JP2006222340A - Device and method for drying substrate - Google Patents

Device and method for drying substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2006222340A
JP2006222340A JP2005035691A JP2005035691A JP2006222340A JP 2006222340 A JP2006222340 A JP 2006222340A JP 2005035691 A JP2005035691 A JP 2005035691A JP 2005035691 A JP2005035691 A JP 2005035691A JP 2006222340 A JP2006222340 A JP 2006222340A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
gas
hot air
temperature
air knife
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005035691A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Moriguchi
善弘 森口
Makoto Izaki
良 井崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Hitachi High Tech Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp, Hitachi High Tech Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2005035691A priority Critical patent/JP2006222340A/en
Publication of JP2006222340A publication Critical patent/JP2006222340A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the price of a device by heating a substrate inexpensively. <P>SOLUTION: The substrate 1 is transferred to the substrate drying device after removing treating liquid on the surface thereof by air knives. Rollers 10 are turned at a predetermined speed to move the substrate 1 into a substrate moving direction with the predetermined speed. The hot air knives 20a, 20b blow gas with a temperature higher than a normal temperature against the substrate 1. Heat insulating members 30a, 30b are constituted of a heat insulating material and suppress the lowering of temperature of the gas blown against the substrate 1 from the hot air knives 20a, 20b. A drying tank 40 is constituted of the heat insulating material and circulates the gas while suppressing the lowering of temperature of the gas passed between the heat insulating members 30a, 30b and the substrate 1, whereby the gas in the drying tank 40 is kept at a high temperature and suppresses further the lowering of temperature of the gas blown against the substrate 1 from the hot air knives 20a, 20b, and a collecting tubing 24 collects a part of gas from the drying tank 40 to return to a gas heating device 22. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ装置用のパネル基板等を乾燥させる基板乾燥装置及び基板乾燥方法に係り、特に大型の基板の乾燥に好適な基板乾燥装置及び基板乾燥方法に関する。   The present invention relates to a substrate drying apparatus and a substrate drying method for drying a panel substrate or the like for a flat panel display device, and more particularly to a substrate drying apparatus and a substrate drying method suitable for drying a large substrate.

液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置等のようなフラットパネルディスプレイ装置用のパネル基板の製造工程では、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を形成するため、現像やエッチング等の薬液処理が行われる。そして、薬液処理の前又は後には、洗浄水(純水)を用いた基板の洗浄、及び洗浄後の基板の乾燥が必要である。基板の洗浄及び乾燥を含むこれらの一連の処理は、ローラコンベア等の移動手段を用いて基板を移動しながら行われることが多く、基板の乾燥は、エアナイフを用いて基板へエアを吹き付けることにより、洗浄水等の処理液を基板の表面から押し流して除去するのが一般的である。   In a manufacturing process of a panel substrate for a flat panel display device such as a liquid crystal display device or a plasma display device, chemical processing such as development and etching is performed to form a circuit pattern, a color filter, and the like on the substrate. Before or after the chemical treatment, it is necessary to clean the substrate using cleaning water (pure water) and dry the substrate after cleaning. These series of processes including the cleaning and drying of the substrate are often performed while moving the substrate using a moving means such as a roller conveyor, and the drying of the substrate is performed by blowing air onto the substrate using an air knife. In general, a treatment liquid such as cleaning water is removed from the surface of the substrate.

近年のフラットパネルディスプレイ装置の大画面化に伴って基板が大型化すると、エアナイフを用いた処理液の除去だけでは、基板を十分に乾燥させるのに時間が掛かり、または基板を十分に乾燥させることができなかった。このため、エアナイフを用いて処理液を除去した後、さらに基板を加熱することで基板の乾燥を行っていた。このような基板の加熱には、従来、ホットプレートや特許文献1及び特許文献2に記載のように赤外線ヒータが用いられていた。
特開平5−166789号公報 特開平10−321583号公報
If the substrate becomes larger with the recent increase in the screen size of flat panel display devices, it will take time to sufficiently dry the substrate by simply removing the processing solution using an air knife, or the substrate will be sufficiently dried. I could not. For this reason, after removing the processing liquid using an air knife, the substrate is further dried by heating the substrate. Conventionally, an infrared heater as described in Patent Document 1 and Patent Document 2 has been used for heating such a substrate.
JP-A-5-166789 Japanese Patent Laid-Open No. 10-321583

従来の基板乾燥装置は、基板を加熱するのに高価なホットプレートや赤外線ヒータが必要なため、装置が高価になるという問題があった。特に、基板が大型化する程、ホットプレートや赤外線ヒータも大型でさらに高価なのものが必要であった。   The conventional substrate drying apparatus has a problem that the apparatus becomes expensive because an expensive hot plate or infrared heater is required to heat the substrate. In particular, the larger the substrate, the larger the hot plate and infrared heater, which are more expensive.

本発明の課題は、基板の加熱を安価に行い、装置の価格を低下させることである。   An object of the present invention is to heat the substrate at a low cost and to reduce the price of the apparatus.

本発明の基板乾燥装置は、基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板へ常温より高い温度の気体を吹き付けるホットエアナイフと、断熱材からなり、基板移動手段により移動される基板の周囲に設けられ、ホットエアナイフから基板へ吹き付けられた気体の温度の低下を抑制する保温部材と、断熱材からなり、ホットエアナイフ及び保温部材の周囲に設けられ、保温部材と基板との間を通過した気体の温度の低下を抑制しながら当該気体を循環させる乾燥槽とを備えたものである。   The substrate drying apparatus of the present invention comprises a substrate moving means for moving a substrate, a hot air knife for blowing a gas having a temperature higher than normal temperature onto the substrate moved by the substrate moving means, and a heat insulating material, and is moved by the substrate moving means. A heat insulating member that is provided around the substrate and suppresses a decrease in the temperature of the gas blown from the hot air knife to the substrate, and a heat insulating material, and is provided around the hot air knife and the heat insulating member between the heat insulating member and the substrate. And a drying tank that circulates the gas while suppressing a decrease in the temperature of the gas that has passed through.

また、本発明の基板乾燥方法は、基板を移動しながら、ホットエアナイフから基板へ常温より高い温度の気体を吹き付け、断熱材からなる保温部材を基板の周囲に設けて、ホットエアナイフから基板へ吹き付けられた気体の温度の低下を抑制し、断熱材からなる乾燥槽をホットエアナイフ及び保温部材の周囲に設けて、保温部材と基板との間を通過した気体の温度の低下を抑制しながら当該気体を乾燥槽内で循環させるものである。   In addition, the substrate drying method of the present invention sprays a gas having a temperature higher than normal temperature from the hot air knife to the substrate while moving the substrate, and a thermal insulation member made of a heat insulating material is provided around the substrate to spray the substrate from the hot air knife. The temperature of the generated gas is suppressed, a drying tank made of a heat insulating material is provided around the hot air knife and the heat retaining member, and the gas is measured while suppressing the temperature decrease of the gas that has passed between the heat retaining member and the substrate. Is circulated in the drying tank.

ホットエアナイフから基板へ高温の気体を吹き付けることにより、基板を加熱して乾燥させる。ホットエアナイフから吐出された気体は、膨張により温度が低下する。そして、そのままでは周囲の気体に熱を奪われてさらに温度が低下するが、本発明では、断熱材からなる保温部材により熱の伝播が抑制され、ホットエアナイフから基板へ吹き付けられた気体の温度の低下が抑制される。また、保温部材と基板との間を通過した気体が温度の低下を抑制されながら乾燥槽内を循環するので、乾燥槽内の気体が高温に保たれ、ホットエアナイフから基板へ吹き付けられた気体の温度の低下がさらに抑制される。従って、ホットエアナイフを用いて基板の加熱を効果的に行うことができる。   The substrate is heated and dried by blowing hot gas from the hot air knife to the substrate. The temperature of the gas discharged from the hot air knife decreases due to expansion. And, as it is, the surrounding gas is deprived of heat and the temperature further decreases.In the present invention, the heat transfer is suppressed by the heat insulating member made of a heat insulating material, and the temperature of the gas blown from the hot air knife to the substrate is reduced. Reduction is suppressed. In addition, since the gas that has passed between the heat retaining member and the substrate circulates in the drying tank while suppressing a decrease in temperature, the gas in the drying tank is kept at a high temperature, and the gas blown from the hot air knife to the substrate A decrease in temperature is further suppressed. Therefore, the substrate can be effectively heated using the hot air knife.

さらに、本発明の基板乾燥装置は、気体を加熱してホットエアナイフへ供給する気体供給手段と、乾燥槽から気体の一部を回収して気体供給手段へ戻す気体回収手段とを備えたものである。また、本発明の基板乾燥方法は、乾燥槽から気体の一部を回収して再加熱し、ホットエアナイフへ供給する気体の一部とするものである。   Furthermore, the substrate drying apparatus of the present invention comprises a gas supply means for heating the gas and supplying it to the hot air knife, and a gas recovery means for recovering a part of the gas from the drying tank and returning it to the gas supply means. is there. Further, the substrate drying method of the present invention recovers a part of the gas from the drying tank, reheats it, and uses it as a part of the gas supplied to the hot air knife.

乾燥槽内の高温の気体を回収して再利用することにより、気体の消費量が低減し、さらに気体を加熱するためのエネルギーが少なく済む。   By collecting and reusing the high-temperature gas in the drying tank, the amount of gas consumed is reduced, and further, energy for heating the gas is reduced.

また、ホットエアナイフを複数設けると、基板の加熱効果が向上する。ホットエアナイフを複数設ける場合、移動される基板の流れに沿って複数設けてもよいし、また移動される基板の上流側及び下流側に設けてもよい。   Further, when a plurality of hot air knives are provided, the heating effect of the substrate is improved. When a plurality of hot air knives are provided, a plurality of hot air knives may be provided along the flow of the substrate to be moved, or may be provided on the upstream side and the downstream side of the substrate to be moved.

本発明の基板乾燥装置及び基板乾燥方法によれば、ホットエアナイフを用いて基板の加熱を効果的に行うことができる。従って、高価なホットプレートや赤外線ヒータを用いることなく、基板の加熱を安価に行い、装置の価格を低下させることができる。   According to the substrate drying apparatus and the substrate drying method of the present invention, the substrate can be effectively heated using the hot air knife. Therefore, the substrate can be heated at a low cost without using an expensive hot plate or infrared heater, and the price of the apparatus can be reduced.

また、乾燥槽内の高温の気体を回収して再利用することにより、気体の消費量を低減し、さらに気体を加熱するためのエネルギーを少なくすることができる。従って、装置の運転費用が低下する。   Moreover, by recovering and reusing the high-temperature gas in the drying tank, it is possible to reduce gas consumption and further reduce the energy for heating the gas. Therefore, the operating cost of the apparatus is reduced.

また、ホットエアナイフを複数設けることにより、基板の加熱効果を向上させることができる。   Moreover, the heating effect of a board | substrate can be improved by providing multiple hot air knives.

図1は、本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の概略構成を示す図である。基板乾燥装置は、ローラ10、ホットエアナイフ20a,20b、保温部材30a,30b、及び乾燥槽40を含んで構成されている。   FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate drying apparatus according to an embodiment of the present invention. The substrate drying apparatus includes a roller 10, hot air knives 20 a and 20 b, heat retaining members 30 a and 30 b, and a drying tank 40.

本実施の形態の基板乾燥装置は、基板の乾燥工程において、エアナイフを用いて基板の表面の処理液を除去した後に使用される。基板1は、図示しないエアナイフにより表面の処理液が除去された後、大きな矢印で示した基板移動方向に基板乾燥装置へ搬送される。   The substrate drying apparatus of the present embodiment is used after removing the processing liquid on the surface of the substrate using an air knife in the substrate drying process. The substrate 1 is transported to the substrate drying apparatus in the substrate movement direction indicated by a large arrow after the surface treatment liquid is removed by an air knife (not shown).

基板乾燥装置へ搬送された基板1は、複数のローラ10上に搭載される。各ローラ10は、基板移動方向に一定の間隔で設置されており、図示しない駆動手段により所定の速度で回転して、基板1を基板移動方向へ所定の速度で移動する。   The substrate 1 transported to the substrate drying apparatus is mounted on a plurality of rollers 10. Each roller 10 is installed at a constant interval in the substrate moving direction, and is rotated at a predetermined speed by a driving means (not shown) to move the substrate 1 in the substrate moving direction at a predetermined speed.

ローラ10に搭載された基板1の上方には、基板1の基板移動方向と直交する方向(図面奥行き方向)の幅に渡り、ホットエアナイフ20aが基板1と平行に設置されている。また、ローラ10に搭載された基板1の下方には、ホットエアナイフ20bが同様に設置されている。ホットエアナイフ20a,20bは、例えば、長尺のケーシングの内部に加圧室を形成し、加圧室に通じるエア通路を長手方向にスリット状に設けて構成されている。   Above the substrate 1 mounted on the roller 10, a hot air knife 20 a is installed in parallel with the substrate 1 over a width in a direction (drawing depth direction) orthogonal to the substrate moving direction of the substrate 1. A hot air knife 20b is similarly installed below the substrate 1 mounted on the roller 10. The hot air knives 20a and 20b are configured, for example, by forming a pressurizing chamber inside a long casing and providing an air passage leading to the pressurizing chamber in a slit shape in the longitudinal direction.

ホットエアナイフ20a,20bへ気体を供給する気体供給設備は、気体タンク21、気体加熱装置22、及び供給配管23を含んで構成されている。気体タンク21から気体加熱装置22へ気体が供給される。気体加熱装置22は、例えば円筒形のヒータの周りに配管をスパイラル状に設置して構成され、配管内を通る気体をヒータの熱で加熱する。気体加熱装置22で加熱された常温より高い温度の気体は、供給配管23を通って、ホットエアナイフ20a,20bへ供給される。供給配管23は、断熱材を巻くことにより、気体加熱装置22で加熱された気体の温度の低下を防止することができる。   A gas supply facility for supplying gas to the hot air knives 20 a and 20 b includes a gas tank 21, a gas heating device 22, and a supply pipe 23. Gas is supplied from the gas tank 21 to the gas heating device 22. The gas heating device 22 is configured, for example, by installing a pipe spirally around a cylindrical heater, and heats the gas passing through the pipe with the heat of the heater. The gas having a temperature higher than normal temperature heated by the gas heating device 22 is supplied to the hot air knives 20a and 20b through the supply pipe 23. The supply pipe 23 can prevent the temperature of the gas heated by the gas heating device 22 from being lowered by winding a heat insulating material.

気体としては、例えば、清浄化された空気や窒素等を使用する。空気を使用する利点は、安価で取り扱いが容易なことである。また、窒素を使用する利点は、気体加熱装置22内の配管や供給配管23等が酸化しにくいことである。   As the gas, for example, purified air or nitrogen is used. The advantage of using air is that it is inexpensive and easy to handle. The advantage of using nitrogen is that the piping in the gas heating device 22, the supply piping 23, and the like are not easily oxidized.

ホットエアナイフ20a,20bは、供給配管23を通って供給された常温より高い温度の気体を、エア通路の先端から長手方向に渡って均一に吐出する。本実施の形態では、一例として、エア通路の先端から吐出される気体の温度を180〜200℃とする。ホットエアナイフ20a,20bから吐出された気体は、基板1の表面又は裏面に対し、所定の入射角度で基板移動方向に斜めに吹き付けられる。これにより、基板1の表面及び裏面が加熱されて乾燥される。   The hot air knives 20a and 20b uniformly discharge a gas having a temperature higher than normal temperature supplied through the supply pipe 23 from the front end of the air passage in the longitudinal direction. In the present embodiment, as an example, the temperature of the gas discharged from the tip of the air passage is set to 180 to 200 ° C. The gas discharged from the hot air knives 20a, 20b is blown obliquely in the substrate movement direction at a predetermined incident angle with respect to the front or back surface of the substrate 1. Thereby, the front surface and the back surface of the substrate 1 are heated and dried.

ローラ10に搭載された基板1の上方には、基板1の基板移動方向と直交する方向(図面奥行き方向)の幅に渡って、保温部材30aが基板1と所定の間隔で平行に設置されている。また、ローラ10に搭載された基板1の下方には、基板1の基板移動方向と直交する方向(図面奥行き方向)の幅に渡って、保温部材30bが基板1と所定の間隔で平行に設置されている。保温部材30a,30bは、断熱材からなる。断熱材にはシリコン系ゴムやウレタンなどを用いるとよい。   Above the substrate 1 mounted on the roller 10, a heat retaining member 30a is installed in parallel with the substrate 1 at a predetermined interval over a width in a direction orthogonal to the substrate movement direction of the substrate 1 (the depth direction in the drawing). Yes. Also, below the substrate 1 mounted on the roller 10, a heat retaining member 30b is installed in parallel with the substrate 1 at a predetermined interval across the width in the direction orthogonal to the substrate moving direction of the substrate 1 (the drawing depth direction). Has been. The heat retaining members 30a and 30b are made of a heat insulating material. Silicon-based rubber or urethane may be used for the heat insulating material.

本実施の形態では、保温部材30bの厚さがローラ10の直径より大きく、保温部材30bには、基板1の基板移動方向と直交する方向(図面奥行き方向)の幅に渡って、ローラ10が入る溝が設けられている。   In the present embodiment, the thickness of the heat retaining member 30b is larger than the diameter of the roller 10, and the heat retaining member 30b is provided with the roller 10 across the width in the direction perpendicular to the substrate moving direction of the substrate 1 (the depth direction in the drawing). An entry groove is provided.

ホットエアナイフ20a,20bから吐出された気体は、膨張により温度が低下する。そして、そのままでは周囲の気体に熱を奪われてさらに温度が低下するが、断熱材からなる保温部材30a,30bが、熱の伝播を抑制して、ホットエアナイフ20a,20bから基板1へ吹き付けられた気体の温度の低下を抑制する。   The temperature of the gas discharged from the hot air knives 20a and 20b decreases due to expansion. Then, although the heat is taken away by the surrounding gas as it is and the temperature further decreases, the heat retaining members 30a and 30b made of a heat insulating material are blown from the hot air knives 20a and 20b to the substrate 1 while suppressing heat propagation. Suppresses a decrease in the gas temperature.

ホットエアナイフ20a,20b及び保温部材30a,30bの周囲には、乾燥槽40が設けられている。乾燥槽40は、保温部材30a,30bと同様に断熱材からなる。   A drying tank 40 is provided around the hot air knives 20a and 20b and the heat retaining members 30a and 30b. The drying tank 40 is made of a heat insulating material in the same manner as the heat retaining members 30a and 30b.

本実施の形態では、ホットエアナイフ20a,20bからの気体が基板移動方向に斜めに吹き付けられるので、ホットエアナイフ20a,20bから基板1へ吹き付けられた気体は、保温部材30a,30bと基板1との間を基板移動方向と同じ向きに通過する。保温部材30a,30bと基板1との間を通過した気体は、その一部が小さな矢印で示す様に乾燥槽40内を循環し、またその一部が乾燥槽40に設けた基板1の出入口から排出される。   In the present embodiment, since the gas from the hot air knives 20a, 20b is blown obliquely in the direction of movement of the substrate, the gas blown from the hot air knives 20a, 20b to the substrate 1 flows between the heat retaining members 30a, 30b and the substrate 1. It passes in the same direction as the substrate movement direction. A part of the gas passing between the heat retaining members 30a and 30b and the substrate 1 circulates in the drying tank 40 as indicated by a small arrow, and a part of the gas enters and exits the substrate 1 provided in the drying tank 40. Discharged from.

断熱材からなる乾燥槽40は、保温部材30a,30bと基板1との間を通過した気体の温度の低下を抑制しながら当該気体を循環させることにより、乾燥槽40内の気体を高温に保ち、ホットエアナイフ20a,20bから基板1へ吹き付けられた気体の温度の低下をさらに抑制する。   The drying tank 40 made of a heat insulating material keeps the gas in the drying tank 40 at a high temperature by circulating the gas while suppressing a decrease in the temperature of the gas that has passed between the heat retaining members 30a and 30b and the substrate 1. Further, the temperature of the gas blown from the hot air knives 20a, 20b to the substrate 1 is further suppressed.

図2は、本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、図1に示した実施の形態に回収配管24を追加したものである。回収配管24は、乾燥槽40から気体の一部を回収して気体加熱装置22へ戻す。回収配管24は、断熱材を巻くことにより、回収した気体の温度の低下を防止することができる。   FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate drying apparatus according to another embodiment of the present invention. In this embodiment, a recovery pipe 24 is added to the embodiment shown in FIG. The recovery pipe 24 recovers a part of the gas from the drying tank 40 and returns it to the gas heating device 22. The recovery pipe 24 can prevent the temperature of the recovered gas from decreasing by winding a heat insulating material.

気体供給設備は、回収配管24により回収された気体を、気体タンク21から供給された気体と共に気体加熱装置22で加熱し、供給配管23を介してホットエアナイフ20a,20bへ供給する。これにより、乾燥槽40内の気体の一部が回収されて再加熱され、ホットエアナイフ20a,20bへ供給される気体の一部となる。   The gas supply facility heats the gas recovered by the recovery pipe 24 together with the gas supplied from the gas tank 21 by the gas heating device 22, and supplies the gas to the hot air knives 20 a and 20 b via the supply pipe 23. Thereby, a part of gas in the drying tank 40 is collect | recovered and reheated, and becomes a part of gas supplied to hot air knife 20a, 20b.

本実施の形態によれば、乾燥槽40内の高温の気体を回収して再利用することにより、気体の消費量を低減し、さらに気体加熱装置22が気体を加熱するためのエネルギーを少なくすることができる。従って、装置の運転費用が低下する。   According to the present embodiment, by recovering and reusing the high-temperature gas in the drying tank 40, the gas consumption is reduced, and the energy for the gas heating device 22 to heat the gas is reduced. be able to. Therefore, the operating cost of the apparatus is reduced.

図3は、本発明のさらに他の実施の形態による基板乾燥装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、図2に示した実施の形態において、ホットエアナイフ20a,20bを、移動される基板1の流れに沿って複数設けたものである。   FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate drying apparatus according to still another embodiment of the present invention. In the present embodiment, a plurality of hot air knives 20a and 20b are provided along the flow of the substrate 1 to be moved in the embodiment shown in FIG.

ローラ10に搭載された基板1の上方には、ホットエアナイフ20aが、ローラ10によって移動される基板1の流れに沿って複数(本実施の形態では2つ)設置されている。また、ローラ10に搭載された基板1の下方には、ホットエアナイフ20bが同様に設置されている。ホットエアナイフ20a,20bから吐出された気体は、基板1の表面又は裏面に対し、所定の入射角度で基板移動方向に斜めに吹き付けられる。保温部材30a,30bは、ホットエアナイフ20a,20bに干渉しないように、それぞれ分割されて設置されている。   A plurality of hot air knives 20 a (two in the present embodiment) are installed above the substrate 1 mounted on the roller 10 along the flow of the substrate 1 moved by the roller 10. A hot air knife 20b is similarly installed below the substrate 1 mounted on the roller 10. The gas discharged from the hot air knives 20a, 20b is blown obliquely in the substrate movement direction at a predetermined incident angle with respect to the front or back surface of the substrate 1. The heat retaining members 30a and 30b are divided and installed so as not to interfere with the hot air knives 20a and 20b.

図4は、本発明のさらに他の実施の形態による基板乾燥装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、図3に示した実施の形態に対し、ホットエアナイフ20a,20bを、移動される基板の上流側及び下流側に設けたものである。   FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a substrate drying apparatus according to still another embodiment of the present invention. In the present embodiment, hot air knives 20a and 20b are provided on the upstream side and the downstream side of the substrate to be moved as compared with the embodiment shown in FIG.

ローラ10に搭載された基板1の上方には、ホットエアナイフ20aが、ローラ10によって移動される基板の上流側及び下流側にそれぞれ設置されている。また、ローラ10に搭載された基板1の下方には、ホットエアナイフ20bが同様に設置されている。保温部材30a,30bは、それぞれ2つに分割され、中央に開口を設けて設置されている。回収配管24は、保温部材30a,30bの開口の上方又は下方に設置されている。   Above the substrate 1 mounted on the roller 10, hot air knives 20 a are respectively installed on the upstream side and the downstream side of the substrate moved by the roller 10. A hot air knife 20b is similarly installed below the substrate 1 mounted on the roller 10. The heat retaining members 30a and 30b are each divided into two, and are installed with an opening at the center. The recovery pipe 24 is installed above or below the openings of the heat retaining members 30a and 30b.

上流側のホットエアナイフ20a,20bから吐出された気体は、基板1の表面又は裏面に対し、所定の入射角度で基板移動方向に斜めに吹き付けられる。上流側のホットエアナイフ20a,20bから基板1へ吹き付けられた気体は、保温部材30a,30bと基板1との間を基板移動方向と同じ向きに通過する。   The gas discharged from the hot air knives 20a and 20b on the upstream side is blown obliquely to the front or back surface of the substrate 1 at a predetermined incident angle in the substrate moving direction. The gas blown from the upstream hot air knives 20a, 20b to the substrate 1 passes between the heat retaining members 30a, 30b and the substrate 1 in the same direction as the substrate moving direction.

一方、下流側のホットエアナイフ20a,20bから吐出された気体は、基板1の表面又は裏面に対し、所定の入射角度で基板移動方向と逆方向に斜めに吹き付けられる。下流側のホットエアナイフ20a,20bから基板1へ吹き付けられた気体は、保温部材30a,30bと基板1との間を基板移動方向と反対の向きに通過する。   On the other hand, the gas discharged from the hot air knives 20a and 20b on the downstream side is blown obliquely to the front or back surface of the substrate 1 at a predetermined incident angle in the direction opposite to the substrate moving direction. The gas blown to the substrate 1 from the hot air knives 20a and 20b on the downstream side passes between the heat retaining members 30a and 30b and the substrate 1 in the direction opposite to the substrate moving direction.

保温部材30a,30bと基板1との間を通過した気体は、保温部材30a,30bの開口を通った後、その一部が小さな矢印で示す様に乾燥槽40内を循環し、またその一部が回収配管24で回収される。   The gas that has passed between the heat retaining members 30a and 30b and the substrate 1 passes through the openings of the heat retaining members 30a and 30b, and then circulates in the drying tank 40 as indicated by small arrows. The part is recovered by the recovery pipe 24.

図3及び図4に示した実施の形態によれば、ホットエアナイフ20a,20bを複数設けることにより、基板1の加熱効果を向上させることができる。   According to the embodiment shown in FIGS. 3 and 4, the heating effect of the substrate 1 can be improved by providing a plurality of hot air knives 20a, 20b.

以上説明した実施の形態によれば、ホットエアナイフ20a,20bを用いて基板1の加熱を効果的に行うことができる。従って、高価なホットプレートや赤外線ヒータを用いることなく、基板の加熱を安価に行い、装置の価格を低下させることができる。   According to the embodiment described above, the substrate 1 can be effectively heated using the hot air knives 20a and 20b. Therefore, the substrate can be heated at a low cost without using an expensive hot plate or infrared heater, and the price of the apparatus can be reduced.

本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the board | substrate drying apparatus by one embodiment of this invention. 本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the board | substrate drying apparatus by other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態による基板乾燥装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the board | substrate drying apparatus by further another embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態による基板乾燥装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the board | substrate drying apparatus by further another embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
10 ローラ
20a,20b ホットエアナイフ
21 気体タンク
22 気体加熱装置
23 供給配管
24 回収配管
30a,30b 保温部材
40 乾燥槽
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 10 Roller 20a, 20b Hot air knife 21 Gas tank 22 Gas heating device 23 Supply piping 24 Recovery piping 30a, 30b Thermal insulation member 40 Drying tank

Claims (8)

基板を移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板へ常温より高い温度の気体を吹き付けるホットエアナイフと、
断熱材からなり、前記基板移動手段により移動される基板の周囲に設けられ、前記ホットエアナイフから基板へ吹き付けられた気体の温度の低下を抑制する保温部材と、
断熱材からなり、前記ホットエアナイフ及び前記保温部材の周囲に設けられ、前記保温部材と基板との間を通過した気体の温度の低下を抑制しながら当該気体を循環させる乾燥槽とを備えたことを特徴とする基板乾燥装置。
A substrate moving means for moving the substrate;
A hot air knife that blows a gas having a temperature higher than room temperature onto the substrate moved by the substrate moving means;
A heat insulating member made of a heat insulating material, provided around the substrate moved by the substrate moving means, and suppressing a decrease in the temperature of the gas blown from the hot air knife to the substrate;
It was made of a heat insulating material, provided around the hot air knife and the heat retaining member, and provided with a drying tank for circulating the gas while suppressing a decrease in the temperature of the gas that passed between the heat retaining member and the substrate. A substrate drying apparatus.
気体を加熱して前記ホットエアナイフへ供給する気体供給手段と、
前記乾燥槽から気体の一部を回収して前記気体供給手段へ戻す気体回収手段とを備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板乾燥装置。
Gas supply means for heating and supplying gas to the hot air knife;
The substrate drying apparatus according to claim 1, further comprising a gas recovery unit that recovers a part of the gas from the drying tank and returns the gas to the gas supply unit.
前記ホットエアナイフを、前記基板移動手段により移動される基板の流れに沿って複数備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板乾燥装置。   The substrate drying apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the hot air knives are provided along a flow of the substrate moved by the substrate moving means. 前記ホットエアナイフを、前記基板移動手段により移動される基板の上流側及び下流側に備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板乾燥装置。   The substrate drying apparatus according to claim 1, wherein the hot air knife is provided on an upstream side and a downstream side of the substrate moved by the substrate moving unit. 基板を移動しながら、
ホットエアナイフから基板へ常温より高い温度の気体を吹き付け、
断熱材からなる保温部材を基板の周囲に設けて、ホットエアナイフから基板へ吹き付けられた気体の温度の低下を抑制し、
断熱材からなる乾燥槽をホットエアナイフ及び保温部材の周囲に設けて、保温部材と基板との間を通過した気体の温度の低下を抑制しながら当該気体を乾燥槽内で循環させることを特徴とする基板乾燥方法。
While moving the board
Blow a gas at a temperature higher than normal temperature from the hot air knife to the substrate,
A thermal insulation member made of a heat insulating material is provided around the substrate to suppress a decrease in the temperature of the gas blown from the hot air knife to the substrate,
A drying tank made of a heat insulating material is provided around the hot air knife and the heat retaining member, and the gas is circulated in the drying tank while suppressing a decrease in the temperature of the gas that has passed between the heat retaining member and the substrate. Substrate drying method.
乾燥槽から気体の一部を回収して再加熱し、ホットエアナイフへ供給する気体の一部とすることを特徴とする請求項5に記載の基板乾燥方法。   6. The substrate drying method according to claim 5, wherein a part of the gas is recovered from the drying tank, reheated, and used as a part of the gas supplied to the hot air knife. ホットエアナイフを、移動される基板の流れに沿って複数設けたことを特徴とする請求項5に記載の基板乾燥方法。   6. The substrate drying method according to claim 5, wherein a plurality of hot air knives are provided along the flow of the substrate to be moved. ホットエアナイフを、移動される基板の上流側及び下流側に設けたことを特徴とする請求項5に記載の基板乾燥方法。   6. The substrate drying method according to claim 5, wherein hot air knives are provided upstream and downstream of the substrate to be moved.
JP2005035691A 2005-02-14 2005-02-14 Device and method for drying substrate Pending JP2006222340A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005035691A JP2006222340A (en) 2005-02-14 2005-02-14 Device and method for drying substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005035691A JP2006222340A (en) 2005-02-14 2005-02-14 Device and method for drying substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006222340A true JP2006222340A (en) 2006-08-24

Family

ID=36984422

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005035691A Pending JP2006222340A (en) 2005-02-14 2005-02-14 Device and method for drying substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006222340A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008244276A (en) * 2007-03-28 2008-10-09 Toho Kasei Kk Substrate drying apparatus and substrate drying method
WO2012111618A1 (en) * 2011-02-18 2012-08-23 シャープ株式会社 Substrate drying apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008244276A (en) * 2007-03-28 2008-10-09 Toho Kasei Kk Substrate drying apparatus and substrate drying method
WO2012111618A1 (en) * 2011-02-18 2012-08-23 シャープ株式会社 Substrate drying apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4776380B2 (en) Processing apparatus and processing method
RU2684465C2 (en) Reducing gas circulation recycling system for pickling-free continuous annealing furnace and utilization method therefor
JP2006315386A (en) Apparatus for drying raw fabric of which both sides are transferred in non-pressurizing type
JP2009088442A (en) Substrate drying device, device for manufacturing flat panel display, and flat panel display
JP2007276309A (en) Hot blast dryer for printing paper
US20070006904A1 (en) Substrate cleaning system and substrate cleaning method
JPH11354487A (en) Method and equipment for drying substrate
JP4606600B2 (en) Process air supply apparatus and method
JP4813583B2 (en) Substrate processing equipment
JP2006222340A (en) Device and method for drying substrate
JP2009099721A (en) Method of cooling substrate and apparatus of cooling substrate
JP2017098278A (en) Etching apparatus
US20070256711A1 (en) Substrate cleaning apparatus and method
JP4225813B2 (en) Glass substrate surface drying equipment
TWM429172U (en) Surface treatment apparatus
JP2009094281A (en) Substrate cooling device
JP2010101595A (en) Dryer and method of manufacturing resin film
JP2004330180A (en) Apparatus and method for treating substrate, and method for producing substrate
JP2005345092A (en) Drier
JP4861016B2 (en) Processing equipment
CN202692619U (en) Pickling line copper strip surface drying device
WO2011113631A1 (en) Drying installation
KR101824628B1 (en) Surface cleaning apparatus
CN109228694B (en) Single-channel printer drying and discharging system
JP4542448B2 (en) Resist stripping and removing device

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20060516

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712