JP2006206616A5

JP2006206616A5 -

Info

Publication number: JP2006206616A5
Application number: JP2005016246A
Authority: JP
Filing date: 2005-01-25
Publication date: 2007-08-30
Anticipated expiration: 2025-01-25

Description

これらのフェノール樹脂に添加される有機金属化合物としては、例えばトリイソプロポキシアルミニウム、モノ-sec-ブトキシジプロポキシアルミニウム、トリ-sec-ブトキシアルミニウム、トリ(2-エチルヘキシル)アルミニウム、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(メチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(プロピルアセトアセテート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(ブチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(メチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(エチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(プロピルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(ブチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシアルミニウムモノ(ヘキシルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(メチルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(エチルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(プロピルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(ブチルアセトアセテート)、ジブトキシアルミニウムモノ(ヘキシルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセテート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(プロピルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ブチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ヘキシルアセトアセテート)、アルミニウム-モノアセチルアセトネート-ビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、ジイソプロポキシアルミニウムモノ(アセチルアセトネート)、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレートなどの有機アルミニウム化合物、テトラi-プロポキシチタン、テトラn-プロポキシチタン、テトラn-ブトキシチタン、テトラ(2-エチルヘキシル)チタネート、ジイソプロポキシチタンビス(メチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(プロピルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(ブチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(メチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシチタンビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(メチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシチタンビス(ヘキシルアセトアセテート)、1,3-プロパンジオキシチタンビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシチタンビス(アセチルアセトネート)、ジn-プロポキシチタンビス(アセチルアセトネート)、ジn-ブトキシチタンビス(アセチルアセトネート)、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンテトラエチルアセトアセテート、チタンテトラプロピルアセトアセテート、チタンテトラブチルアセトアセテートなどの有機チタン化合物、テトラi-プロポキシジルコニウム、テトラn-プロポキシジルコニウム、テトラn-ブトキシジルコニウム、ジイソプロポキシジルコニウムビス(メチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(プロピルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(ブチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(メチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(メチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)、1,3-プロパンジオキシジルコニウムビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシジルコニウムビス(アセチルアセトネート)、ジn-プロポキシジルコニウムビス(アセチルアセトネート)、ジn-ブトキシジルコニウムビス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラエチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラプロピルアセトアセテート、ジルコニウムテトラブチルアセトアセテートなどの有機ジルコニウム化合物、テトラi-プロポキシ錫、テトラn-プロポキシ錫、テトラn-ブトキシ錫、ジイソプロポキシ錫ビス(メチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(プロピルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(ブチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(メチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(エチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-プロポキシ錫ビス(ヘキシルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(メチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(エチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(プロピルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(ブチルアセトアセテート)、ジn-ブトキシ錫ビス(ヘキシルアセトアセテート)、1,3-プロパンジオキシ錫ビス(エチルアセトアセテート)、ジイソプロポキシ錫ビス(アセチルアセトネート)、ジn-プロポキシ錫ビス(アセチルアセトネート)、ジn-ブトキシ錫ビス(アセチルアセトネート)、錫テトラアセチルアセトネート、錫テトラエチルアセトアセテート、錫テトラプロピルアセトアセテート、錫テトラブチルアセトアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジラウレートなどの有機錫化合物などがあげられ、好ましくは、下記２つの一般式

R：CH₃、C₂H₅、n-C₃H₇ 、i-C₃H₇、n-C₄H₉、i-C₄H₉、i-C₈H₁₇ などのア
ルキル基
R´：CH₃基またはOR
M₁：Ti、Zr、Sn
M₂：Al
n：0〜3の整数
m：0〜2の整数
で表される少くとも１個のアルコキシル基または少くとも１個のキレート環およびアルコキシル基を有する有機金属化合物、あるいは少くとも１個のキレート環を有する化合物と金属アルコキシドとの混合物が用いられる。有機金属化合物の中では、好ましくは有機アルミニウム化合物が用いられ、有機金属化合物は１種または２種以上の混合物としても用いられる。ただし、有機金属化合物は、適用溶剤の範囲が限定されてしまうため、比較的溶剤選定に自由度のある少くとも1個のキレート環を有する化合物を用いることが好ましい。

以上の実施例7〜9および比較例7〜9で得られた結果は、次の表3に示される。
表３
実施例比較例
測定条件７８９７８９
〔初期〕
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００１００１００２０
剥れ界面ＲＲＲＲＲＭ
〔耐水試験１〕
80℃温水140時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００４０１００ −
剥れ界面ＲＲＲＭＲ −
80℃温水280時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００２０１００ −
剥れ界面ＲＲＲＭＲ −
〔耐水試験２；50％圧縮〕
80℃温水140時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００２０１００ −
剥れ界面ＲＲＲＭＲ −
80℃温水280時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) ９５１００１０００９０ −
剥れ界面ＭＲＲＭＭ −
〔耐酸試験１；0.5％硫酸〕
80℃硫酸140時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１０００２０ −
剥れ界面ＲＲＲＭＭ −
80℃硫酸280時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) ７０１００８０ − ０ −
剥れ界面ＭＲＣＰ − Ｍ −
〔耐酸試験２；0.3％ふっ酸〕
80℃ふっ酸140時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) ９０１００９５０００
剥れ界面ＭＲＣＰＭＭＭ
80℃ふっ酸280時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) ６０１００６０ − − −
剥れ界面ＭＲＣＰ − − −

以上の実施例10〜12および比較例10〜12で得られた結果は、次の表4に示される。
表４
実施例比較例
測定条件１０１１１２１０１１１２
〔初期〕
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００１００１００１００
剥れ界面ＲＲＲＲＲＲ
〔耐水試験１〕
80℃温水140時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００８０１０００
剥れ界面ＲＲＲＭＲＭ
80℃温水280時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００４０１００ −
剥れ界面ＲＲＲＭＲ −
〔耐水試験２；50％圧縮〕
80℃温水140時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００５０１０００
剥れ界面ＲＲＲＭＲＭ
80℃温水280時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１００１０１００ −
剥れ界面ＭＲＲＭＲ −
〔耐酸試験１；0.5％硫酸〕
80℃硫酸140時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) １００１００１０００４００
剥れ界面ＲＲＲＭＭＭ
80℃硫酸280時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) ７０１００９０ − ０ −
剥れ界面ＭＲＲＣ − Ｍ −
〔耐酸試験２；0.3％ふっ酸〕
80℃ふっ酸140時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) ９０１００９５０００
剥れ界面ＭＲＭＭＭＭ
80℃ふっ酸280時間浸漬後
ゴム残留面積率 (％) ６０１００７０ − − −
剥れ界面 M、RC Ｒ M、RC − − −