Ｎ(ＣＨ3)3・Ｃｌ、Ｃ9Ｈ19ＣＯＯ、ＳＯ3Ｎａ、Ｃ12Ｈ25等が導入される）、連鎖移動により変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ12Ｈ25等が導入されている）、ブロック重合による変性をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ2、ＣＯＯＲ、Ｃ6Ｈ5等が導入される）等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。重合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。これらの中で、鹸化度８０〜１００％の未変性乃至変性ポリビニルアルコールであり、より好ましくは鹸化度８５乃至９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアルコールである。
［透明支持体］
光学補償シートの透明支持体として、光学異方性を制御したポリマーフィルムが用いられる。支持体が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。
透明支持体を形成する材料としては、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂が用いられる。ポリマーフィルムを延伸することによって、光学異方性を得る。なお、セルロースエステルフィルムにレターデーション上昇剤（欧州特許出願公開第０９１１６５６号明細書記載）を添加することで、光学的異方性の高いセルロースエステルフィルムを製造することもできる。セルロースエステルまたは合成ポリマーのフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、鹸化処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
光学補償シートの透明支持体として、光学異方性を制御したポリマーフィルムが用いられる。支持体が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。
透明支持体を形成する材料としては、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ノルボルネン樹脂が用いられる。ポリマーフィルムを延伸することによって、光学異方性を得る。なお、セルロースエステルフィルムにレターデーション上昇剤（欧州特許出願公開第０９１１６５６号明細書記載）を添加することで、光学的異方性の高いセルロースエステルフィルムを製造することもできる。セルロースエステルまたは合成ポリマーのフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明支持体の厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、鹸化処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
［液晶表示装置］
本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および光学補償シート（位相差板）からなる。偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなる。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。保護膜は偏光膜の両面に設けられる。光学補償シートの透明支持体を、偏光膜の一方の側の保護膜としても機能させることができる。他方の側の保護膜としては、光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。
本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および光学補償シート（位相差板）からなる。偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなる。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。保護膜は偏光膜の両面に設けられる。光学補償シートの透明支持体を、偏光膜の一方の側の保護膜としても機能させることができる。他方の側の保護膜としては、光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。
［比較例１］
（透明支持体の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
＜セルロースアセテート溶液組成＞
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ４５質量部
染料（住化ファインケム（株）製 ３６０ＦＰ）
０．０００９質量部
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
上記組成のセルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤溶液３６質量部、およびシリカ微粒子（アイロジル製 Ｒ９７２）１．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。また、シリカ微粒子の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．１５質量部であった。
（透明支持体の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
＜セルロースアセテート溶液組成＞
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ４５質量部
染料（住化ファインケム（株）製 ３６０ＦＰ）
０．０００９質量部
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
上記組成のセルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤溶液３６質量部、およびシリカ微粒子（アイロジル製 Ｒ９７２）１．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。また、シリカ微粒子の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．１５質量部であった。
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）（厚さ１０９μｍ）を製造した。
作成したセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは８５ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは７ｎｍであった。
作成したセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは８５ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは７ｎｍであった。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液（Ｓ−１）をロッドコーターを用いて塗布量１５ｃｃ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に１５秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｃｃ／ｍ2塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。
＜アルカリ溶液（Ｓ−１）組成＞
水酸化カリウム ８．５５質量％
水 ２３．２３５質量％
イソプロパノール ５４．２０質量％
界面活性剤（Ｋ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)2０Ｈ）
１．０質量％
プロピレングリコール １３．０質量％
消泡剤サーフィノールＤＦ１１０Ｄ（日信化学工業（株）製）
０．０１５質量％
この表面処理したフィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液をロードーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
＜配向膜塗布液＞
下記変性ポリビニルアルコール ２０質量％
水 ３６０質量％
メタノール １２０質量％
グルタルアルデヒド ０．５質量％
セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）上に、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液（Ｓ−１）をロッドコーターを用いて塗布量１５ｃｃ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に１５秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を３ｃｃ／ｍ2塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に７０℃の乾燥ゾーンに５秒間滞留させて乾燥した。
＜アルカリ溶液（Ｓ−１）組成＞
水酸化カリウム ８．５５質量％
水 ２３．２３５質量％
イソプロパノール ５４．２０質量％
界面活性剤（Ｋ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)2０Ｈ）
１．０質量％
プロピレングリコール １３．０質量％
消泡剤サーフィノールＤＦ１１０Ｄ（日信化学工業（株）製）
０．０１５質量％
この表面処理したフィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液をロードーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
＜配向膜塗布液＞
下記変性ポリビニルアルコール ２０質量％
水 ３６０質量％
メタノール １２０質量％
グルタルアルデヒド ０．５質量％
次に、配向膜を形成した表面の長手方向にラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１：固形分濃度３２．６％；ＭＥＫ溶媒）を＃３．２のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−１）を作成した。
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１）＞
下記のディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）） ０．９質量部
セルロースアセテートブチレート ０．２質量部
（ＣＡＢ５５１−０．２ イーストマンケミカル）
セルロースアセテートブチレート ０．０５質量部
（ＣＡＢ５３１−１ イーストマンケミカル）
イルガキュアー９０７ ０．３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） ０．１質量部
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１：固形分濃度３２．６％；ＭＥＫ溶媒）を＃３．２のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−１）を作成した。
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１）＞
下記のディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）） ０．９質量部
セルロースアセテートブチレート ０．２質量部
（ＣＡＢ５５１−０．２ イーストマンケミカル）
セルロースアセテートブチレート ０．０５質量部
（ＣＡＢ５３１−１ イーストマンケミカル）
イルガキュアー９０７ ０．３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） ０．１質量部
＜セルロースアセテート溶液組成＞
［実施例１］
（透明支持体の作製）
比較例１と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例１と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例１のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物１に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−２）を作製した。塗布条件は比較例１と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−２）を作成した。
［実施例１］
（透明支持体の作製）
比較例１と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例１と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−１）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例１のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物１に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−２）を作製した。塗布条件は比較例１と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−２）を作成した。
［比較例２］
（透明支持体の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
＜セルロースアセテート溶液組成＞
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ４５質量部
染料（住化ファインケム（株）製 ３６０ＦＰ）
０．０００９質量部
別のミキシングタンクに、上記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
上記組成のセルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤溶液３６質量部、およびシリカ微粒子（アイロジル製 Ｒ９７２）１．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。また、シリカ微粒子の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．１５質量部であった。
（透明支持体の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
＜セルロースアセテート溶液組成＞
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ４５質量部
染料（住化ファインケム（株）製 ３６０ＦＰ）
０．０００９質量部
別のミキシングタンクに、上記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
上記組成のセルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤溶液３６質量部、およびシリカ微粒子（アイロジル製 Ｒ９７２）１．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。また、シリカ微粒子の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．１５質量部であった。
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、乾燥風中で幅方向に延伸し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）（厚さ８８μｍ）を製造した。
作成したセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは１７５ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは３６ｎｍであった。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例１と同様の処理を実施した。
作成したセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは１７５ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは３６ｎｍであった。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例１と同様の処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３：固形分濃度３５．５％；ＭＥＫ溶媒）を＃３．２のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−３）を作成した。
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）＞
下記のディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）） ０．９質量部
セルロースアセテートブチレート ０．１５質量部
（ＣＡＢ５３１−１ イーストマンケミカル）
イルガキュアー９０７ ０・３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） ０．１質量部
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３：固形分濃度３５．５％；ＭＥＫ溶媒）を＃３．２のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−３）を作成した。
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）＞
下記のディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）） ０．９質量部
セルロースアセテートブチレート ０．１５質量部
（ＣＡＢ５３１−１ イーストマンケミカル）
イルガキュアー９０７ ０・３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） ０．１質量部
［実施例２］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物８に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−４）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−４）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物８に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−４）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−４）を作成した。
［実施例３］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物１９に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−５）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−５）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物１９に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−５）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−５）を作成した。
［実施例４］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物２１に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−６）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−６）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物２１に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−６）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−６）を作成した。
［実施例５］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物２８に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−７）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−７）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物２８に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−７）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−７）を作成した。
［実施例６］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物３０に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−８）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−８）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物３０に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−８）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−８）を作成した。
［実施例７］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物４１に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−９）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−９）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物４１に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−９）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−９）を作成した。
［実施例８］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物４２に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１０）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−１０）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−３）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物４２に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１０）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−１０）を作成した。
［実施例９］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
実施例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−４）を用い、塗布条件は＃３．６のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−１１）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
実施例２のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−４）を用い、塗布条件は＃３．６のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−１１）を作成した。
［実施例１０］
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
実施例５のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−７）を用い、塗布条件は＃３．６のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−１２）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−２）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
実施例５のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−７）を用い、塗布条件は＃３．６のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−１２）を作成した。
［比較例３］
（透明支持体の作製）
比較例２で得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、1分乾燥し、剥ぎ取った後、乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）（厚さ８０μμｍ）を製造した。
作成したセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは８３ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは６ｎｍであった。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１１：固形分濃度３４．０％；ＭＥＫ溶媒）を＃３．２のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−１３）を作成した。
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１１）＞
下記のディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）） ０．９質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製） ０．０８質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） ０．０３質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー例示化合物（Ｐ−１） ０．０５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー例示化合物（Ｐ−２） ０．００５質量部
イルガキュアー９０７ ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） ０．１質量部
（透明支持体の作製）
比較例２で得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、1分乾燥し、剥ぎ取った後、乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）（厚さ８０μμｍ）を製造した。
作成したセルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）について、レターデーションを測定したところ、厚み方向のレターデーションＲｔｈは８３ｎｍ、面内のレターデーションＲｅは６ｎｍであった。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例２と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１１：固形分濃度３４．０％；ＭＥＫ溶媒）を＃３．２のワイヤーバーコーターを使用し、１２５℃の高温槽中で３分間加熱し、ディスコティック液晶性分子を配向させた後、高圧水銀灯を用いてＵＶを５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、室温まで放冷して、光学補償シート（ＫＳ−１３）を作成した。
＜ディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１１）＞
下記のディスコティック液晶ＤＬＣ−Ａ ９．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）） ０．９質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製） ０．０８質量部
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） ０．０３質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー例示化合物（Ｐ−１） ０．０５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー例示化合物（Ｐ−２） ０．００５質量部
イルガキュアー９０７ ３．０質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製） ０．１質量部
［実施例１１］
（透明支持体の作製）
比較例３と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例３と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例３のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１１）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物１に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１２）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−１４）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例３と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例３と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例３のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１１）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物１に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１２）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−１４）を作成した。
［実施例１２］
（透明支持体の作製）
比較例３と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例３と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例３のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１１）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物２８に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１３）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−１５）を作成した。
（透明支持体の作製）
比較例３と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を作製した。
（鹸化処理、及び配向膜の形成）
比較例３と同様の方法で、セルロースアセテートフィルム（ＣＡ−３）を鹸化処理し、配向膜の形成、ラビング処理を実施した。
（光学異方性層の形成）
比較例３のディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１１）の光重合開始剤であるイルガキュアー９０７を例示化合物２８に当質量置き換えてディスコティック液晶塗布液（ＤＡ−１３）を作製した。塗布条件は比較例２と同様の方法を用い、光学補償シート（ＫＳ−１５）を作成した。
実施例１乃至１２及び比較例１乃至３で得られた光学補償フィルムの剥離結果（密着評価）の結果を表１に示す。
（光学補償フィルムの剥離評価） 光学補償フィルムの剥離評価は、ＪＩＳ Ｋ ５４００の８．５．２基盤目テープ法に順じて試験片を作製し評価した。但し、評価には日東電工製ポリエステル粘着テープＮＯ３１ＲＨを使用した。
Claims (10)
- 液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が下記一般式（１）〜（４）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする光学補償シート。
- 液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が下記一般式（５）〜（８）で表される化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする光学補償シート。
- 上記液晶性分子が重合により配向した状態のまま固定されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学補償シート。
- 上記液晶性分子がディスコティック液晶であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の光学補償シート。
- 透明支持体及び配向層及び液晶性分子から形成された光学異方層からなる光学補償シートにおいて、該光学異方層が請求項１乃至４のいずれかに記載している特徴を有する光学補償シート。
- 配向層が有機化合物であり、重合性基を有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の光学補償シート。
- 透明支持体がセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の光学補償シート。
- 透明保護膜、偏光膜、光学補償シートが積層されており、該光学補償シートが請求項１から７のいずれかに記載の特徴を有する楕円偏光板。
- ＴＮ型液晶セル及びその両側に配置された二枚の楕円偏光板を有するＴＮ型液晶表示装置であって、該楕円偏光板が請求項８に記載の特徴を有する液晶表示装置。
- ベンド配向モードの液晶セル及びその両側に配置された二枚の楕円偏光板を有するベンド配向モード型液晶表示装置であって、該楕円偏光板が請求項８に記載の特徴を有する液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005067905A JP2006251374A (ja) | 2005-03-10 | 2005-03-10 | 光学補償シート、楕円偏光板、および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005067905A JP2006251374A (ja) | 2005-03-10 | 2005-03-10 | 光学補償シート、楕円偏光板、および液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006251374A true JP2006251374A (ja) | 2006-09-21 |
Family
ID=37091951
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005067905A Pending JP2006251374A (ja) | 2005-03-10 | 2005-03-10 | 光学補償シート、楕円偏光板、および液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2006251374A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009069821A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 光学補償フィルム、その製造方法、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
| JP2015110728A (ja) * | 2013-10-31 | 2015-06-18 | Jnc株式会社 | 重合性液晶組成物およびツイスト配向を有する光学異方体 |
-
2005
- 2005-03-10 JP JP2005067905A patent/JP2006251374A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009069821A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 光学補償フィルム、その製造方法、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
| TWI465337B (zh) * | 2007-08-20 | 2014-12-21 | Fujifilm Corp | 光學補償薄膜、其製法、及使用它之偏光板與液晶顯示裝置 |
| JP2015110728A (ja) * | 2013-10-31 | 2015-06-18 | Jnc株式会社 | 重合性液晶組成物およびツイスト配向を有する光学異方体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4199412B2 (ja) | 光学補償シートおよびその製造方法 | |
| US6685998B1 (en) | Optical compensatory sheet comprising transparent support and optically anisotropic layer | |
| JP2000284126A (ja) | 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置 | |
| KR20070112161A (ko) | 광학 보상 필름, 편광판 및 액정 표시 장치 | |
| JP2006124639A (ja) | 高分子膜、液晶配向膜、位相差板及び液晶表示装置 | |
| JP4094792B2 (ja) | 光学補償シート、楕円偏光板および液晶表示装置 | |
| JP2006285187A (ja) | 光学補償フィルム、偏光板および液晶表示装置 | |
| US7785676B2 (en) | Optical compensation sheet, polarizing plate, and liquid crystal display device | |
| JP2005062668A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2000206331A (ja) | 位相差板および楕円偏光板 | |
| JP4874915B2 (ja) | 位相差膜、光学フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 | |
| JP4260331B2 (ja) | 光学補償シートおよび偏光板 | |
| JP2001100036A (ja) | 位相差板、楕円偏光板、円偏光分離素子および液晶表示装置 | |
| JP2007279421A (ja) | 光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置 | |
| JP2007279271A (ja) | 光学補償シート、光学補償シートを有する偏光板、および液晶表示装置 | |
| JP2006251374A (ja) | 光学補償シート、楕円偏光板、および液晶表示装置 | |
| JP3996292B2 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JP2001100032A (ja) | 偏光板、楕円偏光板および液晶表示装置 | |
| JP3981508B2 (ja) | 光学補償シート、楕円偏光板および液晶表示装置 | |
| JP4460664B2 (ja) | 光学補償シートおよび液晶表示装置 | |
| JP2007256477A (ja) | 光学補償シートの製造方法およびその製造方法により作製された光学補償シートを含む偏光板、および液晶表示装置 | |
| JP4619250B2 (ja) | 光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置 | |
| JP4148611B2 (ja) | 光学補償シート、楕円偏光板および液晶表示装置 | |
| JP4647270B2 (ja) | 位相差板、その製造方法ならびにそれを用いた偏光板及び画像表示装置 | |
| JP3987254B2 (ja) | 液晶ディスプレイ用バックライト装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061127 |