JP2006245085A - 投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法 - Google Patents
投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法 Download PDFInfo
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2005055413A JP2006245085A (ja) | 2005-03-01 | 2005-03-01 | 投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法 |
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| JP2005055413A JP2006245085A (ja) | 2005-03-01 | 2005-03-01 | 投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法 |
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| JP2006245085A true JP2006245085A (ja) | 2006-09-14 |
| JP2006245085A5 JP2006245085A5 (enExample) | 2008-04-24 |
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ID=37051229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2005055413A Pending JP2006245085A (ja) | 2005-03-01 | 2005-03-01 | 投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法 |
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| JP (1) | JP2006245085A (enExample) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010507915A (ja) * | 2006-10-27 | 2010-03-11 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 対物レンズ部品を交換する方法及び装置 |
| JP2010519600A (ja) * | 2007-02-28 | 2010-06-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 |
| JP2011528181A (ja) * | 2008-07-14 | 2011-11-10 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 変形可能な光学素子を有する光学装置 |
| DE112010002795T5 (de) | 2009-07-01 | 2012-08-23 | Nikon Corporation | Schleifvorrichtung, Schleifverfahren, Belichtungsvorrichtung undVerfahren zum Herstellen eines Bauelements |
| JP2013033286A (ja) * | 2012-10-31 | 2013-02-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 |
| JP2013058801A (ja) * | 2006-07-03 | 2013-03-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | リソグラフィ投影対物器械を修正/修理する方法 |
| US10133184B2 (en) | 2012-04-25 | 2018-11-20 | Nikon Corporation | Using customized lens pupil optimization to enhance lithographic imaging in a source-mask optimization scheme |
| KR20190022876A (ko) * | 2016-08-08 | 2019-03-06 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1054932A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Nikon Corp | 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置 |
| JPH1131652A (ja) * | 1997-07-11 | 1999-02-02 | Canon Inc | 残存収差補正板及びそれを用いた投影露光装置 |
| JPH11195602A (ja) * | 1997-10-07 | 1999-07-21 | Nikon Corp | 投影露光方法及び装置 |
| JP2001168000A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Nikon Corp | 露光装置の製造方法、および該製造方法によって製造された露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法 |
| JP2002258131A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-11 | Nikon Corp | 投影光学系及びその製造方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法 |
-
2005
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1054932A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Nikon Corp | 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置 |
| JPH1131652A (ja) * | 1997-07-11 | 1999-02-02 | Canon Inc | 残存収差補正板及びそれを用いた投影露光装置 |
| JPH11195602A (ja) * | 1997-10-07 | 1999-07-21 | Nikon Corp | 投影露光方法及び装置 |
| JP2001168000A (ja) * | 1999-12-03 | 2001-06-22 | Nikon Corp | 露光装置の製造方法、および該製造方法によって製造された露光装置を用いたマイクロデバイスの製造方法 |
| JP2002258131A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-11 | Nikon Corp | 投影光学系及びその製造方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013058801A (ja) * | 2006-07-03 | 2013-03-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | リソグラフィ投影対物器械を修正/修理する方法 |
| JP2010507915A (ja) * | 2006-10-27 | 2010-03-11 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 対物レンズ部品を交換する方法及び装置 |
| JP2010519600A (ja) * | 2007-02-28 | 2010-06-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 |
| US8780441B2 (en) | 2007-02-28 | 2014-07-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Catadioptric projection objective with pupil correction |
| US9798243B2 (en) | 2008-07-14 | 2017-10-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical device having a deformable optical element |
| JP2014232878A (ja) * | 2008-07-14 | 2014-12-11 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 変形可能な光学素子を有する光学装置 |
| US9217936B2 (en) | 2008-07-14 | 2015-12-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical device having a deformable optical element |
| JP2011528181A (ja) * | 2008-07-14 | 2011-11-10 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 変形可能な光学素子を有する光学装置 |
| DE112010002795T5 (de) | 2009-07-01 | 2012-08-23 | Nikon Corporation | Schleifvorrichtung, Schleifverfahren, Belichtungsvorrichtung undVerfahren zum Herstellen eines Bauelements |
| US10133184B2 (en) | 2012-04-25 | 2018-11-20 | Nikon Corporation | Using customized lens pupil optimization to enhance lithographic imaging in a source-mask optimization scheme |
| JP2013033286A (ja) * | 2012-10-31 | 2013-02-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 |
| KR20190022876A (ko) * | 2016-08-08 | 2019-03-06 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법 |
| KR20210152019A (ko) * | 2016-08-08 | 2021-12-14 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법 |
| KR102338810B1 (ko) * | 2016-08-08 | 2021-12-14 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법 |
| KR102515770B1 (ko) * | 2016-08-08 | 2023-03-30 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 광학 시스템 및 이 시스템을 이용하여 마스크 결함을 보정하기 위한 방법 |
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| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A02 | Decision of refusal |
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