JP2006245085A - 投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法 - Google Patents

投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法 Download PDF

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010507915A (ja) * 2006-10-27 2010-03-11 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 対物レンズ部品を交換する方法及び装置
JP2010519600A (ja) * 2007-02-28 2010-06-03 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 瞳補正を有する反射屈折投影対物系
JP2011528181A (ja) * 2008-07-14 2011-11-10 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 変形可能な光学素子を有する光学装置
DE112010002795T5 (de) 2009-07-01 2012-08-23 Nikon Corporation Schleifvorrichtung, Schleifverfahren, Belichtungsvorrichtung undVerfahren zum Herstellen eines Bauelements
JP2013033286A (ja) * 2012-10-31 2013-02-14 Carl Zeiss Smt Gmbh 瞳補正を有する反射屈折投影対物系
JP2013058801A (ja) * 2006-07-03 2013-03-28 Carl Zeiss Smt Gmbh リソグラフィ投影対物器械を修正/修理する方法
US10133184B2 (en) 2012-04-25 2018-11-20 Nikon Corporation Using customized lens pupil optimization to enhance lithographic imaging in a source-mask optimization scheme
KR20190022876A (ko) * 2016-08-08 2019-03-06 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1054932A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Nikon Corp 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置
JPH1131652A (ja) * 1997-07-11 1999-02-02 Canon Inc 残存収差補正板及びそれを用いた投影露光装置
JPH11195602A (ja) * 1997-10-07 1999-07-21 Nikon Corp 投影露光方法及び装置
JP2001168000A (ja) * 1999-12-03 2001-06-22 Nikon Corp 露光装置の製造方法、および該製造方法によって製造された露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法
JP2002258131A (ja) * 2000-12-28 2002-09-11 Nikon Corp 投影光学系及びその製造方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1054932A (ja) * 1996-08-08 1998-02-24 Nikon Corp 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置
JPH1131652A (ja) * 1997-07-11 1999-02-02 Canon Inc 残存収差補正板及びそれを用いた投影露光装置
JPH11195602A (ja) * 1997-10-07 1999-07-21 Nikon Corp 投影露光方法及び装置
JP2001168000A (ja) * 1999-12-03 2001-06-22 Nikon Corp 露光装置の製造方法、および該製造方法によって製造された露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法
JP2002258131A (ja) * 2000-12-28 2002-09-11 Nikon Corp 投影光学系及びその製造方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013058801A (ja) * 2006-07-03 2013-03-28 Carl Zeiss Smt Gmbh リソグラフィ投影対物器械を修正/修理する方法
JP2010507915A (ja) * 2006-10-27 2010-03-11 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 対物レンズ部品を交換する方法及び装置
JP2010519600A (ja) * 2007-02-28 2010-06-03 カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー 瞳補正を有する反射屈折投影対物系
US8780441B2 (en) 2007-02-28 2014-07-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective with pupil correction
US9798243B2 (en) 2008-07-14 2017-10-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical device having a deformable optical element
JP2014232878A (ja) * 2008-07-14 2014-12-11 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 変形可能な光学素子を有する光学装置
US9217936B2 (en) 2008-07-14 2015-12-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical device having a deformable optical element
JP2011528181A (ja) * 2008-07-14 2011-11-10 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 変形可能な光学素子を有する光学装置
DE112010002795T5 (de) 2009-07-01 2012-08-23 Nikon Corporation Schleifvorrichtung, Schleifverfahren, Belichtungsvorrichtung undVerfahren zum Herstellen eines Bauelements
US10133184B2 (en) 2012-04-25 2018-11-20 Nikon Corporation Using customized lens pupil optimization to enhance lithographic imaging in a source-mask optimization scheme
JP2013033286A (ja) * 2012-10-31 2013-02-14 Carl Zeiss Smt Gmbh 瞳補正を有する反射屈折投影対物系
KR20190022876A (ko) * 2016-08-08 2019-03-06 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법
KR20210152019A (ko) * 2016-08-08 2021-12-14 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법
KR102338810B1 (ko) * 2016-08-08 2021-12-14 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법
KR102515770B1 (ko) * 2016-08-08 2023-03-30 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법

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