JP2006209089A - Display device - Google Patents

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Yohei Kimura
洋平 木村
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Japan Display Central Inc
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Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device which can narrow a frame size and realize high density wiring without causing defects in a reliability test and without lowering its production yield. <P>SOLUTION: The display device includes an active area that is composed of a plurality of pixels and a plurality of signal supply wiring lines that supply driving signals to the pixels, a plurality of input sections that are disposed outside the active area and function to input the driving signals that are to be supplied to the signal supply wiring lines, and a plurality of connecting wiring lines that connect the signal supply wiring lines and the input sections. Mutually neighboring a first connection wiring line 51 and a second connection wiring line 52 of the connection wiring lines are disposed in different layers via an insulating layer. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、表示装置に係り、特に、アクティブエリアの外周に高密度に配置された配線を備える表示装置に関する。   The present invention relates to a display device, and more particularly to a display device having wirings arranged at high density on the outer periphery of an active area.

液晶表示装置などの表示装置は、マトリクス状の画素によって構成されたアクティブエリアを備えている。このアクティブエリアは、画素の行方向に沿って延在する複数の走査線、画素の列方向に沿って延在する複数の信号線、これら走査線と信号線との交差部付近に配置されたスイッチング素子、スイッチング素子に接続された画素電極などを備えている。これら各走査線及び各信号線は、アクティブエリアの外周に引き出されている。   A display device such as a liquid crystal display device includes an active area composed of matrix pixels. The active area is arranged in the vicinity of a plurality of scanning lines extending along the pixel row direction, a plurality of signal lines extending along the pixel column direction, and an intersection between the scanning lines and the signal lines. A switching element, a pixel electrode connected to the switching element, and the like are provided. Each of these scanning lines and each signal line is drawn to the outer periphery of the active area.

近年では、高精細化による画素数の増加及び狭額縁化の要求に伴い、アクティブエリア及びアクティブエリアの外周において、走査線や信号線などの各種配線は、細い線幅でしかも僅かな隙間で隣接するように配置する必要がある。しかしながら、各種配線の線幅及び配線間ギャップを狭めることには、パターン形成精度や製造歩留まりの制約から限界がある。つまり、配線間でのショートや各配線の断線などといった配線不良の発生を抑制しつつ、限られた領域に高密度で配線を形成することは極めて困難である。   In recent years, along with the demand for an increase in the number of pixels due to high definition and a narrow frame, various wiring lines such as scanning lines and signal lines are adjacent to each other with a narrow line width and a small gap on the outer periphery of the active area. Need to be arranged. However, there is a limit to narrowing the line widths and gaps between wirings due to restrictions on pattern formation accuracy and manufacturing yield. That is, it is extremely difficult to form wirings at a high density in a limited region while suppressing the occurrence of wiring defects such as a short circuit between the wirings and disconnection of each wiring.

狭額縁化及び高密度配線を可能とする技術として、特許文献1及び2に記載の技術が知られている。
特開2002−268575号公報 特開2002−258310号公報
As technologies that enable narrow frame and high-density wiring, technologies described in Patent Documents 1 and 2 are known.
JP 2002-268575 A JP 2002-258310 A

この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、信頼性試験における不良の発生及び製造歩留まりの低下を招くことなく、狭額縁化及び高密度配線を可能とする表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a display capable of narrowing the frame and high-density wiring without causing defects in the reliability test and lowering the manufacturing yield. To provide an apparatus.

この発明の態様による表示装置は、
複数の画素及び各画素に駆動信号を供給する複数の信号供給配線によって構成されたアクティブエリアと、
前記アクティブエリア外に配置され、前記信号供給配線に供給される駆動信号を入力するための複数の入力部と、
前記信号供給配線と前記入力部との間をそれぞれ接続する複数の接続配線と、を備え、
互いに隣接する第1接続配線及び第2接続配線は、絶縁層を介した異なる層にそれぞれ配置されたことを特徴とする。
A display device according to an aspect of the present invention includes:
An active area composed of a plurality of pixels and a plurality of signal supply wirings for supplying a drive signal to each pixel;
A plurality of input units arranged outside the active area for inputting a drive signal supplied to the signal supply wiring;
A plurality of connection wirings for connecting between the signal supply wiring and the input unit, respectively,
The first connection wiring and the second connection wiring adjacent to each other are arranged in different layers with an insulating layer interposed therebetween.

この発明によれば、信頼性試験における不良の発生及び製造歩留まりの低下を招くことなく、狭額縁化及び高密度配線を可能とする表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a display device capable of narrowing the frame and high-density wiring without causing defects in the reliability test and reducing the manufacturing yield.

以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置について図面を参照して説明する。   A display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1に示すように、表示装置の一例としての液晶表示装置は、略長方形平板状の液晶表示パネル1を備えている。この液晶表示パネル1は、一対の基板すなわちアレイ基板3及び対向基板4と、これら一対の基板の間に光変調層として保持された液晶層5と、によって構成されている。この液晶表示パネル1は、画像を表示する略長方形状のアクティブエリア6を備えている。このアクティブエリア6は、マトリクス状に配置された複数の画素PXや、各画素PXに駆動信号を供給する複数の信号供給配線などによって構成されている。   As shown in FIG. 1, a liquid crystal display device as an example of a display device includes a liquid crystal display panel 1 having a substantially rectangular flat plate shape. The liquid crystal display panel 1 is composed of a pair of substrates, that is, an array substrate 3 and a counter substrate 4, and a liquid crystal layer 5 held as a light modulation layer between the pair of substrates. The liquid crystal display panel 1 includes a substantially rectangular active area 6 for displaying an image. The active area 6 includes a plurality of pixels PX arranged in a matrix, a plurality of signal supply wirings for supplying a drive signal to each pixel PX, and the like.

アレイ基板3は、アクティブエリア6に配置された信号供給配線として、例えば、画素PXの行方向に沿って延在する複数の走査線Y(1、2、3、…、m)や、画素PXの列方向に沿って延在する複数の信号線X(1、2、3、…、n)などを備えている。これら走査線Y及び信号線Xは、絶縁層を介して互いに異なる層に配置されている。また、アレイ基板3は、アクティブエリア6において、これらの信号供給配線の他に、これら走査線Yと信号線Xとの交差部付近において画素PX毎に配置されたスイッチング素子7、スイッチング素子7に接続された画素電極8などを備えている。   The array substrate 3 is a signal supply wiring arranged in the active area 6, for example, a plurality of scanning lines Y (1, 2, 3,..., M) extending along the row direction of the pixels PX or the pixels PX. A plurality of signal lines X (1, 2, 3,..., N) extending along the column direction are provided. These scanning lines Y and signal lines X are arranged in different layers with an insulating layer interposed therebetween. In addition, the array substrate 3 includes, in the active area 6, in addition to these signal supply wirings, switching elements 7 and switching elements 7 arranged for each pixel PX near the intersection of the scanning lines Y and the signal lines X. A connected pixel electrode 8 is provided.

スイッチング素子7は、例えば、薄膜トランジスタ(TFT)などで構成されている。このスイッチング素子7のゲート電極7Gは、対応する走査線Yに電気的に接続されている(あるいは走査線と一体に形成されている)。スイッチング素子7のソース電極7Sは、対応する信号線Xに電気的に接続されている(あるいは信号線と一体に形成されている)。スイッチング素子7のドレイン電極7Dは、対応する画素PXの画素電極8に電気的に接続されている(あるいは画素電極と一体に形成されている)。   The switching element 7 is composed of, for example, a thin film transistor (TFT). The gate electrode 7G of the switching element 7 is electrically connected to the corresponding scanning line Y (or formed integrally with the scanning line). The source electrode 7S of the switching element 7 is electrically connected to the corresponding signal line X (or formed integrally with the signal line). The drain electrode 7D of the switching element 7 is electrically connected to the pixel electrode 8 of the corresponding pixel PX (or formed integrally with the pixel electrode).

画素電極8は、バックライト光を選択的に透過して画像を表示する透過型の液晶表示装置においては、インジウム・ティン・オキサイド(ITO)などの光透過性を有する金属材料によって形成される。また、画素電極8は、対向基板4側から入射する外光を選択的に反射して画像を表示する反射型の液晶表示装置においては、アルミニウム(Al)などの光反射性を有する金属材料によって形成される。   The pixel electrode 8 is formed of a light-transmitting metal material such as indium tin oxide (ITO) in a transmissive liquid crystal display device that selectively transmits backlight and displays an image. The pixel electrode 8 is made of a metal material having light reflectivity such as aluminum (Al) in a reflective liquid crystal display device that selectively reflects external light incident from the counter substrate 4 side and displays an image. It is formed.

対向基板4は、アクティブエリア6において、全画素PXに共通の対向電極9などを備えている。この対向電極9は、ITOなどの光透過性を有する金属材料によって形成されている。これらアレイ基板3及び対向基板4は、全画素PXの画素電極8と対向電極9とを対向させた状態で配設され、これらの間にギャップを形成する。液晶層5は、アレイ基板3と対向基板4とのギャップに封止された液晶組成物によって形成されている。   The counter substrate 4 includes a counter electrode 9 and the like common to all the pixels PX in the active area 6. The counter electrode 9 is made of a light-transmissive metal material such as ITO. The array substrate 3 and the counter substrate 4 are arranged with the pixel electrodes 8 and the counter electrodes 9 of all the pixels PX facing each other, and a gap is formed between them. The liquid crystal layer 5 is formed of a liquid crystal composition sealed in the gap between the array substrate 3 and the counter substrate 4.

カラー表示タイプの液晶表示装置では、液晶表示パネル1は、複数種類の画素、例えば赤(R)を表示する赤色画素、緑(G)を表示する緑色画素、青(B)を表示する青色画素を有している。すなわち、赤色画素は、赤色の主波長の光を透過する赤色カラーフィルタを備えている。緑色画素は、緑色の主波長の光を透過する緑色カラーフィルタを備えている。青色画素は、青色の主波長の光を透過する青色カラーフィルタを備えている。これらのカラーフィルタは、アレイ基板3または対向基板4の主面に配置される。   In a color display type liquid crystal display device, the liquid crystal display panel 1 includes a plurality of types of pixels, for example, a red pixel that displays red (R), a green pixel that displays green (G), and a blue pixel that displays blue (B). have. That is, the red pixel includes a red color filter that transmits light having a red main wavelength. The green pixel includes a green color filter that transmits light having a green dominant wavelength. The blue pixel includes a blue color filter that transmits light having a blue main wavelength. These color filters are arranged on the main surface of the array substrate 3 or the counter substrate 4.

液晶表示パネル1は、アクティブエリア6の外側に位置する外周部10に、接続配線群20、第1接続部31及び第2接続部32を備えている。第1接続部31は、信号供給配線に駆動信号を供給する信号供給源として機能する駆動ICチップ11と接続可能である。第2接続部32は、信号供給源として機能するフレキシブル・プリンテッド・サーキットFPCと接続可能である。図1に示した例では、これら第1接続部31及び第2接続部32は、対向基板4の端部4Aより外方に延在したアレイ基板3の延在部10A上に配置されている。駆動ICチップ11と第1接続部31とは、例えば異方性導電膜を介して電気的及び機械的に接続される。   The liquid crystal display panel 1 includes a connection wiring group 20, a first connection portion 31, and a second connection portion 32 on the outer peripheral portion 10 located outside the active area 6. The first connection unit 31 can be connected to the drive IC chip 11 that functions as a signal supply source that supplies a drive signal to the signal supply wiring. The second connection unit 32 can be connected to a flexible printed circuit FPC that functions as a signal supply source. In the example shown in FIG. 1, the first connection portion 31 and the second connection portion 32 are disposed on the extending portion 10 </ b> A of the array substrate 3 that extends outward from the end portion 4 </ b> A of the counter substrate 4. . The drive IC chip 11 and the first connection part 31 are electrically and mechanically connected through, for example, an anisotropic conductive film.

液晶表示パネル1の第1接続部31に実装される駆動ICチップ11は、アクティブエリア6の各信号線Xに駆動信号(映像信号)を供給する信号線駆動部11Xの少なくとも一部、及び、アクティブエリア6の各走査線Yに駆動信号(走査信号)を供給する走査線駆動部11Yの少なくとも一部を有している。   The driving IC chip 11 mounted on the first connection unit 31 of the liquid crystal display panel 1 includes at least a part of the signal line driving unit 11X that supplies a driving signal (video signal) to each signal line X in the active area 6, and It has at least a part of a scanning line driving section 11Y that supplies a driving signal (scanning signal) to each scanning line Y in the active area 6.

第1接続部31及び第2接続部32は、信号供給配線に供給される駆動信号を入力するための複数の入力部を備えている。特に、第1接続部31は、図2に示すように、信号供給配線の本数と同数あるいはそれ以上の数の入力部40を備えている。すなわち、第1接続部31は、駆動ICチップ11の走査線駆動部11Yに対応して接続されるY接続部31Y、及び、信号線駆動部11Xに対応して接続されるX接続部31Xを有している。Y接続部31Yは、走査線Yの本数と同数あるいはそれ以上の数の入力部40Yを備えている。X接続部31Xは、信号線Xの本数と同数あるいはそれ以上の数の入力部40Xを備えている。   The first connection unit 31 and the second connection unit 32 include a plurality of input units for inputting drive signals supplied to the signal supply wiring. In particular, as shown in FIG. 2, the first connection unit 31 includes as many input units 40 as the number of signal supply wirings or more. That is, the first connection unit 31 includes a Y connection unit 31Y connected corresponding to the scanning line drive unit 11Y of the drive IC chip 11 and an X connection unit 31X connected corresponding to the signal line drive unit 11X. Have. The Y connection unit 31Y includes the same number of input units 40Y as the number of scanning lines Y or more. The X connection section 31X includes the same number of input sections 40X as the number of signal lines X or more.

接続配線群20は、各信号供給配線と入力部40との間をそれぞれ接続する複数の接続配線を備えている。すなわち、接続配線群20は、信号供給配線の本数と同数あるいはそれ以上の数の接続配線Wを備えており、Y接続部31Yの各入力部40Yと各走査線Yとのそれぞれを接続する接続配線WY、及び、X接続部31Xの各入力部40Xと各信号線Xとのそれぞれを接続する接続配線WXを備えている。図1に示した例では、接続配線WYは、外周部10の一端側10Bに配置されている。   The connection wiring group 20 includes a plurality of connection wirings that connect each signal supply wiring and the input unit 40. That is, the connection wiring group 20 includes the same number of connection wirings W as the number of signal supply wirings or more, and the connection for connecting each input section 40Y of the Y connection section 31Y and each scanning line Y. The wiring WY and the connection wiring WX that connects each input unit 40X of the X connection unit 31X and each signal line X are provided. In the example illustrated in FIG. 1, the connection wiring WY is disposed on one end side 10 </ b> B of the outer peripheral portion 10.

このような構成により、走査線駆動部11Yは、接続配線WYを介して各走査線Y(1、2、3、…)と電気的に接続されている。つまり、走査線駆動部11Yから出力された駆動信号は、第1接続部31におけるY接続部31Yの各入力部40Yに供給され、各接続配線WYを介して対応する各走査線Y(1、2、3、…)に供給される。各行の各画素PXに含まれるスイッチング素子7は、対応する走査線Yから供給された走査信号に基づいてオン・オフ制御される。   With such a configuration, the scanning line driving unit 11Y is electrically connected to each scanning line Y (1, 2, 3,...) Via the connection wiring WY. That is, the drive signal output from the scanning line driving unit 11Y is supplied to each input unit 40Y of the Y connection unit 31Y in the first connection unit 31, and the corresponding scanning line Y (1, 1) is connected via each connection wiring WY. 2, 3, ...). The switching elements 7 included in each pixel PX in each row are on / off controlled based on the scanning signal supplied from the corresponding scanning line Y.

また、信号線駆動部11Xは、接続配線WXを介して各信号線X(1、2、3、…)と電気的に接続されている。つまり、信号線駆動部11Xから出力された駆動信号は、第1接続部31におけるX接続部31Xの各入力部40Xに供給され、各接続配線WXを介して対応する各信号線X(1、2、3、…)に供給される。各列の各画素PXに含まれるスイッチング素子7は、オンしたタイミングで対応する信号線Xから供給された映像信号を画素電極8に書き込む。   Further, the signal line driver 11X is electrically connected to each signal line X (1, 2, 3,...) Via the connection wiring WX. That is, the drive signal output from the signal line drive unit 11X is supplied to each input unit 40X of the X connection unit 31X in the first connection unit 31, and each corresponding signal line X (1, 1) via each connection wiring WX. 2, 3, ...). The switching element 7 included in each pixel PX in each column writes the video signal supplied from the corresponding signal line X to the pixel electrode 8 at the timing when it is turned on.

上述したような構成の表示装置においては、近年、高精細化による画素数の増加とともに狭額縁化の要求に伴い、隣接する配線間でのショートや各配線の断線を招くことなく、限られた額縁スペース(外周部10)に高密度で配線を配置する必要性に迫られている。   In the display device having the above-described configuration, in recent years, the number of pixels has been increased due to high definition, and the demand for narrowing the frame has been limited without causing short circuit between adjacent wirings or disconnection of each wiring. There is an urgent need to dispose wiring at high density in the frame space (outer peripheral part 10).

そこで、この実施の形態に係る表示装置においては、互いに隣接する接続配線は、絶縁層を介してそれぞれ異なる層に配置されている。すなわち、図3に示すように、接続配線のうち、互いに隣接する第1接続配線51及び第2接続配線52は、絶縁層53を介してそれぞれ異なる金属層に配置されている。このような構成により、狭額縁化及び高密度配線が可能となる。   Therefore, in the display device according to this embodiment, the connection wirings adjacent to each other are arranged in different layers via insulating layers. That is, as shown in FIG. 3, among the connection wirings, the first connection wiring 51 and the second connection wiring 52 adjacent to each other are arranged in different metal layers with the insulating layer 53 interposed therebetween. With such a configuration, a narrow frame and high-density wiring are possible.

例えば、第1接続配線51の線幅をa1、第2接続配線52の線幅をa2、これらの接続配線間のギャップをbとしたとき、同一層に配置される接続配線のピッチ、たとえば第1接続配線51同士のピッチとして、(a1+b)以上(a1+a2+2*b)以下に設定することが可能であり、すべての接続配線をギャップbで同一層に配置した場合より狭額縁化及び配線の高密度化が可能となる。   For example, when the line width of the first connection wiring 51 is a1, the line width of the second connection wiring 52 is a2, and the gap between these connection wirings is b, the pitch of the connection wirings arranged in the same layer, for example, the first The pitch between the connection wirings 51 can be set to (a1 + b) or more and (a1 + a2 + 2 * b) or less, and the frame is narrower and the wiring height is higher than when all the connection wirings are arranged in the same layer with the gap b. Densification is possible.

つまり、額縁スペースの縮小及び額縁上に配置される接続配線の高密度化を可能としながら、隣接する接続配線間でのショートの発生を防止するのに十分なギャップ及び各接続配線の断線の発生を防止するのに十分な線幅を確保できるため、信頼性試験における不良の発生及び製造歩留まりの高い表示装置を提供することができる。   In other words, a gap sufficient to prevent the occurrence of a short circuit between adjacent connection wires and the occurrence of disconnection of each connection wire while enabling reduction of the frame space and high density of connection wires arranged on the frame. Since a sufficient line width can be ensured to prevent the occurrence of defects, a display device with high occurrence of defects in a reliability test and a high manufacturing yield can be provided.

特に、図1に示したようなアクティブエリア6の片側から走査信号を供給するようなレイアウトにおいては、走査線Yに接続される接続配線WYの高密度化が可能となり、外周部10の一端側10Bにおける額縁サイズを縮小することが可能となる。また、アクティブエリア6の両側から走査信号を供給するようなレイアウトにおいては、外周部10の両端側における額縁サイズを縮小することが可能となる。   In particular, in the layout in which the scanning signal is supplied from one side of the active area 6 as shown in FIG. 1, it is possible to increase the density of the connection wiring WY connected to the scanning line Y, and one end side of the outer peripheral portion 10. It becomes possible to reduce the frame size in 10B. Further, in a layout in which scanning signals are supplied from both sides of the active area 6, it is possible to reduce the frame size at both ends of the outer peripheral portion 10.

また、これらの2つの異なる層に互いに配置された第1接続配線51及び第2接続配線52は、それぞれアクティブエリア6内の各種配線または電極などの金属材料をパターニングする工程で同時に形成可能である。例えば、第1接続配線51は走査線Yと同一工程で形成し、第2接続配線52は信号線Xと同一工程で形成可能である。つまり、このような多層構造の接続配線群を形成するにあたり、別途の工程が増えることがなく、製造歩留まりの悪化を招くことはない。   In addition, the first connection wiring 51 and the second connection wiring 52 that are arranged on these two different layers can be simultaneously formed in a process of patterning various wirings in the active area 6 or a metal material such as an electrode. . For example, the first connection wiring 51 can be formed in the same process as the scanning line Y, and the second connection wiring 52 can be formed in the same process as the signal line X. That is, in forming such a multi-layered connection wiring group, there is no additional process and the manufacturing yield is not deteriorated.

要するに、互いに隣接する第1接続配線51及び第2接続配線52は、これらをパターニングする際の解像度限界よりも小さなギャップをもって配置可能である。つまり、第1接続配線51及び第2接続配線52は、平面的に見たときに(すなわちアレイ基板の面内において)、重なることなく配置される。しかしながら、例え額縁サイズの小さい領域にこれらの接続配線を配置するために、平面的に見たときにこれらの接続配線が重なるように見えたとしても、これらの接続配線の間には絶縁層53が介在しているため、これらの接続配線間でのショートの発生を防止することができる。   In short, the first connection wiring 51 and the second connection wiring 52 adjacent to each other can be arranged with a gap smaller than the resolution limit when patterning them. That is, the first connection wiring 51 and the second connection wiring 52 are arranged without overlapping when viewed in a plan view (that is, in the plane of the array substrate). However, in order to arrange these connection wirings in a region having a small frame size, even if these connection wirings appear to overlap each other when viewed in a plan view, the insulating layer 53 is interposed between these connection wirings. Therefore, the occurrence of a short circuit between these connection wirings can be prevented.

次に、実施形態について説明する。なお、各実施形態では、一例として、信号供給配線は走査線Yであり、信号供給源は外周部10に実装される駆動ICチップ11の走査線駆動部11Yであり、Y接続部31Yの入力部40Yのそれぞれと各走査線Yとの間が接続配線WYによって接続されている場合について説明する。   Next, an embodiment will be described. In each embodiment, as an example, the signal supply wiring is the scanning line Y, the signal supply source is the scanning line drive unit 11Y of the drive IC chip 11 mounted on the outer peripheral portion 10, and the input of the Y connection unit 31Y. A case where each of the units 40Y and each scanning line Y are connected by the connection wiring WY will be described.

(実施形態1)
図4に示すように、アクティブエリア6においては、走査線Y(1、2、3、…)が配置されている。外周部10においては、入力部40Y(1、2、3、…)及び各走査線Yと対応する入力部40Yとの間を接続する接続配線WY(1、2、3、…)が配置されている。図4に示した例では、偶数番の接続配線WY(2、4、…)は、走査線Yと同一層に配置されている。また、奇数番の接続配線WY(1、3、…)は、走査線Yとは異なる層例えば図示しない信号線Xと同一層に配置されている。なお、アクティブエリア6における全ての走査線Yは、当然のことながら同一層に配置されている。
(Embodiment 1)
As shown in FIG. 4, scanning lines Y (1, 2, 3,...) Are arranged in the active area 6. In the outer peripheral portion 10, connection wirings WY (1, 2, 3,...) That connect the input portions 40Y (1, 2, 3,...) And the input portions 40Y corresponding to the respective scanning lines Y are arranged. ing. In the example shown in FIG. 4, the even-numbered connection wirings WY (2, 4,...) Are arranged in the same layer as the scanning lines Y. Further, the odd-numbered connection wirings WY (1, 3,...) Are arranged in a layer different from the scanning line Y, for example, in the same layer as the signal line X (not shown). Note that all the scanning lines Y in the active area 6 are naturally arranged in the same layer.

ここでは、接続配線WY(2、4、…)は、接続配線WY(1、3、…)より下層に配置され、これらの層間に絶縁層が介在している。すなわち、接続配線WY(2、4、…)は図3に示した第1接続配線51に相当し、接続配線WY(1、3、…)は第2接続配線52に相当する。つまり、偶数番の接続配線WY(2、4、…)は、隣り合う奇数番の接続配線WY(1、3、…)とは互いに異なる層に配置されている。   Here, the connection wiring WY (2, 4,...) Is disposed below the connection wiring WY (1, 3,...), And an insulating layer is interposed between these layers. That is, the connection wiring WY (2, 4,...) Corresponds to the first connection wiring 51 shown in FIG. 3, and the connection wiring WY (1, 3,...) Corresponds to the second connection wiring 52. That is, the even-numbered connection wirings WY (2, 4,...) Are arranged in different layers from the adjacent odd-numbered connection wirings WY (1, 3,...).

これらの第1接続配線51は、同一層に配置された対応する走査線Yと一体的に形成されることにより走査線Yと電気的に接続されている。一方、第2接続配線52は、異なる層に配置された対応する走査線Yとは第1ジャンパー部J1を介して電気的に接続されている。なお、このようなジャンパー部とは、非連続な配線の接続部に相当するものであり、以下の説明でのジャンパー部も同様である。   These first connection wirings 51 are electrically connected to the scanning line Y by being formed integrally with the corresponding scanning line Y arranged in the same layer. On the other hand, the second connection wiring 52 is electrically connected to the corresponding scanning line Y arranged in a different layer via the first jumper portion J1. Note that such a jumper portion corresponds to a connection portion of discontinuous wiring, and the same applies to the jumper portion in the following description.

すなわち、図5に示すように、第2接続配線52は、走査線Yを覆う第1絶縁層61上に配置されている。第1ジャンパー部J1は、第2接続配線52を覆う第2絶縁層62上に配置されている。この第1ジャンパー部J1は、第2絶縁層62を第2接続配線52まで貫通する第1コンタクトホールH1を介して第2接続配線52と電気的に接続されているとともに、第1絶縁層61及び第2絶縁層62を走査線Yまで貫通する第2コンタクトホールH2を介して走査線Yと電気的に接続されている。第1ジャンパー部J1は、アクティブエリア6内における金属パターンの形成工程で同時に形成可能であり、例えば、画素電極8と同一材料によって形成可能である。このため、第1ジャンパー部J1を形成するために別途の工程が増えることはない。   That is, as shown in FIG. 5, the second connection wiring 52 is disposed on the first insulating layer 61 covering the scanning line Y. The first jumper portion J1 is disposed on the second insulating layer 62 that covers the second connection wiring 52. The first jumper portion J1 is electrically connected to the second connection wiring 52 through the first contact hole H1 that penetrates the second insulating layer 62 to the second connection wiring 52, and the first insulating layer 61 In addition, the second insulating layer 62 is electrically connected to the scanning line Y through a second contact hole H2 that penetrates to the scanning line Y. The first jumper portion J1 can be formed at the same time in the formation process of the metal pattern in the active area 6, and can be formed of the same material as the pixel electrode 8, for example. For this reason, a separate process is not added to form the first jumper portion J1.

第1接続配線51に対応した入力部40Y(2、4、…)は、第1接続配線51と同一層に配置され且つ第1接続配線51に接続された第1入力端子71を含んでいる。第2接続配線52に対応した入力部40Y(1、3、…)は、第2接続配線52と同一層に配置され且つ第2接続配線52に接続された第2入力端子72を含んでいる。第1接続配線51及び第1入力端子71は、同一金属材料を用いて同一工程で形成可能であり、ここでは、一体的に形成されている。同様に、第2接続配線52及び第2入力端子72は、同一金属材料を用いて同一工程で形成可能であり、ここでは、一体的に形成されている。   The input section 40Y (2, 4,...) Corresponding to the first connection wiring 51 includes a first input terminal 71 that is disposed in the same layer as the first connection wiring 51 and connected to the first connection wiring 51. . The input section 40Y (1, 3,...) Corresponding to the second connection wiring 52 includes a second input terminal 72 that is disposed in the same layer as the second connection wiring 52 and connected to the second connection wiring 52. . The first connection wiring 51 and the first input terminal 71 can be formed in the same process using the same metal material, and are integrally formed here. Similarly, the second connection wiring 52 and the second input terminal 72 can be formed in the same process using the same metal material, and are integrally formed here.

また、これらの入力部40Y(1、2、3、4、…)は、駆動ICチップ11の出力端子11Aと接続される複数の入力パッドを含んでいる。すなわち、図6に示すように、第1接続配線51に対応した入力部40Y(2、4、…)は、入力パッド71Pを含んでいる。この入力パッド71Pは、第1絶縁層61及び第2絶縁層62を第1入力端子71まで貫通する第2コンタクトホールH2を介して第1入力端子71と電気的に接続されている。第2接続配線52に対応した入力部40Y(1、3、…)は、入力パッド72Pを含んでいる。この入力パッド72Pは、第2絶縁層62を第2入力端子72まで貫通する第1コンタクトホールH1を介して第2入力端子72と電気的に接続されている。これらの入力パッド71P及び72Pは、アクティブエリア6内における金属パターンの形成工程で同時に形成可能であり、例えば画素電極8と同一材料によって形成可能である。   These input units 40Y (1, 2, 3, 4,...) Include a plurality of input pads connected to the output terminal 11A of the drive IC chip 11. That is, as shown in FIG. 6, the input unit 40Y (2, 4,...) Corresponding to the first connection wiring 51 includes an input pad 71P. The input pad 71P is electrically connected to the first input terminal 71 through a second contact hole H2 that penetrates the first insulating layer 61 and the second insulating layer 62 to the first input terminal 71. The input unit 40Y (1, 3,...) Corresponding to the second connection wiring 52 includes an input pad 72P. The input pad 72P is electrically connected to the second input terminal 72 through a first contact hole H1 that penetrates the second insulating layer 62 to the second input terminal 72. These input pads 71P and 72P can be formed at the same time in the formation process of the metal pattern in the active area 6, and can be formed of the same material as the pixel electrode 8, for example.

これにより、駆動ICチップ11の出力端子11Aから出力された駆動信号は、入力パッド71P及び第1入力端子71を含む入力部40Yを介して第1接続配線51に供給可能となる一方で、入力パッド72P及び第2入力端子72を含む入力部40Yを介して第2接続配線52に供給可能となる。   Thus, the drive signal output from the output terminal 11A of the drive IC chip 11 can be supplied to the first connection wiring 51 via the input unit 40Y including the input pad 71P and the first input terminal 71, while the input The second connection wiring 52 can be supplied via the input unit 40Y including the pad 72P and the second input terminal 72.

上述したような実施形態1によれば、外周部に配置される接続配線間でのショートの発生を抑制可能な配線間の隙間を確保するとともに各接続配線の断線の発生を抑制可能な配線幅を確保する一方で、外周部の縮小化が可能となるとともに接続配線の高密度化が可能となる。したがって、信頼性試験における不良の発生及び製造歩留まりの低下を招くことなく、狭額縁化及び高密度配線化を可能とすることができる。   According to the first embodiment as described above, the width of the wiring that can prevent the occurrence of a short circuit between the connection wirings arranged on the outer peripheral portion and can suppress the occurrence of the disconnection of each connection wiring. On the other hand, the outer peripheral portion can be reduced and the connection wiring can be densified. Therefore, it is possible to narrow the frame and increase the density of the wiring without causing defects in the reliability test and reducing the manufacturing yield.

なお、上述した実施形態1において、走査線から入力部までの間で、第1接続配線51を経由する配線上にはジャンパー部が存在せず、第2接続配線52を経由する配線上に1つのジャンパー部(第1ジャンパー部)が存在している。このため、ジャンパー部を形成するための材料は、比較的低いシート抵抗を有するものを選択することが望ましい。例えば、ジャンパー部は、反射型の液晶表示装置において画素電極8を形成するための比較的低抵抗な金属材料であるアルミニウムによって形成しても良い。また、ジャンパー部は、アクティブエリア6内における金属パターンの形成工程とは別途の工程において、低抵抗な金属材料を用いて形成しても良い。   In the first embodiment described above, there is no jumper portion on the wiring passing through the first connection wiring 51 between the scanning line and the input section, and 1 on the wiring passing through the second connection wiring 52. There are two jumper portions (first jumper portions). For this reason, it is desirable to select a material for forming the jumper portion having a relatively low sheet resistance. For example, the jumper portion may be formed of aluminum, which is a metal material having a relatively low resistance for forming the pixel electrode 8 in a reflective liquid crystal display device. In addition, the jumper portion may be formed using a low-resistance metal material in a process separate from the process of forming the metal pattern in the active area 6.

(実施形態2)
この実施形態2では、上述した実施形態1と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
(Embodiment 2)
In the second embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図7に示すように、アクティブエリア6においては、走査線Y(1、2、3、…)が配置されている。外周部10においては、入力部40Y(1、2、3、…)及び各走査線Yと対応する入力部40Yとの間を接続する接続配線WY(1、2、3、…)が配置されている。図7に示した例では、偶数番の接続配線WY(2、4、…)は、走査線Yと同一層に配置され、図3に示した第1接続配線51に相当する。また、奇数番の接続配線WY(1、3、…)は、走査線Yとは異なる層に配置され、図3に示した第2接続配線52に相当する。つまり、偶数番の接続配線WY(2、4、…)は、隣り合う奇数番の接続配線WY(1、3、…)とは互いに異なる層に配置されている。   As shown in FIG. 7, scanning lines Y (1, 2, 3,...) Are arranged in the active area 6. In the outer peripheral portion 10, connection wirings WY (1, 2, 3,...) That connect the input portions 40Y (1, 2, 3,...) And the input portions 40Y corresponding to the respective scanning lines Y are arranged. ing. In the example shown in FIG. 7, even-numbered connection wirings WY (2, 4,...) Are arranged in the same layer as the scanning lines Y and correspond to the first connection wirings 51 shown in FIG. Further, the odd-numbered connection wirings WY (1, 3,...) Are arranged in a different layer from the scanning lines Y and correspond to the second connection wirings 52 shown in FIG. That is, the even-numbered connection wirings WY (2, 4,...) Are arranged in different layers from the adjacent odd-numbered connection wirings WY (1, 3,...).

これらの第1接続配線51は、同一層に配置された対応する走査線Yと一体的に形成されることにより走査線Yと電気的に接続されている。一方、第2接続配線52は、異なる層に配置された対応する走査線Yとは第1ジャンパー部J1を介して電気的に接続されている。このような第1ジャンパー部J1を介した第2接続配線52と対応する走査線Yとの接続構造は、図5に示した通りである。   These first connection wirings 51 are electrically connected to the scanning line Y by being formed integrally with the corresponding scanning line Y arranged in the same layer. On the other hand, the second connection wiring 52 is electrically connected to the corresponding scanning line Y arranged in a different layer via the first jumper portion J1. The connection structure between the second connection wiring 52 and the corresponding scanning line Y via the first jumper portion J1 is as shown in FIG.

第1接続配線51に対応した入力部40Y(2、4、…)は、第1接続配線51とは異なる層に配置され且つ第2ジャンパー部J2を介して第1接続配線51に接続された第1入力端子71を含んでいる。第2接続配線52に対応した入力部40Y(1、3、…)は、実施形態1と同様に、第2接続配線52と同一層に配置され且つ第2接続配線52に接続された第2入力端子72を含んでいる。入力部40Yを構成する第1入力端子71及び第2入力端子72は、同一金属材料を用いて同一工程で形成可能であり、ここでは、第2接続配線52と同時に形成される。このとき、第2入力端子72及び第2接続配線52は、一体的に形成されている。つまり、第1入力端子71及び第2入力端子72は、同一層に配置されている。   The input section 40Y (2, 4,...) Corresponding to the first connection wiring 51 is arranged in a layer different from the first connection wiring 51 and connected to the first connection wiring 51 through the second jumper section J2. A first input terminal 71 is included. The input unit 40Y (1, 3,...) Corresponding to the second connection wiring 52 is arranged in the same layer as the second connection wiring 52 and connected to the second connection wiring 52, as in the first embodiment. An input terminal 72 is included. The first input terminal 71 and the second input terminal 72 constituting the input unit 40Y can be formed in the same process using the same metal material, and are formed simultaneously with the second connection wiring 52 here. At this time, the second input terminal 72 and the second connection wiring 52 are integrally formed. That is, the first input terminal 71 and the second input terminal 72 are arranged in the same layer.

また、これらの入力部40Y(1、2、3、4、…)は、駆動ICチップ11の出力端子11Aと接続される複数の入力パッドを含んでいる。すなわち、図8に示すように、第1接続配線51に対応した入力部40Y(2、4、…)は、入力パッド71Pを含んでいる。この入力パッド71Pは、第1絶縁層61及び第2絶縁層62を第1接続配線51まで貫通する第2コンタクトホールH2を介して第1接続配線51と電気的に接続されているとともに第2絶縁層62を第1入力端子71まで貫通する第1コンタクトホールH1を介して第1入力端子71と電気的に接続されている。ここでは、この入力パッド71Pが第2ジャンパー部J2としても機能する。一方、第2接続配線52に対応した入力部40Y(1、3、…)は、入力パッド72Pを含んでいる。この入力パッド72Pの構造は、上述した実施形態1で説明した通りである。これらの入力パッド71P及び72Pは、アクティブエリア6内における金属パターンの形成工程で同時に形成可能であり、例えば画素電極8と同一材料によって形成可能である。   These input units 40Y (1, 2, 3, 4,...) Include a plurality of input pads connected to the output terminal 11A of the drive IC chip 11. That is, as shown in FIG. 8, the input unit 40Y (2, 4,...) Corresponding to the first connection wiring 51 includes an input pad 71P. The input pad 71P is electrically connected to the first connection wiring 51 through a second contact hole H2 that penetrates the first insulating layer 61 and the second insulating layer 62 to the first connection wiring 51, and the second connection pad 51P. The first input terminal 71 is electrically connected through a first contact hole H <b> 1 that penetrates the insulating layer 62 to the first input terminal 71. Here, the input pad 71P also functions as the second jumper portion J2. On the other hand, the input unit 40Y (1, 3,...) Corresponding to the second connection wiring 52 includes an input pad 72P. The structure of the input pad 72P is as described in the first embodiment. These input pads 71P and 72P can be formed at the same time in the formation process of the metal pattern in the active area 6, and can be formed of the same material as the pixel electrode 8, for example.

これにより、駆動ICチップ11の出力端子11Aから出力された駆動信号は、入力パッド71P及び第1入力端子71を含む入力部40Yを介して第1接続配線51に供給可能となる一方で、入力パッド72P及び第2入力端子72を含む入力部40Yを介して第2接続配線52に供給可能となる。   Thus, the drive signal output from the output terminal 11A of the drive IC chip 11 can be supplied to the first connection wiring 51 via the input unit 40Y including the input pad 71P and the first input terminal 71, while the input The second connection wiring 52 can be supplied via the input unit 40Y including the pad 72P and the second input terminal 72.

上述したような実施形態2によれば、実施形態1と同様の効果が得られる。また、この実施形態2によれば、隣接する接続配線を互いに異なる層に配置する一方で、隣接する第1入力端子及び第2入力端子を同一層に配置することが可能である。このため、隣接する入力端子間での段差がなくなり、また、駆動ICチップ11を接続するための入力パッドの形状を揃えることができるため、駆動ICチップ11の接続不良を防止することが可能となる。   According to the second embodiment as described above, the same effect as the first embodiment can be obtained. Further, according to the second embodiment, it is possible to arrange the adjacent first and second input terminals in the same layer while arranging the adjacent connection wirings in different layers. For this reason, there is no step between adjacent input terminals, and the shape of the input pad for connecting the drive IC chip 11 can be made uniform, so that connection failure of the drive IC chip 11 can be prevented. Become.

これに加えて、互いに隣接する第1接続配線及び第2接続配線は、それぞれ異なる層に配置されている一方で、入力部から走査線までの間に同数のジャンパー部を介している。すなわち、第1接続配線51は、入力部40Yから走査線Yまでの間に第2ジャンパー部J2を介している。また、第2接続配線52は、入力部40Yから走査線Yまでの間に第1ジャンパー部J1を介している。このため、比較的高抵抗な材料でジャンパー部を形成したとしても、ジャンパー部を介することによる配線抵抗を隣接する接続配線間で略同等に揃えることが可能となる。したがって、各接続配線から供給される駆動信号による表示品位への影響を抑制することができる。   In addition, the first connection wiring and the second connection wiring adjacent to each other are arranged in different layers, and the same number of jumper portions are interposed between the input portion and the scanning line. That is, the first connection wiring 51 is interposed between the input unit 40Y and the scanning line Y via the second jumper unit J2. The second connection wiring 52 is interposed between the input unit 40Y and the scanning line Y via the first jumper unit J1. For this reason, even if the jumper portion is formed of a relatively high resistance material, the wiring resistance through the jumper portion can be made substantially equal between adjacent connection wirings. Therefore, the influence on the display quality by the drive signal supplied from each connection wiring can be suppressed.

また、これらの第1乃至第2ジャンパー部は、同一材料を用いて同一工程で形成可能である。このため、ここのジャンパー部を形成するための別個の工程が不要である。   Further, these first to second jumper portions can be formed in the same process using the same material. For this reason, the separate process for forming the jumper part here is unnecessary.

(実施形態3)
この実施形態3では、上述した実施形態1及び実施形態2と同一の構成については同一の参照符号を付して詳細な説明を省略する。
(Embodiment 3)
In the third embodiment, the same components as those in the first and second embodiments described above are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図9Aに示すように、アクティブエリア6においては、走査線Y(1、2、3、…)が配置されている。外周部10においては、入力部40Y(1、2、3、…)及び各走査線Yと対応する入力部40Yとの間を接続する接続配線WY(1、2、3、…)が配置されている。図9Aに示した例では、偶数番の接続配線WY(2、4、…)は、走査線Yと同一層に配置され、図3に示した第1接続配線51に相当する。また、奇数番の接続配線WY(1、3、…)は、走査線Yとは異なる層に配置され、図3に示した第2接続配線52に相当する。つまり、偶数番の接続配線WY(2、4、…)は、隣り合う奇数番の接続配線WY(1、3、…)とは互いに異なる層に配置されている。   As shown in FIG. 9A, scanning lines Y (1, 2, 3,...) Are arranged in the active area 6. In the outer peripheral portion 10, connection wirings WY (1, 2, 3,...) That connect the input portions 40Y (1, 2, 3,...) And the input portions 40Y corresponding to the respective scanning lines Y are arranged. ing. In the example shown in FIG. 9A, the even-numbered connection wirings WY (2, 4,...) Are arranged in the same layer as the scanning lines Y and correspond to the first connection wirings 51 shown in FIG. Further, the odd-numbered connection wirings WY (1, 3,...) Are arranged in a different layer from the scanning lines Y and correspond to the second connection wirings 52 shown in FIG. That is, the even-numbered connection wirings WY (2, 4,...) Are arranged in different layers from the adjacent odd-numbered connection wirings WY (1, 3,...).

これらの第1接続配線51は、同一層に配置された対応する走査線Yとは第3ジャンパー部J3を介して電気的に接続されている。一方、第2接続配線52は、異なる層に配置された対応する走査線Yとは第1ジャンパー部J1を介して電気的に接続されている。第1ジャンパー部J1を介した第2接続配線52と対応する走査線Yとの接続構造は、図5に示した通りである。   These first connection wirings 51 are electrically connected to the corresponding scanning lines Y arranged in the same layer via the third jumper portion J3. On the other hand, the second connection wiring 52 is electrically connected to the corresponding scanning line Y arranged in a different layer via the first jumper portion J1. The connection structure between the second connection wiring 52 and the corresponding scanning line Y via the first jumper portion J1 is as shown in FIG.

図10に示すように、第3ジャンパー部J3は、第2絶縁層62上に配置されている。この第3ジャンパー部J3は、第1絶縁層61及び第2絶縁層62を第1接続配線51まで貫通する第2コンタクトホールH2を介して第1接続配線51と電気的に接続されているとともに、第1絶縁層61及び第2絶縁層62を走査線Yまで貫通する第2コンタクトホールH2を介して走査線Yと電気的に接続されている。第3ジャンパー部J3は、アクティブエリア6内における金属パターンの形成工程で同時に形成可能であり、例えば、画素電極8と同一材料によって形成可能である。このため、第3ジャンパー部J3を形成するために別途の工程が増えることはない。   As shown in FIG. 10, the third jumper portion J <b> 3 is disposed on the second insulating layer 62. The third jumper portion J3 is electrically connected to the first connection wiring 51 through a second contact hole H2 that penetrates the first insulating layer 61 and the second insulating layer 62 to the first connection wiring 51. The first insulating layer 61 and the second insulating layer 62 are electrically connected to the scanning line Y through a second contact hole H2 that penetrates to the scanning line Y. The third jumper portion J3 can be formed at the same time in the metal pattern forming process in the active area 6, and can be formed of the same material as the pixel electrode 8, for example. For this reason, a separate process does not increase in order to form the 3rd jumper part J3.

第1接続配線51に対応した入力部40Y(2、4、…)は、第1接続配線51とは異なる層に配置され且つ第2ジャンパー部J2を介して第1接続配線51に接続された第1入力端子71を含んでいる。第2接続配線52に対応した入力部40Y(1、3、…)は、第2接続配線52とは同一層に配置され且つ第4ジャンパー部J4を介して第2接続配線52に接続された第2入力端子72を含んでいる。入力部40Yを構成する第1入力端子71及び第2入力端子72は、同一金属材料を用いて同一工程で形成可能であり、ここでは、第2接続配線52と同時に形成される。つまり、第1入力端子71及び第2入力端子72は、同一層に配置されている。   The input section 40Y (2, 4,...) Corresponding to the first connection wiring 51 is arranged in a layer different from the first connection wiring 51 and connected to the first connection wiring 51 through the second jumper section J2. A first input terminal 71 is included. The input section 40Y (1, 3,...) Corresponding to the second connection wiring 52 is disposed in the same layer as the second connection wiring 52 and is connected to the second connection wiring 52 via the fourth jumper section J4. A second input terminal 72 is included. The first input terminal 71 and the second input terminal 72 constituting the input unit 40Y can be formed in the same process using the same metal material, and are formed simultaneously with the second connection wiring 52 here. That is, the first input terminal 71 and the second input terminal 72 are arranged in the same layer.

また、これらの入力部40Y(1、2、3、4、…)は、駆動ICチップ11の出力端子11Aと接続される複数の入力パッドを含んでいる。すなわち、図11に示すように、第1接続配線51に対応した入力部40Y(2、4、…)は、入力パッド71Pを含んでいる。この入力パッド71Pは、第1絶縁層61及び第2絶縁層62を第1接続配線51まで貫通する第2コンタクトホールH2を介して第1接続配線51と電気的に接続されているとともに第2絶縁層62を第1入力端子71まで貫通する第1コンタクトホールH1を介して第1入力端子71と電気的に接続されている。ここでは、この入力パッド71Pが第2ジャンパー部J2としても機能する。   These input units 40Y (1, 2, 3, 4,...) Include a plurality of input pads connected to the output terminal 11A of the drive IC chip 11. That is, as shown in FIG. 11, the input unit 40Y (2, 4,...) Corresponding to the first connection wiring 51 includes an input pad 71P. The input pad 71P is electrically connected to the first connection wiring 51 through a second contact hole H2 that penetrates the first insulating layer 61 and the second insulating layer 62 to the first connection wiring 51, and the second connection pad 51P. The first input terminal 71 is electrically connected through a first contact hole H <b> 1 that penetrates the insulating layer 62 to the first input terminal 71. Here, the input pad 71P also functions as the second jumper portion J2.

一方、第2接続配線52に対応した入力部40Y(1、3、…)は、入力パッド72Pを含んでいる。この入力パッド72Pは、第2絶縁層62を第2接続配線52まで貫通する第1コンタクトホールH1を介して第2接続配線52と電気的に接続されているとともに第2絶縁層62を第2入力端子72まで貫通する第1コンタクトホールH1を介して第2入力端子72と電気的に接続されている。ここでは、この入力パッド72Pが第4ジャンパー部J4としても機能する。   On the other hand, the input unit 40Y (1, 3,...) Corresponding to the second connection wiring 52 includes an input pad 72P. The input pad 72P is electrically connected to the second connection wiring 52 through the first contact hole H1 that penetrates the second insulating layer 62 to the second connection wiring 52, and the second insulating layer 62 is connected to the second insulation layer 62 by the second contact hole H1. The second input terminal 72 is electrically connected through a first contact hole H1 that penetrates to the input terminal 72. Here, the input pad 72P also functions as the fourth jumper portion J4.

これらの入力パッド71P及び72Pは、アクティブエリア6内における金属パターンの形成工程で同時に形成可能であり、例えば画素電極8と同一材料によって形成可能である。   These input pads 71P and 72P can be formed at the same time in the formation process of the metal pattern in the active area 6, and can be formed of the same material as the pixel electrode 8, for example.

これにより、駆動ICチップ11の出力端子11Aから出力された駆動信号は、入力パッド71P及び第1入力端子71を含む入力部40Yを介して第1接続配線51に供給可能となる一方で、入力パッド72P及び第2入力端子72を含む入力部40Yを介して第2接続配線52に供給可能となる。   Thus, the drive signal output from the output terminal 11A of the drive IC chip 11 can be supplied to the first connection wiring 51 via the input unit 40Y including the input pad 71P and the first input terminal 71, while the input The second connection wiring 52 can be supplied via the input unit 40Y including the pad 72P and the second input terminal 72.

上述したような実施形態3によれば、実施形態2と同様の効果が得られる。   According to the third embodiment as described above, the same effect as the second embodiment can be obtained.

これに加えて、互いに隣接する第1接続配線及び第2接続配線は、それぞれ異なる層に配置されている一方で、入力部から走査線までの間に同数のジャンパー部を介している。すなわち、第1接続配線51は、入力部40Yから走査線Yまでの間に第2ジャンパー部J2及び第3ジャンパー部J3を介している。また、第2接続配線52は、入力部40Yから走査線Yまでの間に第4ジャンパー部J4及び第1ジャンパー部J1を介している。このため、比較的高抵抗な材料でジャンパー部を形成したとしても、ジャンパー部を介することによる配線抵抗を隣接する接続配線間で略同等に揃えることが可能となる。したがって、各接続配線から供給される駆動信号による表示品位への影響を抑制することができる。   In addition, the first connection wiring and the second connection wiring adjacent to each other are arranged in different layers, and the same number of jumper portions are interposed between the input portion and the scanning line. That is, the first connection wiring 51 is interposed between the input unit 40Y and the scanning line Y via the second jumper unit J2 and the third jumper unit J3. The second connection wiring 52 is interposed between the input unit 40Y and the scanning line Y via the fourth jumper unit J4 and the first jumper unit J1. For this reason, even if the jumper portion is formed of a relatively high resistance material, the wiring resistance through the jumper portion can be made substantially equal between adjacent connection wirings. Therefore, the influence on the display quality by the drive signal supplied from each connection wiring can be suppressed.

また、これら第1乃至第4ジャンパー部は、同一材料を用いて同一工程で形成可能である。このため、ここのジャンパー部を形成するための別個の工程が不要である。   The first to fourth jumper portions can be formed in the same process using the same material. For this reason, the separate process for forming the jumper part here is unnecessary.

上述した実施形態3においては、第3ジャンパー部J3及び第4ジャンパー部J4は、互いに同一層に配置された配線同士、あるいは、同一層に配置された配線と入力端子とを接続するものであり、ダミージャンパー部として機能している。すなわち、それぞれの接続配線は、入力部から走査線までの間で配線長が異なる場合がある。この場合、ダミージャンパー部の抵抗値を調整することにより、接続配線間での抵抗差をよりゼロに近づけることが可能となる。また、このようなダミージャンパー部を設けることにより、入力端子及び走査線を配置する層を揃えることも可能である。つまり、ダミージャンパー部は、層置換機能も有している。したがって、図9Bに示したように、全ての入力端子及び全ての走査線を同一層に配置することも可能である。   In the third embodiment described above, the third jumper part J3 and the fourth jumper part J4 connect the wirings arranged in the same layer to each other, or the wirings arranged in the same layer and the input terminal. It functions as a dummy jumper. That is, each connection wiring may have a different wiring length from the input unit to the scanning line. In this case, the resistance difference between the connection wirings can be made closer to zero by adjusting the resistance value of the dummy jumper portion. Further, by providing such a dummy jumper portion, it is possible to align the layers on which the input terminals and the scanning lines are arranged. That is, the dummy jumper part also has a layer replacement function. Therefore, as shown in FIG. 9B, all the input terminals and all the scanning lines can be arranged in the same layer.

上述した実施形態1乃至3において、互いに隣接する第1接続配線51及び第2接続配線52は、必ずしも同一材料で形成可能であるとは限らない。例えば、第1接続配線51は、走査線Yと同一工程で形成され、これらを形成する材料がシート抵抗R1を有するものとする。また、第2接続配線52は、信号線Xと同一工程で形成され、これらを形成する材料がシート抵抗R2を有するものとする。これら第1接続配線51及び第2接続配線52を同一の線幅で形成した場合、配線間での抵抗差が生じてしまう。   In the first to third embodiments described above, the first connection wiring 51 and the second connection wiring 52 adjacent to each other are not necessarily formed of the same material. For example, the first connection wiring 51 is formed in the same process as the scanning line Y, and the material forming these has the sheet resistance R1. In addition, the second connection wiring 52 is formed in the same process as the signal line X, and the material forming these has the sheet resistance R2. When the first connection wiring 51 and the second connection wiring 52 are formed with the same line width, a resistance difference occurs between the wirings.

そこで、図12に示すように、第1接続配線51のシート抵抗R1に対する線幅a1の比(a1/R1)は、第2接続配線52のシート抵抗R2に対する線幅a2の比(a2/R2)と略同等に設定されている。つまり、各材料のシート抵抗は固有値であるため、これらのシート抵抗にあわせて各接続配線の線幅を調整することにより、配線間での抵抗差をゼロに近づけることが可能となる。   Therefore, as shown in FIG. 12, the ratio (a1 / R1) of the line width a1 to the sheet resistance R1 of the first connection wiring 51 is the ratio (a2 / R2) of the line width a2 to the sheet resistance R2 of the second connection wiring 52. ). That is, since the sheet resistance of each material is an eigenvalue, the resistance difference between the wirings can be made close to zero by adjusting the line width of each connection wiring according to these sheet resistances.

以上説明したように、この実施の形態に係る表示装置によれば、アクティブエリアの外周部に配置される複数の接続配線のうち、互いに隣接する接続配線は、それぞれ異なる層に配置されている。これにより、外周部を縮小すること(狭額縁化)が可能となるとともに、外周部の配線を高密度に配置すること(高密度配線化)が可能となる。また、このような狭額縁化及び高密度配線化を行った際でも、各配線の線幅及び隣接する配線間のギャップを十分に確保することができ、信頼性試験における不良の発生及び製造歩留まりを改善することが可能となる。   As described above, according to the display device according to this embodiment, among the plurality of connection wirings arranged in the outer peripheral portion of the active area, the connection wirings adjacent to each other are arranged in different layers. As a result, the outer peripheral portion can be reduced (narrow frame), and the outer peripheral portion wiring can be arranged at a high density (high density wiring). In addition, even when such a narrow frame and high-density wiring are performed, the line width of each wiring and the gap between adjacent wirings can be sufficiently secured, and the occurrence of defects in the reliability test and the manufacturing yield can be ensured. Can be improved.

なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the components without departing from the gist of the invention in the stage of implementation. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine the component covering different embodiment suitably.

例えば、この発明の表示装置は、上述した液晶表示装置に限定されるものではなく、自己発光素子を表示素子とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置など他の表示装置であっても良い。   For example, the display device of the present invention is not limited to the liquid crystal display device described above, and may be another display device such as an organic electroluminescence display device using a self-luminous element as a display element.

また、上述した実施の形態では、信号供給配線は、走査線である場合について説明したが、信号線であっても良いし、アレイ基板の外周部に配置される他の配線を含んでも良い。また、信号供給源は、アレイ基板に実装された駆動ICチップであったが、駆動ICチップ11を液晶表示パネル1上に直接実装することのないような構成、例えば第2接続部32に接続されたフレキシブル・プリンテッド・サーキットFPCなどに信号供給源を備えたような構成の場合、第2接続部に設けた入力部が上述した各実施形態で説明したような構造を有しても良い。   In the above-described embodiments, the signal supply wiring has been described as being a scanning line. However, the signal supply wiring may be a signal line or may include other wiring arranged on the outer peripheral portion of the array substrate. The signal supply source is the drive IC chip mounted on the array substrate, but the drive IC chip 11 is not directly mounted on the liquid crystal display panel 1, for example, connected to the second connection portion 32. In the case of a configuration in which a signal supply source is provided in the flexible printed circuit FPC, etc., the input unit provided in the second connection unit may have a structure as described in each of the above embodiments. .

さらに、上述した実施形態2及び3では、偶数番の接続配線WY(2、4、…)が走査線Yと同一層に配置された第1接続配線51に相当し、奇数番の接続配線WY(1、3、…)が走査線Yとは異なる層に配置された第2接続配線52に相当するものとして説明したが、偶数番の接続配線WY(2、4、…)が走査線Yとは異なる層に配置された第2接続配線52に相当し、奇数番の接続配線WY(1、3、…)が走査線Yと同一層に配置された第1接続配線51に相当するように構成しても良い。   Further, in the second and third embodiments described above, the even-numbered connection wirings WY (2, 4,...) Correspond to the first connection wirings 51 arranged in the same layer as the scanning lines Y, and the odd-numbered connection wirings WY. In the above description, (1, 3,...) Corresponds to the second connection wiring 52 arranged in a layer different from the scanning line Y, but the even-numbered connection wiring WY (2, 4,...) Is the scanning line Y. .., And the odd-numbered connection wirings WY (1, 3,...) Correspond to the first connection wirings 51 arranged in the same layer as the scanning lines Y. You may comprise.

また、上述した実施形態2乃至3では、第1接続配線51に対応した入力部40Y(2、4、…)が第1接続配線51とは異なる層に配置された第1入力端子71を含み、第2接続配線52に対応した入力部40Y(1、3、…)が第2接続配線52と同一層に配置された第2入力端子72を含むものとして説明したが、接続配線と入力部とが配置される層の関係は、ここで説明した例に限らず、入力部40Y(2、4、…)が第1接続配線51と同一層に配置された第1入力端子71を含んでも良いし、入力部40Y(1、3、…)が第2接続配線52とは異なる層に配置された第2入力端子72を含んでも良いし、さらには、これらの入力部が第1接続配線51及び第2接続配線とは異なる層に配置されても良い。   In the second to third embodiments described above, the input section 40Y (2, 4,...) Corresponding to the first connection wiring 51 includes the first input terminal 71 arranged in a different layer from the first connection wiring 51. In the above description, the input unit 40Y (1, 3,...) Corresponding to the second connection wiring 52 includes the second input terminal 72 disposed in the same layer as the second connection wiring 52. Is not limited to the example described here, and the input unit 40Y (2, 4,...) May include the first input terminal 71 arranged in the same layer as the first connection wiring 51. The input unit 40Y (1, 3,...) May include the second input terminal 72 arranged in a layer different from the second connection wiring 52. Further, these input units may include the first connection wiring. 51 and the second connection wiring may be arranged in a different layer.

図1は、この発明の一実施の形態に係る液晶表示装置の液晶表示パネルの構成を概略的に示す図である。FIG. 1 schematically shows a configuration of a liquid crystal display panel of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1に示した液晶表示パネルにおける第1接続部の構成例を概略的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration example of the first connection portion in the liquid crystal display panel shown in FIG. 図3は、隣接する第1接続配線及び第2接続配線の配置例を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining an arrangement example of adjacent first connection wirings and second connection wirings. 図4は、実施形態1における走査線、接続配線、及び、入力部のレイアウトを概略的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically illustrating the layout of the scanning lines, connection wirings, and input units in the first embodiment. 図5は、図4に示した走査線と接続配線とを接続するジャンパー部をA−A線で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the jumper portion connecting the scanning line and the connection wiring shown in FIG. 4 is cut along an AA line. 図6は、図4に示した入力部に駆動ICチップを接続したときに接続配線及び入力部をB−B線で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the connection wiring and the input part are cut along the line BB when the driving IC chip is connected to the input part shown in FIG. 図7は、実施形態2における走査線、接続配線、及び、入力部のレイアウトを概略的に示す図である。FIG. 7 is a diagram schematically showing a layout of scanning lines, connection wirings, and an input unit in the second embodiment. 図8は、図7に示した入力部に駆動ICチップを接続したときに接続配線及び入力部をC−C線で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing the structure when the connection wiring and the input section are cut along the CC line when the drive IC chip is connected to the input section shown in FIG. 図9Aは、実施形態3における走査線、接続配線、及び、入力部のレイアウトを概略的に示す図である。FIG. 9A is a diagram schematically illustrating a layout of a scanning line, a connection wiring, and an input unit in the third embodiment. 図9Bは、実施形態3における走査線、接続配線、及び、入力部のレイアウトを概略的に示す図である。FIG. 9B is a diagram schematically illustrating a layout of scanning lines, connection wirings, and an input unit according to the third embodiment. 図10は、図9Aに示した走査線と接続配線とを接続するジャンパー部をD−D線で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the jumper portion connecting the scanning line and the connection wiring shown in FIG. 9A is cut along the DD line. 図11は、図9Aに示した入力部に駆動ICチップを接続したときに接続配線及び入力部をE−E線で切断したときの構造を概略的に示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing a structure when the connection wiring and the input part are cut along the line EE when the drive IC chip is connected to the input part shown in FIG. 9A. 図12は、隣接する接続配線のシート抵抗に対する線幅の比の関係を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining the relationship of the ratio of the line width to the sheet resistance of the adjacent connection wiring.

符号の説明Explanation of symbols

PX…表示画素 Y…走査線 X…信号線 FPC…フレキシブル配線基板 W(X、Y)…接続配線 J1…第1ジャンパー部 J2…第2ジャンパー部 J3…第3ジャンパー部 J4…第4ジャンパー部 1…液晶表示パネル 3…アレイ基板 4…対向基板 5…液晶層 6…有効表示部 7…スイッチング素子 8…画素電極 9…対向電極 10…外周部 11…駆動ICチップ 11X…信号線駆動部 11Y…走査線駆動部 20…接続配線群 31…第1接続部 31Y…Y接続部 31X…X接続部 32…接続部 40(X、Y)…入力部 51…第1接続配線 52…第2接続配線 53…絶縁層 61…第1絶縁層 62…第2絶縁層 71…第1入力端子 71P…入力パッド 72…第2入力端子 72P…入力パッド   PX ... Display pixel Y ... Scanning line X ... Signal line FPC ... Flexible wiring board W (X, Y) ... Connection wiring J1 ... First jumper part J2 ... Second jumper part J3 ... Third jumper part J4 ... Fourth jumper part DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal display panel 3 ... Array substrate 4 ... Opposite substrate 5 ... Liquid crystal layer 6 ... Effective display part 7 ... Switching element 8 ... Pixel electrode 9 ... Counter electrode 10 ... Outer peripheral part 11 ... Drive IC chip 11X ... Signal line drive part 11Y ... Scanning line drive unit 20 ... Connection wiring group 31 ... First connection part 31Y ... Y connection part 31X ... X connection part 32 ... Connection part 40 (X, Y) ... Input part 51 ... First connection wiring 52 ... Second connection Wiring 53 ... Insulating layer 61 ... First insulating layer 62 ... Second insulating layer 71 ... First input terminal 71P ... Input pad 72 ... Second input terminal 72P ... Input pad

Claims (12)

複数の画素及び各画素に駆動信号を供給する複数の信号供給配線によって構成されたアクティブエリアと、
前記アクティブエリア外に配置され、前記信号供給配線に供給される駆動信号を入力するための複数の入力部と、
前記信号供給配線と前記入力部との間をそれぞれ接続する複数の接続配線と、を備え、
互いに隣接する第1接続配線及び第2接続配線は、絶縁層を介した異なる層にそれぞれ配置されたことを特徴とする表示装置。
An active area composed of a plurality of pixels and a plurality of signal supply wirings for supplying a drive signal to each pixel;
A plurality of input units arranged outside the active area for inputting a drive signal supplied to the signal supply wiring;
A plurality of connection wirings for connecting between the signal supply wiring and the input unit, respectively,
The display device, wherein the first connection wiring and the second connection wiring adjacent to each other are arranged in different layers with an insulating layer interposed therebetween.
前記第1接続配線は、前記信号供給配線と同一層に配置され且つ前記信号供給配線に接続され、
前記第2接続配線は、前記信号供給配線とは異なる層に配置され且つジャンパー部を介して前記信号供給配線に接続されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
The first connection wiring is disposed in the same layer as the signal supply wiring and connected to the signal supply wiring,
The display device according to claim 1, wherein the second connection wiring is disposed in a layer different from the signal supply wiring and is connected to the signal supply wiring through a jumper portion.
前記第1接続配線は、前記信号供給配線と同一層に配置され且つジャンパー部を介して前記信号供給配線に接続され、
前記第2接続配線は、前記信号供給配線とは異なる層に配置され且つジャンパー部を介して前記信号供給配線に接続されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
The first connection wiring is disposed in the same layer as the signal supply wiring and connected to the signal supply wiring through a jumper portion,
The display device according to claim 1, wherein the second connection wiring is disposed in a layer different from the signal supply wiring and is connected to the signal supply wiring through a jumper portion.
前記入力部は、前記第1接続配線と同一層に配置され且つ前記第1接続配線に接続された第1入力端子と、前記第2接続配線と同一層に配置され且つ前記第2接続配線に接続された第2入力端子と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The input unit is disposed in the same layer as the first connection wiring and connected to the first connection wiring, and is disposed in the same layer as the second connection wiring and connected to the second connection wiring. The display device according to claim 1, further comprising a connected second input terminal. 前記入力部は、前記第1接続配線とは異なる層に配置され且つジャンパー部を介して前記第1接続配線に接続された第1入力端子と、前記第2接続配線と同一層に配置され且つ前記第2接続配線に接続された第2入力端子と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The input section is disposed in a layer different from the first connection wiring and is disposed in the same layer as the second connection wiring, and a first input terminal connected to the first connection wiring through a jumper section; The display device according to claim 1, further comprising: a second input terminal connected to the second connection wiring. 前記入力部は、前記第1接続配線とは異なる層に配置され且つジャンパー部を介して前記第1接続配線に接続された第1入力端子と、前記第2接続配線と同一層に配置され且つジャンパー部を介して前記第2接続配線に接続された第2入力端子と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The input section is disposed in a layer different from the first connection wiring and is disposed in the same layer as the second connection wiring, and a first input terminal connected to the first connection wiring through a jumper section; The display device according to claim 1, further comprising: a second input terminal connected to the second connection wiring via a jumper portion. 前記第1接続配線及び前記第2接続配線は、前記入力部から前記信号供給配線までの間で同数のジャンパー部を介することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the first connection wiring and the second connection wiring are provided with the same number of jumper portions between the input portion and the signal supply wiring. 前記ジャンパー部は、同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項7に記載の表示装置。   The display device according to claim 7, wherein the jumper portion is formed of the same material. 前記アクティブエリアは、各画素に配置された画素電極を備え、
前記ジャンパー部は、前記画素電極と同一材料によって形成されたことを特徴とする請求項7に記載の表示装置。
The active area includes a pixel electrode disposed in each pixel,
The display device according to claim 7, wherein the jumper portion is formed of the same material as the pixel electrode.
前記第1接続配線のシート抵抗に対する線幅の比は、前記第2接続配線のシート抵抗に対する線幅の比と略等しいことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein a ratio of a line width to a sheet resistance of the first connection wiring is substantially equal to a ratio of a line width to a sheet resistance of the second connection wiring. 前記入力部は、前記信号供給配線に駆動信号を供給する信号供給源の出力端子と接続される入力パッドを含むことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the input unit includes an input pad connected to an output terminal of a signal supply source that supplies a drive signal to the signal supply wiring. 前記信号供給配線は、画素の行方向に沿って延在する複数の走査線、及び、前記走査線とは異なる層において画素の列方向に沿って延在する複数の信号線を含み、
前記第1接続配線は前記信号線と同一層に配置されるとともに前記第2接続配線は前記走査線と同一層に配置されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
The signal supply wiring includes a plurality of scanning lines extending along the row direction of the pixels, and a plurality of signal lines extending along the column direction of the pixels in a layer different from the scanning lines,
The display device according to claim 1, wherein the first connection wiring is arranged in the same layer as the signal line, and the second connection wiring is arranged in the same layer as the scanning line.
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