JP2006198457A - 面形状形成方法及び装置、磁気ヘッドの浮上面形成方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 短時間かつ低コストにて構造体の面形状を形成しつつ、当該形成する面形状の高精度化を図ること。
【解決手段】 構造体１の所定の面に対して所定形状のレジストを形成するレジスト形成手段２と、レジストが形成された構造体１の所定の面に対してエッチング処理を行うエッチング手段と、を備えた面形状形成装置であって、レジスト形成手段２は、構造体１の所定の面にレジスト材料Ａを吐出することにより所定形状のレジスト形成を行うレジスト吐出手段２を備えた。
【選択図】図１

Description

本発明は、面形状形成方法及び装置にかかり、特に、レジストを形成してエッチングにて面形状を形成する方法及び装置に関する。

磁気ディスク駆動装置（ＨＤＤ）は、磁気ディスクに対してデータの記録再生を行う磁気ヘッド素子部が形成された磁気ヘッドを装備している。そして、近年の磁気ディスク駆動装置においては、記録されるデータの高密度化に伴い、磁気ディスク面に対して磁気ヘッドができるだけ近接するよう、低浮上化の要請が高まっている。

かかる低浮上化を実現すべく、磁気ヘッドの浮上面には、磁気ディスクの回転時に流入する空気流にて適切な動圧力を発生させるよう所定形状の凹凸部が形成されている。そして、この浮上面の形状は近年ではより複雑化しており、その形成方法は複数段階（複数サイクル）のエッチングを行うことが不可欠となっている。

例えば、一般的な磁気ヘッドの浮上面形成方法が、下記の特許文献１に開示されている。その方法を、図１０を参照して説明する。まず、複数個の磁気ヘッド構造体が一列に配列されたバー状のウエハに対して、所定のラッピング加工を施した後に、所定パターンのレジストを塗布する（ステップＳ１０１）。続いて、キュア処理を行い（ステップＳ１０２）、露光（ステップＳ１０３）、現像処理を行う（ステップＳ１０４）。その後、ドライエッチングを行う（ステップＳ１０５）。以上の５工程により、１つの段差を形成することができる。そして、さらに段差を形成する場合には、上記塗布したレジストを除去した後に（ステップＳ１０６、ステップＳ１０７にて否定判断）、上記ステップＳ１０１〜ステップＳ１０５の工程を繰り返す。これにより、多数段かつ複雑な凹凸形状を有する浮上面を形成することができる。

特開平１０−２２８６１７号公報

しかしながら、上記従来例における磁気ヘッドの浮上面形成方法では、塗布したレジストを露光、現像を行うため、非常に複雑な形状を形成することが困難となり、ますます複雑化している近年または将来の磁気ヘッド浮上面の形成に対応することが難しくなる、という問題が生じる。

また、各段差を形成する際に、それぞれ塗布されたレジストに対する露光及び現像がその都度行われるため、浮上面の形成工程数がますます増加する傾向にあり、磁気ヘッドの製造時間が増加、及び、製造コストの増加を招く、という問題が生じる。これに伴い、各回のレジスト形成の際に露光、現像処理が必要となり、その位置合わせに手間が生じ、形成する浮上面の形状の精度の低下、及び、さらなる製造時間の増大といった問題が生じうる。

さらに、所定パターンのレチクル（マスク）を多数用意する必要があり、これにより製造コストが増大しうる、という問題が生じる。また、露光においては結像面の焦点深度に比べレジストが厚い場合には、現像後のレジストの端面をシャープに形成できず、エッチングによる凹凸部の壁面角度を急峻に形成することができない。従って、このような磁気ヘッドスライダでは浮上高さの安定化が困難となる、という問題も生じる。

このため、本発明では、短時間かつ低コストにて構造体の面形状を形成しつつ、当該形成する面形状の高精度化を図ることを、その目的とする。

そこで、本発明の一形態である面形状形成方法は、
構造体の所定の面に対して所定形状のレジストを形成するレジスト形成工程と、レジストが形成された構造体の所定の面に対してエッチング処理を行うエッチング工程と、を備えた面形状形成方法であって、
レジスト形成工程は、構造体の所定の面にレジスト材料を吐出することにより所定形状のレジスト形成を行う、
ことを特徴としている。

そして、レジスト形成工程は、インクジェット方式又はバブルジェット方式にてレジスト材料を吐出する、ことを特徴としている。このとき、レジスト形成工程は、２ｐｌ（ピコリットル）以下の吐出量にてレジスト材料の吐出を行う、ことを特徴としている。さらには、レジスト形成工程は、０．５ｐｌ（ピコリットル）以下の吐出量にてレジスト材料の吐出を行う、ことを特徴としている。

また、エッチング工程の後に、形成されたレジストを全て取り除くレジスト除去工程を備えると共に、
このレジスト除去工程の後に、レジスト形成工程とエッチング工程とを繰り返し行う、
ことを特徴としている。

上記発明によると、まず、構造体の所定の面にインクジェット方式やバブルジェット方式などにより、微小滴のレジスト材料（望ましくは２ｐｌ以下、さらに望ましくは０．５ｐｌ以下）を吐出して、所定形状にレジスト描画を行う。その後、エッチング処理を行うことで、レジストにて覆われていない部分に凹部が形成され、構造体の所定の面に凹凸部を形成することができる。これにより、従来ではレジスト形成時に、所定の面に塗布したレジストに対して、露光、現像処理を行っていたが、かかる処理工程が不要となり、直接、高精度のレジスト形成を行うことができる。

従って、面形状の形成工程の短縮化を図ることができると共に、上記工程を繰り返し行うことで複雑な凹凸部の形成を高精度に行うことができる。また、上述したように露光、現像処理が不要であることから、レチクルが不要となりコストの削減を図ることができる。さらに、繰り返しエッチングを行う場合には露光、現像時に高精度の位置決めが必要となるが、かかる処理が必要ないため、形成工程の短縮化を図ることができる。

そして、特に、上記方法を磁気ヘッドの浮上面を形成するために用いることにより、微小かつ複雑な凹凸形状の浮上面を高精度に形成することができる。このとき、レジストを薄く形成できることから、当該レジストの端面をシャープに形成できるため、エッチングによって形成される凹凸部の壁面角度を急峻に形成することができる。これにより、磁気ヘッドの浮上高さの安定化を図ることができ、当該磁気ヘッドを用いて行うデータ記録再生の信頼性の向上を図ることができる。

また、上記エッチング工程の後に、既に行われた他のレジスト形成工程にて構造体に形成されたレジスト材料に対してレーザビームを照射して当該レジスト材料の一部を除去し、新たな所定形状のレジスト形成を行うレーザ照射工程を備え、このレーザ照射工程の後に、さらにエッチング工程を備えた、ことを特徴としている。このとき、上記レーザ照射工程は、レーザビームにてレジスト材料を熱分解して除去する、ことを特徴としている。例えば、レーザビームにてレジスト材料を昇華させて除去する。

上記構成によると、構造体の所定の面に吐出により形成されたレジストの不要な部分に、レーザビームを照射して加熱することによる熱分解などの作用によって除去することにより、所定形状のレジスト形成を行うことができる。そして、その後、エッチングを行う。これにより、位置決めを高精度に照射することが可能なレーザビームにて所定形状のレジスト形成を行うことができるため、より高精度に面形状を形成することができる。特に、構造体の所定の面に既に形成されており、一度エッチングに用いたレジストの一部を除去して、新たなレジスト形状を形成することでき、レジストの有効利用を図ることができ、コストの低減及び処理時間の短縮化を図ることができる。

また、本発明の他の態様である面形状形成装置は、
構造体の所定の面に対して所定形状のレジストを形成するレジスト形成手段と、レジストが形成された構造体に対してエッチング処理を行うエッチング手段と、を備えた面形状形成装置であって、
レジスト形成手段は、構造体の所定の面にレジスト材料を吐出することにより所定形状のレジスト形成を行うレジスト吐出手段を備えた、
ことを特徴としている。

このとき、レジスト吐出手段は、インクジェット方式又はバブルジェット方式にてレジスト材料の吐出を行う、ことを特徴としている。また、構造体の所定の面に形成されたレジストを全て取り除くレジスト除去手段を備えた、ことを特徴としている。

また、構造体に形成されたレジスト材料に対してレーザビームを照射して当該レジスト材料の一部を除去し、所定形状のレジスト形成を行うレーザ照射手段を備えた、ことを特徴としている。

そして、レジスト吐出手段やレーザ照射手段の動作を制御する制御手段を備え、
この制御手段が、構造体の所定の面に対して形成するレジストの形状を表すレジスト形状データを記憶すると共に、この記憶されたレジスト形状データに基づいてレジスト吐出手段やレーザ照射手段の動作を制御してレジスト形成を行う、
ことを特徴としている。

また、構造体を載置すると共に、レジスト吐出手段やレーザ照射手段によるレジスト形成時に構造体の位置を設定するよう載置面に沿って移動する可動テーブルを備えた、ことを特徴としている。このとき、レジスト吐出手段あるいはレーザ照射手段は、可動テーブルの移動動作に対応して移動し、レジスト材料の吐出あるいはレーザビームの照射を行う、ことを特徴としている。

そして、本発明では、所定の面を形成する対象となる構造体は磁気ヘッドであり、上述した面形状形成装置を用いて磁気ヘッドの浮上面を形成する磁気ヘッドの浮上面形成装置も提供している。

上記構成の面形状形成装置あるいは磁気ヘッドの浮上面形成装置であっても、上述した面形状形成方法と同様に作用するため、上記本発明の目的を達成することができる。そして、上述したように、可動テーブルを設けた場合には、レジスト吐出動作、あるいは、レーザ照射動作の効率化を図ることができ、レジスト形成処理を迅速かつ高精度に実現することができる。

本発明は、以上のように構成され機能するので、これによると、従来例に示す露光、現像処理が不要であり、面形状の形成工程の短縮化及び製造コストの低減を図ることができると共に、レジストを高精度に形成することができることから、複雑な形状であっても高精度に面形状を形成することができる、という従来にない優れた効果を有する。

本発明は、エッチングを行う構造体に対してレジストを形成する際に、レジスト材料を構造体に対して直接吐出して、所定形状のレジストを描画する、という点に特徴を有する。また、さらに、既に塗布されているレジストの一部にレーザビームを照射して、かかる部分を除去することにより、所定形状のレジストを描画する、という点にも特徴を有する。

以下、特に、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）にてハードディスクからデータ再生を行う磁気ヘッドを構造体の一例として挙げ、その浮上面（ＡＢＳ面）をエッチングするためにレジストを形成する場合を説明する。但し、本発明を用いて形成する面形状は、磁気ヘッドの浮上面であることに限定されず、また、面形状を形成する対象となる構造体は、磁気ヘッドであることに限定されない。

本発明の第１の実施例を、図１乃至図５を参照して説明する。図１は、磁気ヘッドの浮上面形成装置の構成を示すブロック図である。図２は、コントローラの構成を示す機能ブロック図である。図３乃至図４は、磁気ヘッドの浮上面を形成しているときの様子を示す説明図である。図５は、面形状形成装置の動作を示すフローチャートである。

［構成］
本発明である磁気ヘッドの浮上面形成装置（面形状形成装置）は、図１に示すように、磁気ヘッド構造体１に対して所定形状のレジストを形成すべくレジスト材料Ａを吐出するインクジェット装置２（レジスト吐出手段（レジスト形成手段））と、このインクジェット装置３を駆動して位置決めを行うインクジェット駆動装置３と、レジスト形成された磁気ヘッド構造体１に対してエッチング処理を行うエッチング装置（図示せず）と、を備えている。また、レジスト形成時に、磁気ヘッド構造体１を載置し、載置面に沿って駆動して磁気ヘッド構造体１の位置を設定するテーブル５（可動テーブル）と、このテーブル５を駆動するテーブル駆動装置６と、インクジェット装置２のレジスト吐出動作などを制御するコントローラ４（制御手段）と、を備えている。さらに、図示しないが、磁気ヘッド構造体１に形成され既に不要となったレジストを全て取り除くレジスト除去装置（レジスト除去手段）を備えている。以下、各構成について詳述する。

＜磁気ヘッド構造体＞
磁気ヘッド構造体１は、後に磁気ヘッドに形成される構造体であって、図３（ａ）に示すように、所定の厚みを有する長方形状にて形成されており、その一端部には、データ再生を行う磁気抵抗効果素子Ｍを有する磁気ヘッド素子部１Ａが形成されている。なお、他端部側を磁気ヘッドスライダ部１Ｂ（本体部）と呼ぶ。そして、上記磁気抵抗効果素子Ｍが露出している磁気ヘッド構造体１の一方の面には、後述するように、レジスト形成後にエッチング処理が行われ、かつ、かかる処理が繰り返されることにより、磁気ディスクに対して低浮上動作を実現する所定形状の凹凸部（段差）を有する浮上面（ＡＢＳ面）が形成される。従って、この磁気抵抗効果素子Ｍが露出している面（符号１１で示す面）を上方に向けてテーブル５に載置され、後述する各工程が実行される。

＜テーブル＞
テーブル５は、上記磁気ヘッド構造体１を固定して載置する。そして、このテーブル５は、テーブル駆動装置６にて支持されており、載置面（Ｘ−Ｙ平面上）に沿って可動する。従って、インクジェット装置２に対する磁気ヘッド構造体１のＸ−Ｙ平面上の位置を移動させることができる。

そして、テーブル駆動装置６は、載置している磁気ヘッド構造体１に対してレジストを形成するときに、後述するコントローラ４にて制御されてテーブル５の位置を駆動する。このとき、インクジェット装置２からのレジスト材料Ａの吐出に応じて可動するため、形成するレジストの形状に対応して可動可能なものである。例えば、１０ｍｍ／秒以上の速度にて可動可能であり、２μｍ以下の位置制度を有していると望ましい。

＜インクジェット装置＞
インクジェット装置２は、インクジェット方式にてレジスト材料Ａを吐出する装置であって、インクジェット駆動装置３に支持されており、コントローラ４からの制御指令に応じてレジスト材料Ａの吐出を行う。このとき、後述するように、コントローラ４にて予め定められたレジスト形状データに基づいて制御されるため、かかる形状にレジスト描画を行う位置に移動制御されると共に、レジスト材料Ａの吐出が制御される。

また、このインクジェット装置１の動作に対応して、上述したようにテーブル５の動作もコントローラ４にて制御される。すなわち、インクジェット装置１とテーブル５とが協働して作動することで、磁気ヘッド構造体１のレジスト形成箇所に対してインクジェット装置１を迅速にレジスト形状データに基づいた位置に移動することができ、レジスト描画を迅速かつ高精度に行うことができる。

ここで、インクジェット装置２は、０．１ｍｍ／秒以上の速度にて可動可能であり、２μｍ以下の位置制度を有していると望ましい。また、レジスト材料Ａの吐出サイクルは、１０ｋＨｚ以上であると望ましく、また、一度（一滴）の吐出量は２ｐｌ（ピコリットル）以下であると望ましい。さらに望ましくは、吐出量が０．５ｐｌ（ピコリットル）以下であるとよい。そして、吐出するレジスト材料Ａは、本実施例では、後述するエッチング装置によるドライエッチングに強く、かつ、上述したような微小滴の吐出が可能な材料を用いて形成するとよい。例えば、分子量が小さいＥＬ（エチルラクテート）を溶媒としたスチレン系樹脂が望ましい。あるいは、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエチルアセテート）を溶媒としたスチレン系樹脂も利用可能である。但し、レジスト材料は、上記材料に限定されない。

このようにインクジェット装置１にてレジスト材料Ａを吐出してレジスト描画を行うことで、レジストの厚みを３〜６μｍとすることができ、従来の露光、現像を行ってレジスト形成する場合の１０〜２０μｍと比較して非常に薄くできるため、エッチングにより凹部の壁面を急峻に形成することができる。

なお、本実施例では、インクジェット装置２にてレジスト材料Ａを磁気ヘッド構造体１に吐出する場合を例示しているが、これに限定されず、インクジェット装置２に代わってバブルジェット方式にてレジスト材料Ａの吐出を行う装置を用いてレジスト形成を行ってもよい。さらに、上記方式のものに限定されず、他の構造にてレジスト材料Ａを吐出してレジスト描画を行うことが可能な装置を用いてもよい。

＜コントローラ＞
コントローラ４は、ＣＰＵなどの演算装置４１と、書き換え可能であり記憶されたデータを保持可能なＲＯＭなどの記憶装置４５とを備えている。そして、記憶装置４５には、磁気ヘッド構造体１に上記インクジェット装置２にて描画するレジスト形状データを記憶するレジスト形状データ記憶部４６が形成されている。このレジスト形状データは、予めオペレータによって登録されており、磁気ヘッド構造体１の浮上面に対して行うエッチング処理の各段階毎（各サイクル毎）に異なる形状のデータが含まれる。例えば、図３，４に示す形状の浮上面を形成する場合には、後述するように各エッチング処理の前に、それぞれ図３（ｂ）と図４（ａ）とに示す形状（網掛け形状）を描画するため、かかる２パターンのレジスト形状データが記憶されている。

そして、演算装置４１には、予め所定のプログラムが組み込まれることによって、インクジェット装置２の動作を制御するインクジェット制御処理部４２と、テーブル５の動作を制御するテーブル制御処理部４３と、が構築されている。インクジェット制御処理部４２は、レジスト形状データ記憶部４６から現在の工程で形成すべきレジスト形状データを読み出し、かかる形状のレジストをテーブル５上に載置された磁気ヘッド構造体１の浮上面に形成するようインクジェット駆動装置３に指示を送る。これにより、インクジェット装置２は、Ｘ，Ｙ，Ｚ方向に移動しつつ、レジスト材料Ａを吐出し、指示された形状のレジストを描画する。また、テーブル制御処理部４３は、上記インクジェット制御処理部４２と協動して、インクジェット装置２にて所定のレジスト形状に描画可能なよう、載置している磁気ヘッド構造体１の位置をＸ−Ｙ平面上で移動する。これにより、インクジェット装置２の移動も最小限に抑えることができ、描画処理の迅速化を図ると共に、当該インクジェット装置２の消耗を抑制することができる。

＜その他の構成＞
次に、図示しないエッチング装置について説明する。このエッチング装置は、上述したようにインクジェット装置２にてレジスト描画を行った磁気ヘッド構造体１に対して、当該レジスト描画されていない部分のエッチングを行う装置である。例えば、エッチング装置は、イオンビームを磁気ヘッド構造体１に照射して、イオンビームエッチングといったドライエッチングを行う。但し、エッチング装置は、他のいかなる方法にてエッチングを行ってもよい。

また、同様に図示しないレジスト除去装置は、上述したように磁気ヘッド構造体１に形成され、既に不要となったレジストを全て取り除く。例えば、各段階（各サイクル）のエッチングが終了して、次の段階のレジスト形成を行う前にレジストを取り除く。

［動作］
次に、上述した磁気ヘッドの浮上面形成装置を用いて行う浮上面形成方法（面形状形成方法）の動作を、図３乃至図５を参照して説明する。図３乃至図４は、磁気ヘッド構造体１の浮上面に凹凸部を有する浮上面形状を形成する工程ごとの浮上面の様子を示す。なお、各図においては、各段階における磁気ヘッド構造体１の浮上面の平面図を上部に示し、その中央断面図を下部に示している。また、図５は、そのときの磁気ヘッドの浮上面形成装置の動作を示すフローチャートである。

まず、コントローラ４のインクジェット制御処理部４２及びテーブル制御処理部４３が、レジスト形状データ記憶部４６からレジスト形状データを読み出し（ステップＳ１）、かかるデータに基づいてインクジェット装置２及びテーブル５を駆動して、インクジェット装置２からレジスト材料Ａを吐出することで所定の形状にレジスト描画を行う（ステップＳ２、レジスト形成工程）。例えば、１サイクル目には、図３（ａ）に示す平坦な磁気ヘッド構造体１の浮上面（符号１１にて示す）に対して、図３（ｂ）の網掛けにて図示する形状のレジストＡ１を形成する。

続いて、レジストＡ１を形成した磁気ヘッド構造体１の浮上面に対して、エッチング装置（図示せず）にてドライエッチングを行う（ステップＳ３、エッチング工程）。すると、図３（ｃ）に示すように、レジストＡ１が形成されていない部分は所定高さだけ浸食され、符号１２に示す所定深さの凹部が形成される。そして、レジスト除去装置（図示せず）にて磁気ヘッド構造体１に形成されたレジストＡ１を取り除く（ステップＳ４、レジスト除去工程）。これにより、磁気ヘッド構造体１には、浮上面の符号１１の部分がもっとも高く、符号１２で示す低い段差（凹状）が形成された状態となり（図３（ｄ）参照）、１サイクル目が終了する。

その後、さらに段差（凹凸形状）を形成する場合には（ステップＳ５にて否定判断）、２サイクル目のレジスト形成工程、及び、エッチング工程を行う。具体的には、レジスト形状データ記憶部４６から読み出したレジスト形状データに含まれる２サイクル目のレジスト形状に基づいて、上述同様にインクジェット装置２及びテーブル５を移動して、インクジェット装置２からレジスト材料Ａを吐出することで所定の形状にレジスト描画を行う（ステップＳ２、レジスト形成工程）。本実施例では、２サイクル目には、図４（ａ）の網掛けにて図示する形状のレジストＡ２を形成する。

続いて、レジストＡ２を形成した磁気ヘッド構造体１の浮上面に対して、エッチング装置（図示せず）にてドライエッチングを行う（ステップＳ３、エッチング工程）。すると、図４（ｂ）、（ｃ）に示すように、レジストＡ２が形成されていない部分が所定高さだけ浸食される。なお、図４（ｂ）において点線で示す形状は、エッチング前の浮上面の位置を示している。これにより、エッチング前に符号１１に示す高さの面には、符号１２に示す低い高さの段差が形成され、さらに、エッチング前に符号１２に示す高さの面には、符号１３に示すさらに低い高さの段差が形成される。但し、２サイクル目に形成される符号１２に示す高さと、１サイクル目に形成される符号１２に示す高さは、同一の高さであることに限定されない。例えば、各サイクルにおけるエッチング処理時間等によって異なっていてもよい。

その後、レジスト除去装置（図示せず）にて磁気ヘッド構造体１に形成されたレジストＡ１を取り除き（ステップＳ４、レジスト除去工程）、浮上面の形成を完了する（ステップＳ５にて肯定判断）。

これにより、図４（ｄ）に示すように、磁気ヘッド構造体１の浮上面は、符号１１の部分がもっとも高く、符号１２で示す部分が次に低い段差（凹部）となり、さらに、符号１３で示す部分が最も低い段差（凹部）となり、２段の段差を有する浮上面が形成されることとなる。

以上より、インクジェット装置２にて微小滴のレジスト材料Ａを吐出して、所定形状にレジスト描画を行うため、高精度にレジスト形成を行うことができ、その後のエッチングによって形成される浮上面の精度の向上を図ることができ、より複雑な凹凸部を有する浮上面の形成が可能となる。従って、従来、各サイクル毎に行っていたレジストに対する露光、現像処理が不要となり、形成工程の短縮化を図ることができる。そして、このことは、露光、現像工程で必要であったレチクルが不要となると共に、高精度の位置決め作業が不要となるため、さらに形成工程の短縮化と、製造コストの削減を図ることができる。

また、レジストを薄く形成できることから描画したレジストの端面をシャープに形成できるため、凹凸部の壁面角度を急峻に形成することができる。すると、磁気ヘッドの浮上高さの安定化を図ることができ、当該磁気ヘッドを用いて行うデータ記録再生の信頼性の向上を図ることができる。

なお、上記では、２段階（２サイクル）のエッチングを行って２段の段差を形成する場合を例示したが、さらに繰り返してレジスト形成工程、エッチング工程、レジスト除去構成を行い、より複雑な浮上面の形状を形成してもよい。

次に、本発明の第２の実施例を、図６乃至図９を参照して説明する。図６は、磁気ヘッドの浮上面形成装置の構成を示すブロック図である。図７乃至図８は、磁気ヘッドの浮上面を形成しているときの様子を示す説明図である。図９は、浮上面形成装置の動作を示すフローチャートである。

［構成］
本実施例における磁気ヘッドの浮上面形成装置は、上記実施例１にて説明した構成に加え、さらに、磁気ヘッド構造体１に形成されたレジストに対してレーザビームを照射するレーザ照射装置７，８（レーザ照射手段）を備えている。これに伴い、上記コントローラ４の演算装置４１には、レーザ照射装置７，８の動作を制御するレーザ照射制御処理部（図示せず）が構築されている。

上記レーザ照射装置７，８は、具体的には、図６に示すように、レーザビームを照射するレーザトーチ７と、このレーザトーチ７を支持してレーザ照射動作を制御すると共にレーザ照射位置を設定すべくレーザトーチ７を移動制御するレーザ駆動装置８と、により構成されている。

そして、レーザトーチ７は、例えば、エキシマレーザを出力するものであり、既に磁気ヘッド構造体１上に塗布（描画）されているレジストに対して照射し、当該レジストの一部を加熱することによって除去する。これに伴い、磁気ヘッド構造体１に塗布するレジスト材料は、レーザビームの加熱によって熱分解されることが可能な材料、例えば、Ｃ，Ｈ，Ｎを含む高分子材料にて形成されている。具体的には、上述したような、ＥＬ（エチルラクテート）を溶媒としたスチレン系樹脂や、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエチルアセテート）を溶媒としたスチレン系樹脂が利用可能である。なお、レーザビームにて加熱することによってレジストが昇華する、といった作用により除去してもよい。かかる場合には、上述同様に、レーザビームにて昇華可能な材料をレジスト材料として用いる。さらに、レーザビームによってレジストの一部を除去する処理は、必ずしも上記作用によって行うことに限定されず、レーザビームの照射エネルギーを用いて他の原理によって除去してもよい。

また、レーザトーチ７は、これを支持しているレーザ駆動装置８によって駆動制御され、例えば、０．１ｍｍ／秒以上の速度にてＸ−Ｙ方向に可動可能であり、２μｍ以下の位置決め精度を有している。そして、レーザ駆動装置８は、コントローラ４からの制御指令に応じて、所定の形状にレジスト形成するようレーザトーチ７の移動、及び、レーザビームの照射制御を行う。

また、レーザ駆動装置８に制御指令を出力するコントローラ４に形成されたレーザ照射制御処理部（図示せず）は、上述したインクジェット制御処理部４２と同様に、レジスト形状データ記憶部４６から現在の工程において形成すべきレジスト形状データを読み出し、かかる形状のレジストをテーブル５上に載置された磁気ヘッド構造体１の浮上面に形成するようレーザ駆動装置８に指示を送る。このとき、レーザトーチ７の位置決めに関する制御指令は、レーザビームの照射対象である磁気ヘッド構造体１を載置しているテーブル５の動作に対応させて駆動する指令を出力する。すなわち、テーブル制御処理部４３と協働して、適切な位置決めが可能なよう制御する。これにより、迅速かつ精度よくレーザトーチ７の移動を制御することができ、レジスト形成処理の迅速化及び高精度化を図ることができる。

なお、本実施例においては、レーザビームを照射して形成するレジスト形状とは、上述したようにインクジェット装置２にて描画したレジスト形状の一部を除去することによって形成できる形状である。具体的には、１サイクル目にはインクジェット装置２にてレジスト描画を行ってエッチングを行い、かかるレジストをそのまま利用してその一部をレーザにて除去し、これによって２サイクル目のレジスト形状を形成する。また、以下の説明では２サイクル目のエッチング処理までしか説明していないが、さらにエッチングを行う場合であって、既に形成されているレジストの一部を除去して、以降のエッチングにて利用可能なレジスト形状を形成できる場合には、上記同様に、レーザビームの照射によるレジスト形成を繰り返し行ってもよい。

［動作］
次に、上述した実施例２における磁気ヘッドの浮上面形成装置を用いて行う浮上面形成方法（面形状形成方法）の動作を、図７乃至図９を参照して説明する。図７乃至図８は、磁気ヘッド構造体１の浮上面に凹凸部を有する浮上面形状を形成する各工程ごとの浮上面の様子を示す。なお、各図においては、各段階における磁気ヘッド構造体１の浮上面の平面図を上部に示し、その中央断面図を下部に示している。また、図９は、そのときの磁気ヘッドの浮上面形成装置の動作を示すフローチャートである。

まず、コントローラ４のインクジェット制御処理部４２及びテーブル制御処理部４３が、レジスト形状データ記憶部４６からレジスト形状データを読み出し（ステップＳ１１）、かかるデータに基づいてインクジェット装置２及びテーブル５を移動して、インクジェット装置２からレジスト材料Ａを吐出することで所定の形状にレジスト描画を行う（ステップＳ１２、レジスト形成工程）。例えば、１サイクル目には、図７（ａ）に示す平坦な磁気ヘッド構造体１の浮上面（符号１１にて示す）に対して、図７（ｂ）の網掛けにて図示する形状のレジストＡ１を形成する。

続いて、レジストＡ１を形成した磁気ヘッド構造体１の浮上面に対して、エッチング装置（図示せず）にてドライエッチングを行う（ステップＳ１３、エッチング工程）。すると、図７（ｃ）に示すように、レジストＡ１が形成されていない部分は所定高さだけ浸食され、符号１２に示す低い段差（凹部）が形成される。これにより、磁気ヘッド構造体１の浮上面は、符号１１の部分がもっとも高く、符号１２で示す部分が低い段差形状（凹状）となる。このようにして、１サイクル目が終了する。ここまでは、上記実施例１と同様である。

続いて、本実施例における２サイクル目のレジスト形成は、上述した既に形成されているレジストＡ１に対してレーザトーチ７にてレーザ照射を行い、不要な部分を除去することで行う（レーザ照射工程）。具体的には、レジスト形状データ記憶部４６から読み出したレジスト形状データに含まれる２サイクル目のレジスト形状に基づいて、レーザトーチ７及びテーブル５を移動して、レーザトーチ７からレーザビームを照射することで、所定形状となるようレジストＡ１の一部を除去する。例えば、図７（ｃ）にて示したレジスト形状Ａ１から一部分を除去することで、図７（ｄ）に示す形状のレジストＡ１を形成する。なお、図７（ｄ）の断面図に示した点線部分は、レーザビームにてレジストを除去した部分である。

その後、図８（ａ）に示す形状のレジストＡ１が形成された状態の磁気ヘッド構造体１の浮上面に対して、エッチング装置（図示せず）にてドライエッチングを行う（ステップＳ１５、エッチング工程）。すると、図８（ｂ）、（ｃ）に示すように、レジストＡ１が形成されていない部分が所定高さだけ浸食される。なお、図８（ｂ）において点線で示す形状は、エッチング前の浮上面の位置を示している。これにより、エッチング前に符号１１に示す高さの面には符号１２に示す低い高さの段差が形成され、さらに、エッチング前に符号１２に示す高さの面には符号１３に示す低い高さの段差が形成され、２段階の段差を有する浮上面が形成される。但し、２サイクル目に形成される符号１２に示す高さと、１サイクル目に形成される符号１２に示す高さは、同一の高さであることに限定されない。例えば、各サイクルにおけるエッチング処理時間等によって異なっていてもよい。

その後、レジスト除去装置（図示せず）にて磁気ヘッド構造体１に形成されたレジストＡ１を取り除き（ステップＳ１６、レジスト除去工程）、図８（ｄ）に示すように、浮上面の形成が完了される。

このようにすることにより、レーザビームの位置決めを高精度に行って照射することにより、所望の形状に高精度にレジスト形成を行うことができ、エッチングにより磁気ヘッドの浮上面の形状を高精度に形成することができる。そして、特に、既に描画されたレジストの一部を除去して新たなレジスト形状を形成することでき、レジストの有効利用を図ることができ、エッチングコストの低下及び処理時間の短縮化を図ることができる。

ここで、上記では、２サイクルのエッチングにより２段の浮上面形状を形成する場合を例示したが、さらに、段差を形成すべくエッチングを行ってもよい。この場合に、図８（ｃ）に示すレジスト形状の一部を除去することによって新たなレジストを形成可能である場合には、当該レジストに対して上述同様にレーザビームを照射して新たなレジストを形成する。すなわち、図９のステップＳ１５に続いて、ステップＳ１４及びステップＳ１５を、さらに１回又は複数回繰り返し行ってもよい。

また、上記では、インクジェット装置２にて磁気ヘッド構造体１に描画したレジストの一部を除去して、新たなレジスト形状を形成する場合を例示したが、別途、磁気ヘッド構造体１に塗布などにより形成したレジストに対してレーザビームを照射して、当該レジストの一部を除去することにより新たなレジスト形状を形成してもよい。すなわち、図９のステップＳ１３のドライエッチングにより終了した１サイクル目の後に、レジストの全てを除去し、その後、磁気ヘッド構造体１に別途インクジェット装置２やその他の任意の手法にて、新たなレジストを塗布し、かかるレジストに対してレーザビームを照射して（ステップＳ１４）、次のサイクルのレジスト形状を形成してもよい。

本発明である面形状形成装置は、例えば、磁気ヘッド構造体の浮上面を形成する際に用いることができ、産業上利用可能性を有する。

実施例１における浮上面形成装置の構成を示すブロックである。 実施例１におけるコントローラの構成を示す機能ブロック図である。 図３（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ実施例１における浮上面の形成時の様子を示す図である。 図４（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ実施例１における浮上面の形成時の様子を示す図であり、図３の続きを示すものである。 実施例１における動作を示すフローチャート。 実施例２における浮上面形成装置の構成を示すブロックである。 図７（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ実施例２における浮上面の形成時の様子を示す図である。 図８（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ実施例２における浮上面の形成時の様子を示す図であり、図７の続きを示すものである。 実施例２における動作を示すフローチャート。 従来例における浮上面の形成動作を示すフローチャート。

符号の説明

１ 磁気ヘッド構造体
２ インクジェット装置（レジスト吐出手段、レジスト形成手段）
３ インクジェット駆動装置
４ コントローラ（制御手段）
５ テーブル（可動テーブル）
６ テーブル駆動装置
７ レーザトーチ（レーザ照射手段）
８ レーザ駆動装置
４２ インクジェット制御処理部
４３ テーブル制御処理部
４６ レジスト形状データ記憶部
１Ａ 磁気ヘッド素子部
１Ｂ 磁気ヘッドスライダ部（本体部）
Ａ レジスト材料
Ｍ 磁気抵抗効果素子
Ａ１，Ａ２ レジスト

Claims (20)

1. 構造体の所定の面に対して所定形状のレジストを形成するレジスト形成工程と、当該レジストが形成された前記構造体の所定の面に対してエッチング処理を行うエッチング工程と、を備えた面形状形成方法であって、
   前記レジスト形成工程は、前記構造体の所定の面にレジスト材料を吐出することにより前記所定形状のレジスト形成を行う、
   ことを特徴とする面形状形成方法。
2. 前記レジスト形成工程は、インクジェット方式又はバブルジェット方式にて前記レジスト材料を吐出する、ことを特徴とする請求項１記載の面形状形成方法。
3. 前記レジスト形成工程は、２ｐｌ（ピコリットル）以下の吐出量にて前記レジスト材料の吐出を行う、ことを特徴とする請求項１又は２記載の面形状形成方法。
4. 前記レジスト形成工程は、０．５ｐｌ（ピコリットル）以下の吐出量にて前記レジスト材料の吐出を行う、ことを特徴とする請求項３記載の面形状形成方法。
5. 前記エッチング工程の後に、前記形成されたレジストを全て取り除くレジスト除去工程を備えると共に、
   このレジスト除去工程の後に、前記レジスト形成工程と前記エッチング工程とを繰り返し行う、
   ことを特徴とする請求項１，２，３又は４記載の面形状形成方法。
6. 前記エッチング工程の後に、既に行われた他の前記レジスト形成工程にて前記構造体に形成されたレジスト材料に対してレーザビームを照射して当該レジスト材料の一部を除去し、新たな所定形状のレジスト形成を行うレーザ照射工程を備え、
   このレーザ照射工程の後に、さらに前記エッチング工程を備えた、
   ことを特徴とする請求項５記載の面形状形成方法。
7. 前記レーザ照射工程は、前記レーザビームにて前記レジスト材料を熱分解して除去する、ことを特徴とする請求項６記載の面形状形成方法。
8. 前記レーザ照射工程は、前記レーザビームにて前記レジスト材料を昇華させて除去する、ことを特徴とする請求項７記載の面形状形成方法。
9. 前記構造体は磁気ヘッドであり、
   前記請求項１乃至８のいずれかに記載の面形状形成方法を用いて前記磁気ヘッドの浮上面を形成する、
   ことを特徴とする磁気ヘッドの浮上面形成方法。
10. 構造体の所定の面に対して所定形状のレジストを形成するレジスト形成手段と、前記レジストが形成された前記構造体の所定の面に対してエッチング処理を行うエッチング手段と、を備えた面形状形成装置であって、
    前記レジスト形成手段は、前記構造体の所定の面にレジスト材料を吐出することにより前記所定形状のレジスト形成を行うレジスト吐出手段を備えた、
    ことを特徴とする面形状形成装置。
11. 前記レジスト吐出手段は、インクジェット方式又はバブルジェット方式にて前記レジスト材料の吐出を行う、ことを特徴とする請求項１０記載の面形状形成装置。
12. 前記構造体の所定の面に形成されたレジストを全て取り除くレジスト除去手段を備えた、ことを特徴とする請求項１０又は１１記載の面形状形成装置。
13. 前記レジスト吐出手段の動作を制御する制御手段を備え、
    この制御手段が、前記構造体の所定の面に対して形成するレジストの形状を表すレジスト形状データを記憶すると共に、この記憶された前記レジスト形状データに基づいて前記レジスト形成を行う、
    ことを特徴とする請求項１０，１１又は１２記載の面形状形成装置。
14. 前記構造体に形成されたレジスト材料に対してレーザビームを照射して当該レジスト材料の一部を除去し、新たな所定形状のレジスト形成を行うレーザ照射手段を備えた、ことを特徴とする請求項１０，１１，１２又は１３記載の面形状形成装置。
15. 前記レーザ照射手段の動作を制御する制御手段を備え、
    この制御手段が、前記構造体の所定の面に対して形成するレジストの形状を表すレジスト形状データを記憶すると共に、この記憶された前記レジスト形状データに基づいて前記レーザ照射手段の動作を制御して前記レジスト形成を行う、
    ことを特徴とする請求項１４記載の面形状形成装置。
16. 前記構造体を載置すると共に、前記レジスト吐出手段によるレジスト形成時に前記構造体の位置を設定するよう載置面に沿って移動する可動テーブルを備えた、ことを特徴とする請求項１０，１１，１２，１３，１４又は１５記載の面形状形成装置。
17. 前記レジスト吐出手段は、前記可動テーブルの移動動作に対応して移動し、前記レジスト材料の吐出を行う、ことを特徴とする請求項１６記載の面形状形成装置。
18. 前記可動テーブルは、前記請求項１４乃至１５記載の面形状形成装置に備えられた前記レーザ照射手段によるレジスト形成時に前記構造体の位置を設定するよう載置面に沿って移動する、ことを特徴とする請求項１６又は１７記載の面形状形成装置。
19. 前記レーザ照射手段は、前記可動テーブルの移動動作に対応して移動し、前記レーザビームの照射を行う、ことを特徴とする請求項１８記載の面形状形成装置。
20. 前記構造体は磁気ヘッドであり、
    前記請求項１０乃至１９記載の面形状形成装置を用いて前記磁気ヘッドの浮上面を形成する、
    ことを特徴とする磁気ヘッドの浮上面形成装置。
    

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