JP2006237200A - 電子部品及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 一方の基板Pと他方の基板1との間に形成された封止空間K内に少なくとも機能素子1の一部が配置された電子部品であって、封止空間K内の環境を維持するための封止薄膜2を備える。
【選択図】 図1
Description
例えば、特許文献1や特許文献2には、機能素子と基板との間を樹脂や半田によって封止、この樹脂によって封止空間内の環境の維持を試みている。
近年は、弾性表面波素子を備える機能素子を用いた電子部品が使用されており、このような弾性表面波素子を備える機能素子を用いた電子部品においては、特に、機能素子に加わる応力によって誤動作を生じる恐れがある。
このような封止薄膜は、非常に薄い部材であるため、封止薄膜の熱膨張係数と基板の膨張係数とに差がある場合であっても、封止薄膜の熱膨張係数と基板の熱膨張係数との差に起因して機能素子に加わる応力を極力低減させることが可能となる。また、薄膜は、低温プロセスによって形成する技術が確立されているため、製造工程において各部材に熱が加わることを抑止でき、封止薄膜の熱膨張係数と基板の熱膨張係数との差に起因して機能素子に加わる応力をより低減させることが可能となる。
このような構成を採用することによって、封止薄膜を形成する際に、細かな位置決めを行う必要がなくなるため、容易に封止薄膜を形成することが可能となる。
具体的には、クロム、チタン、銅、アルミニウム及びチタンタングステンのいずれかの材料からなる金属薄膜を用いることができる。
具体的には、酸化シリコン、窒化シリコン、アルミナ及びポリシラザンのいずれかの材料からなる無機薄膜を用いることができる。
なお、封止薄膜を樹脂によって形成する場合には、他の部材の少なくとも転移温度以下で形成可能な樹脂を用いることが好ましい。これによって、他の部材の特性を変化させることなく、封止薄膜を形成することが可能となる。
具体的には、高密度ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ナイロン及びエチレンビニルアルコールのいずれかの材料からなる樹脂を用いることができる。
本発明の電子部品によれば、機能素子に加わる応力を低減させることが可能となるため、このような本発明の電子部品を備える本発明の電子機器は、信頼性に優れたものとなる。
このような封止薄膜は、非常に薄い部材であるため、封止薄膜の熱膨張係数と基板の膨張係数とに差がある場合であっても、封止薄膜の熱膨張係数と基板の熱膨張係数との差に起因して機能素子に加わる応力を極力低減させることが可能となる。また、薄膜は、低温プロセスによって形成する技術が確立されているため、製造工程において各部材に熱が加わることを抑止でき、封止薄膜の熱膨張係数と基板の熱膨張係数との差に起因して機能素子に加わる応力をより低減させることが可能となる。
図1は、本第1実施形態の電子部品100の概略構成を示した模式図である。この図に示すように、本実施形態の電子部品100は、基板P(一方の基板)上にバンプ20を介して接続される機能素子1を備えて構成されている。また、本実施形態の電子部品100は、機能素子1が配置された基板P上に機能素子1を覆って形成される封止薄膜2を備えている。
この図に示すように、機能素子1は、シリコン基板からなる半導体基板10と、半導体基板10の第1面10A側に設けられた弾性表面波素子(以下、SAW(Surface Acoustic Wave)素子と称する)50と、第1面10Aとその第1面10Aとは反対側の第2面10Bとを貫通する貫通電極12とを備えている。SAW素子50は、圧電薄膜とその圧電薄膜に接する櫛歯電極とを含んで構成されており、半導体基板10の第1面10Aに形成されている。また、不図示ではあるが、半導体基板10の第2面10B上には、例えばトランジスタ、メモリ素子、その他の電子素子を含む集積回路が形成されおり、半導体基板10の第2面10Bが能動面として構成されている。そして、貫通電極12の一端部が、第1面10Aに設けられたSAW素子50と電気的に接続されているとともに、貫通電極12の他端部が、第2面10Bに設けられた上記集積回路と電極15を介して電気的に接続されている。したがって、半導体基板10の第1面10A上に設けられたSAW素子50と、半導体基板10の第2面10B上に設けられた集積回路とが貫通電極12を介して電気的に接続されている。また、貫通電極12と半導体基板10との間には絶縁膜13が設けられており、貫通電極12と半導体基板10とは電気的に絶縁されている。
すなわち、本実施形態の電子部品100においては、機能素子1が本発明の他方の基板としての機能も有しており、機能素子1と基板Pとによって封止空間である空間Kが形成されている。そして、機能素子1が能動面である第2面10Bを基板P側に向けて配置されることによって、第2面10Bが空間K内に配置されている。
また、基板Pは、配線パターンを備えている。そして、この配線パターンと機能素子1とがバンプ20を介して電気的に接続されている。なお、基板Pとしては、樹脂に配線パターンが形成されたプリント配線基板、配線パターンが形成されたシリコン基板あるいは配線パターンが形成されたガラス基板等を用いることができる。
なお、封止樹脂3としては、周知の封止用の樹脂を用いることができ、例えば、エポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等を用いることができる。
そして、このような封止薄膜2は、非常に薄い膜であるため、封止薄膜2の熱膨張係数と基板Pの膨張係数とに差がある場合であっても、封止薄膜2の熱膨張係数と基板Pの熱膨張係数との差に起因し、機能素子1に加わる応力を極力低減させることが可能となる。
したがって、本実施形態の電子部品100によれば、機能素子1と基板Pとの間の空間K内の環境を維持することができるとともに、機能素子1に加わる応力を低減させることができ、電子部品100の正常な動作をより確保することが可能となる。
また、封止薄膜2として、有機薄膜と無機薄膜との積層体を用いることも可能である。
第1絶縁層14は、ポリイミド樹脂、シリコン変性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン変性エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ベンゾシクロブテン(BCB)、ポリベンゾオキサゾール(PBO)等で形成することができる。あるいは、第1絶縁層14は、酸化シリコン(SiO2)、窒化シリコン(SiN)等、絶縁性があれば他のもので形成されてもよい。
そして、エッチング処理が行われ、図中、右側の電極15を覆う第1絶縁層14の一部が除去されて開口部が形成される。次に、上記開口部を形成した第1絶縁層14上のフォトレジストをマスクとして、ドライエッチングにより、複数の電極15のうち、図中、右側の電極15の一部が開口される。更に、その開口に対応する下地層11、及び半導体基板10を一部がエッチングにより除去される。これによって、図4に示すように、半導体基板10の第2面10B側の一部に孔部12Hが形成される。
これによって、図10に示すように、半導体基板10が薄くされるとともに、貫通電極12の一端部が、第1面10Aより露出する。
このような封止薄膜2を形成する工程は、機能素子1を覆うように封止用の樹脂部材を形成する工程と比較して低温で行うことができる。例えば、封止薄膜2の材料を溶媒に溶かし、この液体を塗布後、溶媒を自然乾燥によって蒸発させることによって、室温で封止薄膜2を形成することができる。このため、封止薄膜2を形成する工程において、機能素子1に熱的なダメージが与えられることを防止することができる。また、封止薄膜2の形成工程において各部材に熱が加わることを抑止でき、封止薄膜2の熱膨張係数と基板Pの熱膨張係数との差に起因して機能素子1に加わる応力をより低減させることが可能となる。これよって、例えば、SAW素子50の周波数変動等の特性変化が生じることを防止することが可能となる。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、本第2実施形態の説明において、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。なお、本第3実施形態の説明においても、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
そして、半導体基板10の第1面10Aより突出するようにして設けられた貫通電極12の一端部と、第2基板80の面80A上に形成されたSAW素子50の端子51とが電気的に接続される。本実施形態においても、貫通電極12の一端部及び端子51は、金属接続しやすいように、金などの表面処理、あるいはロウ材を表面に設けることが好ましい。
あるいは、貫通電極12の一端部と端子51とは、接着剤層30の収縮による圧接でもよい。その後、半導体基板10と封止部材40とが接着剤層30を介して接合され、半導体基板10と封止部材40と接着剤層30とで囲まれた内部空間60に、SAW素子50を有する第2基板80が配置される。
次に、本発明の第4実施形態について説明する。なお、本第4実施形態の説明においても、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
次に、本発明の第5実施形態として、上記第1〜第4いずれかの実施形態の電子部品100〜400を備える電子機器について説明する。
Claims (11)
- 一方の基板と他方の基板との間に形成された封止空間内に少なくとも機能素子の一部が配置された電子部品であって、
前記封止空間内の環境を維持するための封止薄膜を備えることを特徴とする電子部品。 - 前記封止薄膜は、前記一方の基板あるいは前記他方の基板を覆って形成されていることを特徴とする請求項1記載の電子部品。
- 前記封止薄膜は、金属薄膜であることを特徴とする請求項1または2記載の電子部品。
- 前記金属薄膜は、クロム、チタン、銅、アルミニウム及びチタンタングステンのいずれかの材料からなることを特徴とする請求項3記載の電子部品。
- 前記封止薄膜は、無機薄膜であることを特徴とする請求項1または2記載の電子部品
- 前記無機薄膜は、酸化シリコン、窒化シリコン、アルミナ及びポリシラザンのいずれかの材料からなることを特徴とする請求項5記載の電子部品。
- 前記封止薄膜は、他の部材の少なくとも転移温度以下で形成可能な樹脂であることを特徴とする請求項1または2記載の電子部品。
- 前記樹脂は、高密度ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ナイロン及びエチレンビニルアルコールのいずれかの材料からなることを特徴とする請求項7記載の電子部品。
- 前記封止薄膜は、有機薄膜と無機薄膜との積層体であることを特徴とする請求項1または2記載の電子部品。
- 請求項1〜9いずれかに記載の電子部品を備えることを特徴とする電子機器。
- 一方の基板と他方の基板との間に形成された封止空間内に少なくとも機能素子の一部が配置された電子部品の製造方法であって、
前記一方の基板と前記他方の基板との間に形成される封止空間内に少なくとも前記機能素子の一部を配置する工程と、
前記封止空間内の環境を維持するための封止薄膜を形成する工程と
を有することを特徴とする電子機器の製造方法。
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