JP2006222031A - X線管ターゲットの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 高融点金属材料を用いて円環状のターゲット部材を製作するターゲット部材形成工程と、該ターゲット部材の内面にニッケルメッキを施すメッキ工程と、該ニッケルメッキが施されたターゲット部材のニッケルメッキ層に高融点金属を固相拡散させる固相拡散工程と、該ターゲット部材を鋳型中に嵌合し、その内側に溶融した銅または銅合金を鋳造する鋳ぐるみ工程と、鋳型から取り出された冷却後の鋳造物を所定の形状に機械加工する加工工程とを経て、銅または銅合金の基体の表面に高融点金属の円環状ターゲット部材が接合一体化されたX線管ターゲットを得る。
【選択図】 図1
Description
2 基体
3 X線管ターゲット部材
5 鋳型
Claims (2)
- 高融点金属材料を用いて円環状のターゲット部材を製作するターゲット部材形成工程と、該ターゲット部材の内面にニッケルメッキを施すメッキ工程と、該ニッケルメッキが施されたターゲット部材のニッケルメッキ層に高融点金属を固相拡散させる固相拡散工程と、該ターゲット部材を鋳型中に入れて、その内側に溶融した銅または銅合金を鋳造する鋳ぐるみ工程と、鋳型から取り出された冷却後の鋳造物を所定の形状に機械加工する加工工程とを経て、銅または銅合金の基体の表面に高融点金属の円環状ターゲット部材が接合一体化されたX線管ターゲットを得ることを特徴とするX線管ターゲットの製造方法。
- 高融点金属がタングステンであり、銅合金がクロム銅である請求項1に記載のX線管ターゲットの製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP (1) | JP2006222031A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010109912A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 株式会社リガク | X線発生装置のターゲットと、その加工方法 |
KR101174100B1 (ko) * | 2011-09-16 | 2012-08-14 | 주식회사 케이에스엠 | 금속 분진 발생이 적은 벨로우즈 용접용 냉각링. |
WO2013039289A1 (ko) * | 2011-09-16 | 2013-03-21 | 주식회사 케이에스엠 | 금속 분진 발생이 적은 벨로우즈 용접용 냉각링 |
US8644451B2 (en) | 2009-03-27 | 2014-02-04 | Shozo Aoki | X-ray generating apparatus and inspection apparatus using the same therein |
JP2021131590A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 株式会社デンソー | 異常診断システムおよび異常診断方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52149994A (en) * | 1976-06-09 | 1977-12-13 | Hitachi Ltd | Anode for x-ray tube |
JPH09161673A (ja) * | 1995-12-01 | 1997-06-20 | Rigaku Corp | X線管ターゲットの製造方法 |
JPH1145674A (ja) * | 1997-07-28 | 1999-02-16 | Toshiba Corp | X線管の陽極構体及びその製造方法 |
JPH11213880A (ja) * | 1998-01-28 | 1999-08-06 | Rigaku Denki Kk | X線管ターゲットの製造方法およびターゲット製作ユニット |
-
2005
- 2005-02-14 JP JP2005036385A patent/JP2006222031A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52149994A (en) * | 1976-06-09 | 1977-12-13 | Hitachi Ltd | Anode for x-ray tube |
JPH09161673A (ja) * | 1995-12-01 | 1997-06-20 | Rigaku Corp | X線管ターゲットの製造方法 |
JPH1145674A (ja) * | 1997-07-28 | 1999-02-16 | Toshiba Corp | X線管の陽極構体及びその製造方法 |
JPH11213880A (ja) * | 1998-01-28 | 1999-08-06 | Rigaku Denki Kk | X線管ターゲットの製造方法およびターゲット製作ユニット |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010109912A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 株式会社リガク | X線発生装置のターゲットと、その加工方法 |
US8644451B2 (en) | 2009-03-27 | 2014-02-04 | Shozo Aoki | X-ray generating apparatus and inspection apparatus using the same therein |
JP5548189B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-07-16 | 株式会社リガク | X線発生装置のターゲットと、その加工方法 |
KR101174100B1 (ko) * | 2011-09-16 | 2012-08-14 | 주식회사 케이에스엠 | 금속 분진 발생이 적은 벨로우즈 용접용 냉각링. |
WO2013039289A1 (ko) * | 2011-09-16 | 2013-03-21 | 주식회사 케이에스엠 | 금속 분진 발생이 적은 벨로우즈 용접용 냉각링 |
CN103857492A (zh) * | 2011-09-16 | 2014-06-11 | 株式会社Ksm | 产生少量金属粉尘的波纹管焊接用冷却环 |
JP2021131590A (ja) * | 2020-02-18 | 2021-09-09 | 株式会社デンソー | 異常診断システムおよび異常診断方法 |
US11872898B2 (en) | 2020-02-18 | 2024-01-16 | Denso Corporation | Abnormality diagnosis system and abnormality diagnosis method |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A711 | Notification of change in applicant |
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