JP2006195350A - 光学フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光学的異方性が小さく実質的に光学的等方性であり、光学的異方性の湿度依存性が小さく、波長分散が小さく、さらには光学的なムラが少ないセルロースアシレートフィルムの提供、このフィルムにより作製した視野角特性に優れる光学補償フィルムや偏光板などの提供、およびこれらを用いた液晶表示装置の提供。
【解決手段】透明フィルム（ｂ）の上に複屈折層（ａ）が積層され、かつ複屈折層（ａ）は特定の条件を満たし、しかも２５℃１０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値及びＲｔｈレターデーション値と２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値及びＲｔｈレターデーション値の差異が、それぞれ２０ｎｍ以内、５０ｎｍ以内である光学フィルム。
【選択図】 なし

Description

本発明は、液晶表示装置に有用なセルロースアシレートフィルムおよび光学フィルム、その光学フィルムを積層した積層偏光板、それらを用いた液晶表示装置に関する。

セルロースアシレートフィルムは、光学的に透明性が高いことと、光学的に等方性が高いことから、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置用の光学材料として優れており、これまで偏光子の保護フィルムや、斜め方向からの見た表示を良化（視野角補償）できる光学補償フィルムの支持体として用いられてきた。
液晶表示装置用の部材のひとつである偏光板には偏光子の少なくとも片側に偏光子の保護フィルムが貼合によって形成されている。一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素または二色性色素で染色することにより得られる。
多くの場合、偏光子の保護フィルムとしてはＰＶＡに対して直接貼り合わせることができる、セルロースアシレートフィルム、なかでもトリアセチルセルロースフィルムが用いられている。この偏光子の保護フィルムは、光学的等方性に優れることが重要であり、偏光子の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右する。
最近の液晶表示装置においては、視野角特性の改善がより強く要求されるようになっており、偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、より光学的に等方性であることが求められている。光学的に等方性であるとは、光学フィルムの複屈折と厚みの積で表されるレターデーション値が小さいことが重要である。とりわけ、斜め方向からの表示良化のためには、正面方向のレターデーション（Ｒｅ）だけでなく、膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を小さくする必要がある。具体的には光学透明フィルムの光学特性を評価した際に、フィルム正面から測定したＲｅが小さく、角度を変えて測定してもそのＲｅが変化しないことが要求される。

これまでに、正面のＲｅを小さくしたセルロースアシレートフィルムはあったが、角度によるＲｅ変化が小さい、すなわちＲｔｈが小さいセルロースアシレートフィルムは作製が難しかった。そこでセルロースアシレートフィルムの代わりにポリカーボネート系フィルムや熱可塑性シクロオレフィンフィルムを用いて、Ｒｅの角度変化の小さい光学透明フィルムの提案がされている（例えば、特許文献１，２，製品としてはＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン社製）や、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）など）。しかし、これらの光学透明フィルムは、偏光子の保護フィルムとして使用する場合、フィルムが疎水的なためにＰＶＡとの貼合性に問題がある。またフィルム面内全体の光学特性が不均一である問題も残っている。

この解決法として、ＰＶＡへの貼合適正に優れるセルロースアシレートフィルムを、より光学的異方性を低下させて改良することが強く望まれている。具体的には、セルロースアシレートフィルムの正面のＲｅをほぼゼロとし、またレターデーションの角度変化も小さい、すなわちＲｔｈもほぼゼロとした、光学的に等方性である光学透明フィルムである。

セルロースアシレートフィルムの製造において、一般的に製膜性能を良化するため可塑剤と呼ばれる化合物が添加される。可塑剤の種類としては、リン酸トリフェニル、リン酸ビフェニルジフェニルのようなリン酸トリエステル、フタル酸エステル類などが開示されている（例えば、非特許文献１参照）。これら可塑剤の中には、セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる効果を有するものが知られており、例えば、特定の脂肪酸エステル類が開示されている（例えば、特許文献３参照）。しかしながら、従来知られているこれらの化合物を用いたセルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる効果は十分とはいえない。

また、最近の液晶表示装置においては、表示色味の改善も要求されるようになっている。そのため偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、波長４００〜８００ｎｍの可視領域でＲｅやＲｔｈを小さくするだけでなく、波長によるＲｅやＲｔｈの変化、すなわち波長分散を小さくする必要がある。

また、液晶表示装置の表示品質が高いことや、液晶表示装置の表示品質が、使用する環境湿度の影響を受けないことも求められるため、保護フィルムも、光学的なムラがなく、光学性能が湿度に依存しないことが求められている。

また、従来、各種液晶表示装置には、光学補償を目的として位相差板が使用されている。このような位相差板としては、例えば、光学的二軸位相差板があげられ、これらは主に、ロール間引張り延伸法、ロール間圧縮延伸法、テンター横一軸延伸法等の各種ポリマーフィルム延伸法等や（例えば、特許文献４参照。）、二軸延伸により異方性を持たせる方法等によって作製することができる（例えば、特許文献５参照。）。また、この他にも、正の光学異方性を持つ一軸延伸ポリマーフィルムと、面内の位相差値が小さい負の光学異方性を持つ二軸延伸ポリマーフィルムとを併用した位相差板や（特許文献６参照。）、前述のような延伸方法ではなく、例えば、ポリイミドの性質により、基板上で可溶性ポリイミドをフィルム化することによって、負の一軸性が付与された位相差板もある（例えば、特許文献７参照。）。

前述のようなフィルム延伸技術等によれば、形成される延伸フィルムには、例えば、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚという光学特性を付与することができる。ここで、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚとは、前記フィルムにおけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸の屈折率をそれぞれ示し、Ｘ軸とは、フィルム面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。このような光学特性を有する複屈折性フィルムは、例えば、液晶表示装置の液晶セルと偏光子との間に配置すれば、前記液晶表示装置の表示特性を広視野角化できるため、前記液晶セルの視角補償フィルムとして有用である。
特開２００１−３１８２３３号公報 特開２００２−３２８２３３号公報 特開２００１−２４７７１７号公報 特開平３−３３７１９号公報 特開平３−２４５０２号公報 特開平４−１９４８２０号公報 特表平８−５１１８１２号公報 プラスチック材料講座、第１７巻、日刊工業新聞社、「繊維素系樹脂」、１２１頁（昭和４５年）

本発明の第１の課題は、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく実質的に光学的等方性であり、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）の湿度依存性が小さく、波長分散が小さく、さらには光学的なムラが少ないセルロースアシレートフィルムを提供することである。
本発明の第２の課題は、光学的異方性が小さく、湿度依存性が小さく、波長分散が小さく、光学的なムラの少ないセルロースアシレートフィルムにより作製した光学補償フィルムや偏光板などの光学材料が視野角特性に優れるものであることを示すこと、およびこれらを用いた液晶表示装置を提供することにある。
光学的異方性が小さく、湿度依存性が小さく、波長分散が小さく、光学的なムラが小さいセルロースアシレートフィルムを偏光板の保護フィルムに用いることによって、偏光板の光学特性を良化できる。また光学補償フィルムの支持体として用いると、光学補償フィルムそのものの光学性能を引き出すことができる。これらの偏光板や光学補償フィルムを液晶表示装置に用いることによってコントラストの良化、色味を改良することができる。
また、前述のような光学特性のフィルムであっても、液晶表示装置に使用した場合に、例えば、広い視野角におけるコントラストが優れるという効果を奏するが、一方では、虹ムラが発生するという問題もあった。

そこで、本発明は、例えば、液晶表示装置等の各種表示装置に使用した際に、虹ムラの発生等を防止し、より一層優れた表示特性を示す、負の複屈折性を有する光学フィルムの提供を目的とする。

本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、光学フィルムの湿度依存性、波長分散性、Ｒｅ、Ｒｔｈの変動を小さくすることで、表示品質に優れた液晶表示装置が達成できることを見出した。
本発明によれば、下記の光学フィルム、偏光板、液晶表示装置が提供され、上記課題が解決される。
１．透明フィルム（ｂ）の上に複屈折層（ａ）が積層された光学フィルムであって、かつ複屈折層（ａ）は下記数式（Ｉ）、（II）の条件を満たし、かつ２５℃１０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値及びＲｔｈレターデーション値と２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値及びＲｔｈレターデーション値の差異が、それぞれ２０ｎｍ以内、５０ｎｍ以内であることを特徴とする光学フィルム。
数式（Ｉ）：１＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）
数式（II）：０．０００５≦Δｎ（ａ）≦０．５
（数式（II）において、Δｎ（ａ）は、下記数式で表される複屈折層（ａ）の複屈折率であり、数式（Ｉ）および下記数式において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ複屈折層（ａ）におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示す。ここで、Ｘ軸は複屈折層（ａ）の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は前記面内において、Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸はＸ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。
Δｎ（ａ）＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ）
２．Ｒｅ₍λ₎およびＲｔｈ₍λ₎が下記数式（Ｉ'）をみたすことを特徴とする上記１に記載の光学フィルム。
数式（Ｉ'）：｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０、かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５
（式中、Ｒｅ₍λ₎は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ₍λ₎は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。）
３．Ｒｅ及びＲｔｈの面内ばらつきが下記数式（III）及び（IV）を満たすことを特徴とする上記１または２に記載の光学フィルム。
（III）：｜Ｒｅ_(MAX)−Ｒｅ_(MIN)｜≦３
（IV） ：｜Ｒｔｈ_(MAX)−Ｒｔｈ_(MIN)｜≦５
（式中、Ｒｅ_(MAX)、Ｒｔｈ_(MAX)は任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値、Ｒｅ_(MIN)、Ｒｔｈ_(MIN)は最小値である。）
４．Ｒｅ₍λ₎およびＲｔｈ₍λ₎が、下記数式（Ｖ）及び（ＶI）をみたすセルロースアシレートフィルムとの積層体であることを特徴とする上記１乃至３のいずれかに記載の光学フィルム。
数式（Ｖ） ：０≦Ｒｅ₍₆₃₀₎≦１０、かつ｜Ｒｔｈ₍₆₃₀₎｜≦２５
数式（ＶI）：｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０、かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５
（式中、Ｒｅ₍λ₎は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ₍λ₎は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。）
５．セルロースアシレートフィルムが、フィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を、下記数式（VII）及び（VIII）をみたす範囲で少なくとも一種含有することを特徴とする上記４に記載の光学フィルム。
数式（VII）：（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−１．０
数式（VIII） ：０．０１≦Ａ≦３０
（ここで、Ｒｔｈ（Ａ）はＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ（０）はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表す。なお、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。）
６．セルロースアシレートフィルムが、アシル置換度が２.８５〜３．００のセルロースアシレートに、Ｒｅ₍λ₎およびＲｔｈ₍λ₎を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする上記４に記載の光学フィルム。
７．セルロースアシレートフィルムが、フィルムの｜Ｒｅ₍₄₀₀）−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜および｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする上記４に記載の光学フィルム。
８．セルロースアシレートフィルムが、フィルムの膜厚が１０〜１２０μｍであることを特徴とする上記４に記載の光学フィルム。
９．透明フィルム（ｂ）上に、直接、複屈折層（ａ）が積層されていることを特徴とする上記１乃至８のいずれかに記載の光学フィルム。
１０．複屈折層（ａ）を形成する材料が、非液晶性材料であることを特徴とする上記１乃至９のいずれかに記載の光学フィルム。
１１．非液晶性材料が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一種のポリマー材料であることを特徴とする上記１１に記載の光学フィルム。
１２．収縮性を有する透明フィルム（ｂ）上に、直接、複屈折層（ａ）の形成材料を塗工して塗工膜を形成し、透明フィルム（ｂ）の収縮に伴い前記塗工膜を収縮させることにより得られることを特徴とする上記９乃至１１のいずれかに記載の光学フィルム。
１３．加熱により透明フィルム（ｂ）を収縮させることを特徴とする上記１２に記載の光学フィルム。
１４．透明フィルム（ｂ）上に、直接、複屈折層（ａ）の形成材料を塗工して塗工膜を形成し、透明フィルム（ｂ）と塗工膜とを共に延伸することによって得られることを特徴とする上記９乃至１３のいずれかに記載の光学フィルム。
１５．さらに、接着剤層および粘着剤層の少なくとも一方を含む上記９乃至１５のいずれかに記載の光学フィルム。
１６．最外層に、接着剤層および粘着剤層の少なくとも一方が積層された上記９乃至１５のいずれかに記載の光学フィルム。
１７．上記１乃至８のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム、又は上記９乃至１６のいずれかに記載の光学フィルムを少なくとも１枚、偏光子の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
１８．液晶セルおよび光学部材を含み、液晶セルの少なくとも一方の表面に光学部材が配置された液晶パネルであって、光学部材が、上記１乃至１６のいずれかに記載の光学フィルムまたは上記１７に記載の偏光板であることを特徴とする液晶パネル。
１９．液晶パネルを含む液晶表示装置であって、液晶パネルが上記１８記載の液晶パネルであることを特徴とする液晶表示装置。
２０．上記１〜１６に記載の光学フィルム及び上記１７に記載の偏光板、のいずれかを有することを特徴とする液晶表示装置。
２１．上記１〜１６のいずれかに記載の光学フィルム及び上記１７に記載の偏光板、のいずれかを有することを特徴とするＶＡ液晶表示装置。
２２．液晶セルの上下両側に偏光板を有する上記２１に記載のＶＡ液晶表示装置において、少なくとも片側の偏光板のセル側に上記１〜１６のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置。

本発明によれば、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）が小さく実質的に光学的等方性であり、光学的異方性（Ｒｅ、Ｒｔｈ）の湿度依存性が小さく、波長分散が小さく、さらには光学的なムラが少ないセルロースアシレートフィルムにより作製された光学補償フィルムや偏光板などの光学材料が視野角特性に優れるものであることが示され、これらを用いた偏光板及び液晶表示装置が提供される。
発明の光学補償フィルム、偏光板を使用すれば、斜めからの色味変化が少なく、画面上のムラが少なく、さらには表示性能の湿度依存性にも優れ、また、虹ムラの発生も抑制された表示品位に優れる薄型の液晶表示装置が実現できる。さらに、サーモ後のパネルムラも低減した表示品位に優れる薄型の液晶表示装置が実現できる。

以下、まず本発明の光学フィルムについて詳しく説明する。
［セルロースアシレート原料綿］
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。

［セルロースアシレート置換度］
次に上述のセルロースを原料に製造され、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートについて記載する。本発明のセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも好ましく用いることができる。本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。

上述のように本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが好ましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることが好ましく、２．８５〜３．００であることがより好ましい。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族のアシル基でも芳香族のアシル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、iso−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。

本発明の発明者が鋭意検討した結果、上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性が低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらに好ましくは２．６５〜３．００である。

［セルロースアシレートの重合度］
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８に詳細に記載されている。
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明のセルロースアシレートフィルムの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率を上記範囲にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

本発明のセルロースアシレートは、置換基、置換度、重合度、分子量分布などが前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

［セルロースアシレートへの添加剤］
本発明のセルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期は、ドープ作製工程において何れの添加剤を添加しても良く、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
セルロースアシレート溶液は、本発明のセルロースアシレートフィルムの光学的異方性、とくにフィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を、下記数式（ii）、（iii）をみたす範囲で少なくとも一種含有することが好ましい。
数式（ii） ：（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−１．０
数式（iii）：０．０１≦Ａ≦３０
上記数式（ii）、（iii）は
数式（ii） ：（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−２．０
数式（iii）：０．０５≦Ａ≦２５
であることがより好ましく、
数式（ii） :（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−３．０
数式（iii）:０．１≦Ａ≦２０
であることがさらに好ましい。
ここで、Ｒｔｈ（Ａ）は、Ｒｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）であり、
Ｒｔｈ（０）は、Ｒｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）であり、
Ａは、フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）
である。

［セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物の構造的特徴］
セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物について説明する。 本発明者らは、鋭意検討した結果、フィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いて光学的異方性を十分に低下させ、Ｒｅ及びＲｔｈがゼロに近くなるようにした。このためには光学的異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。

（ＬｏｇＰ値）
本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）が０ないし７である化合物が好ましい。ＬｏｇＰ値が上記範囲であると、セルロースアシレートとの相溶性が十分ありフィルムの白濁や粉吹きが生じない、親水性が適度でありフィルムが耐水性を有する等の利点がある。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１ないし６であり、特に好ましい範囲は１．５ないし５である。
オクタノール−水分配係数（ＬｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）、Viswanadhan's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,163(1989).）、Broto's fragmentation法（Eur.J.Med.Chem.- Chim.Theor.,19,71(1984).）などが好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）がより好ましい。ある化合物のＬｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。

［光学的異方性を低下する化合物の物性］
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有しても良いし、含有しなくても良い。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることがさらに好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１ないし３０質量％であることが好ましく、１ないし２５質量％であることがより好ましく、５ないし２０質量％であることが特に好ましい。
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０−９９％である。本発明の化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面および中心部の化合物量を測定して求めることができる。

以下に本発明で好ましく用いられる、セルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。

本発明に記載のｌｏｇＰの値は、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）により求めたものである。
一般式（１３）の化合物について説明する。

一般式（１３）

［式中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³の炭素原子数の総和は１０以上であることが特に好ましい。］
Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³の置換基としては、フッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。
また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１乃至２５のものが好ましく、６乃至２５のものがより好ましく、６乃至２０のものが特に好ましい。アルキル基の好ましい具体例としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、アミル、イソアミル、t-アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、t-オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシルが挙げられる。
アリール基としては炭素原子数が６乃至３０のものが好ましく、６乃至２４のもの、例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニルが特に好ましい。
一般式（１３）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

一般式（２）：

一般式（２）中、Ｒ³¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ³²及びＲ³³はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。

上記のアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素など）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基及びアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基である。

以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

［波長分散調整剤］
セルロースアシレートフィルムの波長分散を低下させる化合物（以下波長分散調整剤ともいう）について説明する。本発明のセルロースアシレートフィルムのＲｔｈの波長分散を良化させるためには、下記式（iv）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈを低下させる化合物を、下記数式（v）、（vi）を満たす範囲で少なくとも一種含有することが好ましい。
数式（iv）：ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜
数式（v） ：（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−２．０
数式（vi）:０．０１≦Ｂ≦３０
上記数式（v）、（vi）は
数式（v）:（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−３．０
数式（vi）:０．０５≦Ｂ≦２５
であることがより好ましく、
数式（v）:（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−４．０
数式（vi）:０．１≦Ｂ≦２０
であることがさらに好ましい。
ここで、
Ｒｔｈ₍₄₀₀₎は、４００ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）を意味し、
Ｒｔｈ₍₇₀₀₎は、７００ｎｍにおけるＲｔｈ（ｎｍ）を意味し、
ΔＲｔｈ（Ｂ）は、ΔＲｔｈを低下させる化合物をＢ質量％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）を意味し、
ΔＲｔｈ（０）は、ΔＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）を意味し、
Ｂは、フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）
である。
上記の波長分散調整剤は、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜および｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことによってセルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整した。

セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが要求される。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。

したがって上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調製することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましいが、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。

また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜および｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜を低下させる化合物をセルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求される。本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。

上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。

波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

（化合物添加量）
上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１ないし３０質量％であることが好ましく、０．１ないし２０質量％であることがより好ましく、０．２ないし１０質量％であることが特に好ましい。

（化合物添加の方法）
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。

ベンゾトリアゾール系化合物としては一般式（１０１）で示されるものが本発明の波長分散調整剤として好ましく用いられる。

一般式（１０１）：Ｑ¹−Ｑ²−ＯＨ
（式中、Ｑ¹は含窒素芳香族ヘテロ環を、Ｑ²は芳香族環を表す。）

Ｑ¹は含窒素芳香族へテロ環を表わし、好ましくは５乃至７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５ないし６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
Ｑ¹で表される含窒素芳香族ヘテロ環は更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。

Ｑ²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
Ｑ²であらわされる芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ²は更に置換基を有してもよく、下記の置換基Ｔが好ましい。
置換基Ｔとしては、例えば、
アルキル基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。〕、
アルケニル基〔好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。〕、
アルキニル基〔好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。〕、
アリール基〔好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。〕、
置換又は未置換のアミノ基〔好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。〕、
アルコキシ基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。〕、
アリールオキシ基〔好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。〕、
アシル基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。〕、
アルコキシカルボニル基〔好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。〕、
アリールオキシカルボニル基〔好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。〕、
アシルオキシ基〔好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。〕、
アシルアミノ基〔好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。〕、
アルコキシカルボニルアミノ基〔好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。〕、
アリールオキシカルボニルアミノ基〔好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。〕、
スルホニルアミノ基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。〕、
スルファモイル基〔好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。〕、
カルバモイル基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。〕、
アルキルチオ基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。〕、
アリールチオ基〔好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。〕、
スルホニル基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。〕、
スルフィニル基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。〕、
ウレイド基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。〕、
リン酸アミド基〔好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。〕、
ヘテロ環基〔好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。〕、
シリル基〔好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる〕、
その他、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子〔例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子〕、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基などが挙げられる。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（１０１）として好ましくは下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物である。

一般式（１０１−Ａ）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、およびＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、およびＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基ととしては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ¹およびＲ³として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。

Ｒ²、およびＲ⁴として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、Ｃ１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁵およびＲ⁸として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、Ｃ１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁶およびＲ⁷として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。
一般式（１０１）としてより好ましくは下記一般式（１０１−Ｂ）で表される化合物である。

一般式（１０１−Ｂ）

（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁶およびＲ⁷は一般式（１０１−Ａ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
以下に一般式（１０１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以下のものを含まずに本発明のセルロースアシレートフィルムを作製した場合、保存性の点で有利であることが確認された。
また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（１０２）で示されるものが好ましく用いられる。

一般式（１０２）

一般式（１０２）中、Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。
Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。
Ｑ¹およびＱ²は、更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。

Ｘは、ＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。）、または酸素原子であり、特に好ましくは酸素原子である。
置換基Ｔとしては、前述した一般式（１０１）の置換基Ｔがそのまま適用されるが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（１０２）で表される化合物として、好ましくは下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物である。

一般式（１０２−Ａ）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、およびＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、およびＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁸およびＲ⁹として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ²として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ⁷として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。

一般式（１０２）としてより好ましくは下記一般式（１０２−Ｂ）で表される化合物である。

一般式（１０２−Ｂ）

（式中、Ｒ¹⁰は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。）

Ｒ¹⁰は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。

Ｒ¹⁰として好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換または無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。

一般式（１０２）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
以下に一般式（１０２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるシアノ基を含む化合物としては一般式（１０３）で示されるものが好ましく用いられる。

一般式（１０３）

（式中、Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ¹およびＸ²は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）
Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｑ¹およびＱ²は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

Ｘ¹およびＸ²は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ¹およびＸ²で表される置換基は前述の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ¹およびＸ²はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。

Ｘ¹およびＸ²として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−C(＝O)OR（Rは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。
一般式（１０３）として好ましくは下記一般式（１０３−Ａ）で表される化合物である。

一般式（１０３−Ａ）

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ¹およびＸ²は一般式（１０３）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹、およびＲ¹⁰として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、Ｃ1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。
Ｒ³およびＲ⁸として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、Ｃ１〜２０のアルキル基、Ｃ０〜２０のアミノ基、Ｃ１〜１２のアルコキシ基、Ｃ６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、Ｃ１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。
一般式（１０３）としてより好ましくは下記一般式（１０３−Ｂ）で表される化合物である。

一般式（１０３−Ｂ）

（式中、Ｒ³およびＲ⁸は一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ³は水素原子、または置換基を表す。）
Ｘ³は水素原子、または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ³として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−C(＝O)OR（Rは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。

一般式（１０３）として更に好ましくは一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物である。

一般式（１０３-Ｃ）

（式中、Ｒ³およびＲ⁸は一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ²¹はＣ１〜２０のアルキル基を表す。）

Ｒ³およびＲ⁸が両方水素の場合には、Ｒ²¹として好ましくはＣ２〜１２のアルキル基であり、より好ましくはＣ４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、Ｃ６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、tert−オクチル基、２−エチルへキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。

Ｒ³およびＲ⁸が水素以外の場合には、Ｒ²¹としては一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。

本発明の一般式（１０３）で表される化合物は、Journal of American Chemical Society ６３巻 ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成できる。

以下に一般式（１０３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

［マット剤微粒子］
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

［可塑剤、劣化防止剤、剥離剤］
上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、本発明のセルロースアシレートフィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

［化合物添加の比率］
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート質量に対して５〜４５％であることが好ましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらに好ましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましく、１０００以下がさらに好ましい。これら化合物の総量が５％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する(フィルムからの泣き出し)などの問題が生じやすくなる。

［セルロースアシレート溶液の有機溶媒］
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよびエーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

以上本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
その他、本発明のセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６、特開平１２−９５８７７、特開平１０−３２４７７４、特開平８−１５２５１４、特開平１０−３３０５３８、特開平９−９５５３８、特開平９−９５５５７、特開平１０−２３５６６４、特開平１２−６３５３４、特開平１１−２１３７９、特開平１０−１８２８５３、特開平１０−２７８０５６、特開平１０−２７９７０２、特開平１０−３２３８５３、特開平１０−２３７１８６、特開平１１−６０８０７、特開平１１−１５２３４２、特開平１１−２９２９８８、特開平１１−６０７５２、特開平１１−６０７５２などの公開公報に記載されている。これらの公開公報によると、本発明のセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。

［セルロースアシレートフィルムの製造工程］
［溶解工程］
本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、本発明のセルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、セルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。

［フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性］
本発明のセルロースアシレートフィルムの面内のレターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデーションＲｔｈはともに湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲe値の差ΔＲe（＝Ｒe１０％ＲＨ−Ｒe８０％ＲＨ）が０〜２０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜１５ｎｍであり、さらに好ましくは０〜１０ｎｍである。また、Ｒｔｈ値の差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）が０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３０ｎｍである。

［フィルムの平衡含水率］
本発明のセルロースアシレートフィルムの平衡含水率は、偏光板の保護膜として用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましい。０.１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。４％以上の平衡含水率であると、光学補償フィルムの支持体として用いる際にレターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎてしまい好ましくない。
含水率の測定法は、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。

［フィルムの透湿度］
本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ²・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが特に好ましい。２０００ｇ／ｍ²・２４ｈを越えると、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。 また、本発明のセルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ²・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求めた。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求めた。

［延伸前後における正面レターデーション変化、遅相軸の検出］
試料１００×１００ｍｍを用意し、固定一軸延伸機を用いて温度１４０℃の条件下で機械搬送方向（ＭＤ方向）または垂直方向（ＴＤ方向）に延伸を行った。延伸前後における各試料の正面レターデーションは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて測定した。遅相軸の検出は上記のレターデーション測定の際に得られる配向角から決定した。延伸によってＲｅの変化が小さいことが好ましく、具体的にはＲｅ(ｎ)をｎ(％)延伸したフィルムの面内正面レターデーション(ｎｍ)、Ｒｅ(０)を延伸していないフィルムの面内正面レターデーション(ｎｍ)としたときに、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦１．０を満たすことが好ましく、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦０．３を満たすことがさらに好ましい。

［遅相軸を有する方向］
本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光子の保護フィルムに用いる場合、偏光子が機械搬送方向（ＭＤ方向）に吸収軸を持つため、セルロースアシレートフィルムは遅相軸がＭＤ方向近傍またはＴＤ近傍にあることが好ましい。遅相軸が偏光子と平行または直交させることにより光漏れや色味変化を低減できる。近傍とは、遅相軸とＭＤまたはＴＤ方向が０〜１０°、好ましくは０〜５°の範囲にあることを表す。

［本発明のセルロースアシレートフィルムの評価方法］
本発明のセルロースアシレートフィルムの評価に当たって、以下の方法で測定して実施した。

（面内のレターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅ(λ)は自動複屈折計〔ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）〕において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。また、Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)と、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°としてサンプルを１０°ごとに５０°まで傾斜させて波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値を基に、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。セルロースアシレートの平均屈折率は１．４８である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。

（Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散測定）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、波長を変えてエリプソメーターＭ−１５０(日本分光（株）製)において同様に測定した。

（分子配向軸）
試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＤＨ、王子計測（株））にて、垂直入射における入射角を変化させた時の位相差より分子配向軸を算出した。
（軸ズレ）
自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株））で軸ズレ角度を測定した。幅方向に全幅にわたって等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めた。遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の差をとったものである。

［セルロースアシレートフィルムのレターデーションの面内ばらつき］
本発明のセルロースアシレートフィルムは次の式を満たすことが好ましい。
｜Ｒｅ_(MAX)−Ｒｅ_(MIN)｜≦３、かつ｜Ｒｔｈ_(MAX)−Ｒｔｈ_(MIN)｜≦５
［式中、Ｒｅ_(MAX)、Ｒｔｈ_(MAX)は、任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値、Ｒｅ_(MIN)、Ｒｔｈ_(MIN)は、最小値である。］

［フィルムの残留溶剤量］
本発明のセルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量は１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由堆積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。

［表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

［アルカリ鹸化処理によるフィルム表面の接触角］
本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板の透明保護フィルムとして用いる場合の表面処理の有効な手段の１つとしてアルカリ鹸化処理が上げられる。この場合、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることが好ましい。より好ましくは５０°以下であり、４５°以下であることがさらに好ましい。接触角の評価法はアルカリ鹸化処理後のフィルム表面に直径３ｍｍの水滴を落とし、フィルム表面と水滴のなす角をもとめる通常の手法によって親疎水性の評価として用いることができる。

［機能層］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、その用途として光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学用途が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成であることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡおよびＨＡＮが好ましい。
その際に前述の光学用途に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることができるこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、前述のように、複屈折層（ａ）と透明フィルム（ｂ）とを含む光学フィルムであって、透明フィルム（ｂ）の上に複屈折層（ａ）が積層されており、かつ、前記数式（Ｉ）から（II）の全ての条件を満たすことを特徴とする。
また、本発明において、前記複屈折層（ａ）は、前記数式（Ｉ）を満たすことが必要である。本発明の光学フィルムの前記複屈折層（ａ）が、１＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）を満たせば、厚み方向における複屈折率が、フィルム面内の複屈折率よりも大きくなるため、例えば、液晶セルの光学補償に優れたものとなる。また、好ましくは、１＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦１００の範囲である。前記値が１００以下であれば、例えば、本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いた場合に、十分なコントラスト比を得ることができ、視野角特性がより一層優れるからである。さらに、前記（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値は、光学補償に優れることから、例えば、１＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦８０の範囲がより好ましく、さらに好ましくは、１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦５０である。また、垂直配向（ＶＡ）モードの液晶表示装置に使用する場合には、１≦（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）≦３０であることが特に好ましい。
なお、図１の概略図に、複屈折層（ａ）１０における屈折率（ｎｘ，ｎｙ，ｎｚ）の光軸方向を矢印で示す。屈折率ｎｘ，ｎｙ，ｎｚは、前述のように、それぞれＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、図示のように、前記Ｘ軸とは面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。

さらに、本発明において、複屈折層（ａ）は、数式（II）の条件を満たすことが必要である。Δｎ（ａ）が、０．０００５未満であれば、光学フィルムが厚型化し、０．５を超えると、光学フィルムの位相差制御が困難になるからである。屈折率Δｎ（ａ）は、より好ましくは０．００５≦Δｎ（ａ）≦０．２であり、特に好ましくは０．０２≦Δｎ（ａ）≦０．１５である。

本発明において、複屈折層（ａ）の厚みは、特に限定されないが、液晶表示装置の薄型化を図り、また、視角補償機能に優れ、かつ位相差が均一な光学フィルムを提供できることから、０．１〜５０μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜３０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍである。一方、透明フィルム（ｂ）の厚みは、使用目的等に応じて適宜決定できるが、例えば、強度や薄層化等の点から、５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１０〜２００μｍ、さらに好ましくは１５〜１５０μｍの範囲である。

複屈折層（ａ）は、例えば、透明フィルム（ｂ）の片面または両面に積層されてもよく、その積層数は、１層でもよいし、２層以上でもよい。また、透明フィルム（ｂ）は、例えば、単層体でもよく、２層以上の積層体でもよい。透明フィルム（ｂ）が積層体の場合、例えば、強度、耐熱性、複屈折層の密着性の向上等、その目的に応じて、同種ポリマー層から構成されてもよいし、異種ポリマー層の積層体であってもよい。

複屈折層（ａ）の形成材料としては、最終的に、本発明の前記各条件を満たすものであれば特に制限されない。

形成材料としては、例えば、非液晶性材料、特に非液晶性ポリマーであることが好ましい。このような非液晶性材料は、例えば、液晶性材料とは異なり、基板の配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＞ｎｚ、ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示す膜を形成する。このため、例えば、使用する基板としては、配向基板に限定されることもなく、例えば、未配向基板であっても、その表面に配向膜を塗布する工程や配向膜を積層する工程等を省略することができる。

非液晶性ポリマーとしては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。

ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば、質量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１，０００，０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲である。

ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００-５１１２９６号公報に開示された、９，９-ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記一般式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。

一般式（１）

一般式（１）中、Ｒ³〜Ｒ⁶は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基（ここで、「Ｃ１〜１０アルキル基」は、「炭素数１から１０のアルキル基」を意味する。以後同様である。）で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ³〜Ｒ⁶は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ１〜１０アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ１〜１０アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基である。

前記一般式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ６〜２０の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記一般式（２）で表される基である。

一般式（２）

一般式（２）中、Ｚ’は、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ⁷）₂基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（Ｃ₂Ｈ₅）₂基、または、ＮＲ⁸基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ⁹）₃である。Ｒ⁸は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ６〜２０アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ⁹は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。

多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基が挙げられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ１〜１０のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基が挙げられる。

この他にも、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等が挙げられる。なお、下記一般式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。

一般式（３）

一般式（４）

一般式（５）

一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ’は、例えば、共有結合、ＣＨ₂基、Ｃ（ＣＨ₃）₂基、Ｃ（ＣＦ₃）₂基、Ｃ（ＣＸ₃）₂基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（ＣＨ₂ＣＨ₃）₂基、および、Ｎ（ＣＨ₃）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。

一般式（３）および一般式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１〜３アルキル基、およびＣ１〜３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。

一般式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基が挙げられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基が挙げられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。

一般式（４）中、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

一般式（５）中、Ｍ¹およびＭ²は、同一であるかまたは異なり、例えばハロゲン、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１〜３アルキル基、およびＣ１〜３ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基が挙げられる。

前記一般式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等が挙げられる。

さらに、ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーが挙げられる。
酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２’-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸二無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等が挙げられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。前記２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、４，４’−オキシジフタル酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物（３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物）、４，４’−［４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）］ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等が挙げられる。

これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス（トリハロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンが挙げられる。

ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等が挙げられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等が挙げられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等が挙げられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。

また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−（９−フルオレニリデン）−ジアニリン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，５，５’−テトラクロロベンジジン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。

複屈折層（ａ）の形成材料である前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載され、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンが挙げられる。

一般式（７）

一般式（７）中、Ｘは置換基を表し、ｑはその置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物が挙げられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ１〜６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ１〜４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物が挙げられる。

前記一般式（７）中、ｑは、０から４までの整数である。前記一般式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
また、一般式（７）中、Ｒ¹は、下記式（８）で表される基であり、ｍは０または１の整数である。

式（８）

式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記一般式（７）におけるＸと同様である。式（８）において、Ｘ’が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ’は、Ｘ’の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ’＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。
式（８）中、Ｒ²は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等が挙げられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ²としては、下記式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。

式（７）中、前記Ｒ¹としては、下記式（１６）で表される基が好ましく、下記式（１６）において、Ｒ²およびｐは前記式（８）と同義である。

式（１６）

さらに、前記式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
さらに、前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（１７）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは前記式（７）と同様の重合度を表す。

一般式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１８）〜（２１）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、一般式（７）と同様の重合度を表す。

また、これらの他に、前記複屈折層（ａ）の形成材料である前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。

一般式（２２）

一般式（２２）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ２アルキレン基、ハロゲン化Ｃ２アルキレン基、ＣＨ₂基、Ｃ（ＣＸ₃）₂基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（Ｒ）₂基、および、Ｎ（Ｒ）基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ１〜３アルキル基およびＣ１−３ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。
また、一般式（２２）中、ＡおよびＡ’は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。
前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ１〜９アルコキシカルボニル基、Ｃ１〜９アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ１〜１２アリールオキシカルボニル基、Ｃ１〜１２アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ１〜１２アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ１〜１２アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記Ａ’は、例えば、ハロゲン、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせが挙げられる。ｔは０から４までの整数であり、ｚは０から３までの整数である。
前記一般式（２２）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２３）で表されるものが好ましい。

一般式（２３）

前記一般式（２３）中、Ａ、Ａ’およびＹは、前記一般式（２２）で定義したものであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。

つぎに、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。本発明の光学フィルムは、前記条件（Ｉ）及び（II）の条件を満たすものであれば、その製造方法は特に制限されないが、例えば、以下に示す第１の製造方法および第２の製造方法が挙げられる。
第１の製造方法は、面内において一方向に収縮性を示す透明基板上に、直接、複屈折層の形成材料を塗工して塗工膜を形成し、透明基板の収縮に伴い塗工膜を収縮させる方法である。このような方法によって、収縮した透明基板は透明フィルム（ｂ）となり、収縮した塗工膜は複屈折層（ａ）となって、透明フィルム（ｂ）上に、複屈折層（ａ）が直接固定化された本発明の光学フィルムが得られる。このように、透明フィルム（ｂ）上に、複屈折層（ａ）が直接積層され、かつ条件（Ｉ）及び（II）を全て満たす本発明の光学フィルムは、例えば、従来のように透明フィルム上の複屈折層を他の基板に転写してから使用する必要がなく、そのまま視覚補償フィルム等として使用することができる。なお、基板の収縮性は、例えば、基板に予め加熱処理を施すこと等によって付与することができる。

この方法によれば、まず、ポリイミドのような非液晶ポリマーは、その性質上、透明基板の配向の有無に関わらず、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの光学特性を示すため、ポリマーから形成された塗工膜は、光学的一軸性を示す。つまり、厚み方向にのみ位相差を示す。そして、透明基板の収縮性によって、透明基板上の塗工膜も共に面方向において収縮するため、塗工膜は、さらに面内において屈折差が生じ、光学的二軸性（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）を示すようになるのである。

このように、非液晶ポリマーは光学的一軸性を示す性質を有することから、基板の配向性を利用する必要がない。このため、透明基板としては、配向性基板、非配向性基板の両方が使用できる。また、例えば、複屈折による位相差を生じるものでもよいし、複屈折による位相差を生じないものでもよい。複屈折による位相差を生じる透明基板としては、例えば、延伸フィルム等があげられ、厚み方向の屈折率が制御されたもの等も使用できる。 屈折率の制御は、例えば、ポリマーフィルムを熱収縮性フィルムと接着し、さらに加熱延伸する方法等によって行うことができる。

透明基板は、面内において一方向に収縮性を持たせるため、例えば、面内のいずれか一方向に延伸しておくことが好ましい。このように、予め延伸しておくことによって、延伸方向と反対方向に収縮力が発生する。この透明基板の面内の収縮差を利用して、塗工膜の非液晶材料に面内の屈折率差を付与するのである。具体的な条件を以下に示す。

延伸前の透明基板の厚みは、特に制限されないが、例えば、１０〜２００μｍの範囲であり、好ましくは２０〜１５０μｍの範囲であり、特に好ましくは３０〜１００μｍの範囲である。そして、延伸倍率に関しては、延伸後の透明基板上に形成される複屈折層が光学的二軸性（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）を示す範囲であれば特に限定されない。

透明基板上に、複屈折層の形成材料を塗工する方法としては、特に限定されないが、例えば、前述のような非液晶性ポリマーを加熱溶融して塗工する方法や、非液晶ポリマーを溶媒に溶解させたポリマー溶液を塗工する方法等が挙げられる。その中でも、作業性に優れることから、ポリマー溶液を塗工する方法が好ましい。

ポリマー溶液におけるポリマー濃度は特に制限されないが、例えば、塗工が容易な粘度となることから、溶媒１００質量部に対して、例えば、非液晶性ポリマー５〜５０質量部であることが好ましく、より好ましくは１０〜４０質量部である。

ポリマー溶液の溶媒としては、非液晶性ポリマー等の形成材料を溶解できれば特に制限されず、形成材料の種類に応じて適宜決定できる。具体例としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、バラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等が挙げられる。これらの溶媒は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。

ポリマー溶液は、例えば、必要に応じて、さらに、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤を配合してもよい。
また、ポリマー溶液は、例えば、形成材料の配向性等が著しく低下しない範囲で、異なる他の樹脂を含有してもよい。他の樹脂としては、例えば、各種汎用樹脂、エンジニアリングプラスチック、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等が挙げられる。

汎用樹脂としては、例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳ樹脂、およびＡＳ樹脂等が挙げられる。エンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリアセテート（ＰＯＭ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド（ＰＡ：ナイロン）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等が挙げられる。 熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリシクロヘキサンジメタノールテレフタレート（ＰＣＴ）、ポリアリレート（ＰＡＲ）、および液晶ポリマー（ＬＣＰ）等が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂等が挙げられる。

このように、他の樹脂等を前記ポリマー溶液に配合する場合、その配合量は、例えば、ポリマー材料に対して、例えば、０〜５０質量％であり、好ましくは、０〜３０質量％である。

ポリマー溶液の塗工方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。また、塗工に際しては、必要に応じて、ポリマー層の重畳方式も採用できる。

そして、透明基板上の塗工膜に、加熱処理を施すことによって、透明基板を収縮させる。この透明基板の収縮に伴って、塗工膜が収縮することによって、複屈折層（ａ）が形成されるのである。加熱処理の条件としては、特に制限されず、例えば、透明基板の材料の種類等によって適宜決定できるが、例えば、加熱温度は、２５〜３００℃の範囲であり、好ましくは５０〜２００℃の範囲であり、特に好ましくは６０〜１８０℃の範囲である。

加熱処理後において、複屈折層（ａ）中に残存するポリマー溶液の溶媒は、その量に比例して光学フィルムの光学特性を経時的に変化させるおそれがあるため、その残存量は、例えば、５％以下が好ましく、より好ましくは２％以下であり、さらに好ましくは０．２％以下である。

一方、第２の製造方法は、透明基板上に、直接、複屈折層の形成材料を塗工して塗工膜を形成し、透明基板と塗工膜とを共に延伸する方法である。このような方法によって、延伸した透明基板は透明フィルム（ｂ）となり、同様に延伸した塗工膜は複屈折層（ａ）となって、透明フィルム（ｂ）上に複屈折層（ａ）が直接固定化された本発明の光学フィルムが得られる。この光学フィルムも、第１の製造方法によって得られる光学フィルムと同様の効果が得られる。なお、この製造方法において、複屈折層（ａ）の形成材料の塗工は、前記第１の製造方法と同様にして行うことができる。

この方法によれば、第１の製造方法と同様に、ポリイミドのような非液晶ポリマーは、その性質上、透明基板の配向の有無に関わらず、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの光学特性を示すため、ポリマーから形成された塗工膜は、光学的一軸性を示す。そして、透明基板と塗工膜との積層体を面内の一方向に共に延伸することによって、塗工膜はさらに面内において屈折差を生じ、光学的二軸性（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）を示すようになるのである。

透明基板と塗工膜との積層体の延伸方法は、特に制限されないが、例えば長手方向に一軸延伸する自由端縦延伸、フィルムの長手方向を固定した状態で、幅方向に一軸延伸する固定端横延伸、長手方向および幅方向の両方に延伸を行う逐次または同時二軸延伸等の方法が挙げられる。

そして、積層体の延伸は、例えば透明基板と塗工膜との両方を共に引っ張ることによって行ってもよいが、以下の理由から透明基板のみを延伸することが好ましい。透明基板のみを延伸した場合、この延伸により透明基板に発生する張力によって、透明基板上の塗工膜が間接的に延伸される。そして、積層体を延伸するよりも、単層体を延伸する方が、通常、均一な延伸となるため、前述のように透明基板のみを均一に延伸すれば、これに伴って、透明基板上の塗工膜も均一に延伸できるためである。

延伸の条件としては、特に制限されず、例えば、透明基板や複屈折層の形成材料の種類等に応じて適宜決定できる。具体例としては、延伸倍率は、１倍より大きく５倍以下が好ましく、より好ましくは、１倍より大きく４倍以下であり、特に好ましくは１倍より大きく３倍以下である。

この第２の製造方法によって光学フィルムを製造する場合においても、例えば、透明基板の形成材料と複屈折層（ａ）の形成材料とを、前述のように選択すること等によって、条件（Ｉ）を満たすことができる。

第１および第２の製造方法以外にも、本発明の光学フィルムを製造する方法としては、例えば、面内の一方向に応力を加えた透明基板上で、複屈折層（ａ）の形成材料を薄層化する方法がある。

また、この他にも、例えば、一方向から風等を吹き付けて、透明フィルム（ｂ）上で形成材料を薄層化する方法、異方性を持たせた透明フィルム（ｂ）上に形成材料を塗工する方法等がある。

光学フィルムの特性は以下の方法で評価した。
（位相差値Δｎｄ、配向軸精度の測定）
位相差計（王子計測機器社製、商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ）を用いて測定した。

（屈折率の測定）
王子計測機器社製の商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて、５９０ｎｍにおける屈折率を測定した。

（膜厚測定）
アンリツ製商品名デジタルマイクロメーターＫ−３５１Ｃ型を使用して測定した。

［光学フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性］
本発明の光学フィルムは面内のレターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデーションＲｔｈはともに湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、２５℃１０％ＲＨにおけるＲe値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲe値の差ΔＲe（＝Ｒe１０％ＲＨ−Ｒe８０％ＲＨ）が０〜２０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜１５ｎｍであり、さらに好ましくは０〜１０ｎｍである。
また、Ｒｔｈ値の差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）が０〜５０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３０ｎｍである。
これは、使用するセルロースアシレートフィルムの湿度依存性を良化させることで達成できる。
さらに、光学フィルムを液晶表示装置に使用する場合、長期間使用することの強制評価として、湿熱サーモを行うことが多いが、これまではサーモ取り出し後にパネル画面内に不均一なムラが発生することが多かった。ところが、本発明の、面内のレターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデーションＲｔｈの湿度による変化が小さい光学フィルムを使用すると、サーモ取り出し後にもムラが発生しないことがわかった。これはサーモ中、および前後での湿度変化があっても、光学フィルムのRe、Rthの変化が少ないためであると考えられる。

（Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散測定）
セルロースアシレートフィルムの場合と同様、Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散を測定した。
｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５
であることが好ましく、
さらには｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦８かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３０
であることが好ましい。
［式中、Ｒｅ₍λ₎は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ₍λ₎は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
これは、使用するセルロースアシレートフィルムの波長分散性を制御することで達成できる。
前述のように、光学フィルムを使用したパネルを湿熱サーモすると、これまではサーモ取り出し後でパネル画面の色味が変化している場合があった。ところが、本発明の、波長分散が制御された光学フィルムを用いると、サーモ取り出し後でも色味変化が起こらなくなった。

［光学フィルムのレターデーションの面内ばらつき］
本発明の光学フィルムは次の式を満たすことが好ましい。
｜Ｒｅ_(MAX)−Ｒｅ_(MIN)｜≦３、かつ｜Ｒｔｈ_(MAX)−Ｒｔｈ_(MIN)｜≦５
さらに好ましくは、
｜Ｒｅ_(MAX)−Ｒｅ_(MIN)｜≦２、かつ｜Ｒｔｈ_(MAX)−Ｒｔｈ_(MIN)｜≦４
であることが好ましい。
［式中、Ｒｅ_(MAX)、Ｒｔｈ_(MAX)−は任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値、Ｒｅ_(MIN)、Ｒｔｈ_(MIN)は最小値である。］
これも、使用するセルロースアシレートフィルムのレターデーションの面内ばらつきを小さくすることで達成できる。

本発明の光学フィルムは、さらに、接着剤層および粘着剤層の少なくとも一方を有することが好ましい。これによって、本発明の光学フィルムと、他の光学層や液晶セル等の他部材との接着が容易になるとともに、本発明の光学フィルムの剥離を防止することができるからである。したがって、接着剤層や粘着剤層は、光学フィルムの最外層に積層されることが好ましく、また、光学フィルムの一方の最外層でもよいし、両方の最外層に積層されてもよい。

接着層の材料としては、特に制限されないが、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製感圧接着剤や、ゴム系感圧接着剤等が使用できる。また、これらの材料に、微粒子を含有させて光拡散性を示す層としてもよい。これらの中でも、例えば、吸湿性や耐熱性に優れる材料が好ましい。このような性質であれば、例えば、液晶表示装置に使用した場合に、吸湿による発泡や剥離、熱膨張差等による光学特性の低下や、液晶セルの反り等を防止でき、高品質で耐久性にも優れる表示装置となる。

本発明の光学フィルムは、前述のように、単独で使用してもよいし、必要に応じて他の光学部材と組合せて積層体として、各種光学用途に供することができる。具体的には、光学補償用部材として、特に視覚補償部材として有用である。他の光学部材としては、特に制限されないが、例えば、以下に示す偏光子等が挙げられる。

本発明の偏光板は、光学フィルムと偏光子とを含む積層偏光板であって、光学フィルムが、本発明の光学フィルムであることを特徴する。
このような偏光板の構成は、本発明の光学フィルムを有していれば、特に制限されないが、例えば、図２または図３に示すようなものが例示できる。図２および図３は、それぞれ本発明の積層偏光板の例を示す断面図であり、両図において同一部分には同一符号を付している。なお、本発明の偏光板は、以下の構成に限定されるものではなく、さらに他の光学部材等を含んでいてもよい。

図２に示す積層偏光板２０は、本発明の光学フィルム１、偏光子２および二つの透明保護層３を有し、偏光子２の両面に透明保護層３がそれぞれ積層されており、一方の透明保護層３にさらに光学フィルム１が積層されている。なお、光学フィルム１は、前述のように複屈折層（ａ）と透明フィルム（ｂ）との積層体であるため、いずれの表面が透明保護層３に面してもよい。

なお、透明保護層は、同図に示すように偏光子の両側に積層してもよいし、いずれか一方の面のみに積層してもよい。また、両面に積層する場合には、例えば、同じ種類の透明保護層を使用しても良いし、異なる種類の透明保護層を使用しても良い。

一方、図３に示す積層偏光板３０は、本発明の光学フィルム１、偏光子２および透明保護層３を有し、偏光子２の両面に光学フィルム１および透明保護層３がそれぞれ積層されている。
そして、光学フィルム１は、前述のように複屈折層（ａ）と透明フィルム（ｂ）との積層体であるため、いずれの表面が偏光子に面してもよいが、例えば、以下のような理由から、光学フィルム１の透明フィルム（ｂ）側が偏光子２に面するように配置することが好ましい。このような構成であれば、光学フィルム１の透明フィルム（ｂ）を、積層偏光板における透明保護層として兼用できるからである。すなわち、偏光子の両面に透明保護層を積層する代わりに、偏光子の一方の面には透明保護層を積層し、他方の面には、透明フィルムが面するように光学フィルムを積層することによって、透明フィルムが偏光子の他方の透明保護層の役割も果たすのである。このため、より一層薄型化された偏光板を得ることができる。

偏光子としては、特に制限されず、例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。
二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、好ましくはＰＶＡ系フィルムである。 また、偏光フィルムの厚みは、通常、１〜８０μｍの範囲であるが、これには限定されない。

保護層としては、特に制限されず、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような透明保護層の材質の具体例としては、トリアセチルセルロール等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この中でも、偏光特性や耐久性の点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。

また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムが挙げられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有す熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチレンマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。なお、ポリマーフィルムは、例えば、樹脂組成物の押出成形物であってもよい。

本発明においては、偏光板保護層の少なくとも一方が、本発明のセルロースアシレートであることが好ましい。
また、保護層は、例えば、色付きが無いことが好ましい。具体的には、下記式で表されるフィルム厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が、−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍであり、特に好ましくは−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍの範囲である。位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であれば、十分に保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）を解消できる。なお、下記式において、ｎｘ，ｎｙ，ｎｚは、前述と同様であり、ｄは、その膜厚を示す。
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］・ｄ

また、透明保護層は、さらに光学補償機能を有するものでもよい。このように光学補償機能を有する透明保護層としては、例えば、液晶セルにおける位相差に基づく視認角の変化が原因である、着色等の防止や、良視認の視野角の拡大等を目的とした公知のものが使用できる。具体的には、例えば、前述した透明樹脂を一軸延伸または二軸延伸した各種延伸フィルムや、液晶ポリマー等の配向フィルム、透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を配置した積層体等が挙げられる。これらの中でも、良視認の広い視野角を達成できることから、液晶ポリマーの配向フィルムが好ましく、特に、ディスコティック系やネマチック系の液晶ポリマーの傾斜配向層から構成される光学補償層を、前述のトリアセチルセルロースフィルム等で支持した光学補償位相差板が好ましい。このような光学補償位相差板としては、例えば、富士写真フィルム（株）製「ＷＶフィルム」等の市販品が挙げられる。なお、光学補償位相差板は、位相差フィルムやトリアセチルセルロースフィルム等のフィルム支持体を２層以上積層させることによって、位相差等の光学特性を制御したもの等でもよい。

透明保護層の厚みは、特に制限されず、例えば、位相差や保護強度等に応じて適宜決定できるが、通常、５００μｍ以下であり、好ましくは５〜３００μｍ、より好ましくは５〜１５０μｍの範囲である。

透明保護層は、例えば、偏光フィルムに各種透明樹脂を塗布する方法、偏光フィルムに透明樹脂製フィルムや光学補償位相差板等を積層する方法等の従来公知の方法によって適宜形成でき、また市販品を使用することもできる。
また、透明保護層は、さらに、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等が施されたものでもよい。ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、透明保護層の表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、処理は従来公知の方法によって行うことができる。スティッキングの防止は、隣接する層との密着防止を目的とする。反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行うことができる。

アンチグレア処理とは、偏光板表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止すること等を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、透明保護層の表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。このような凹凸構造の形成方法としては、例えば、サンドブラスト法やエンボス加工等による粗面化方式や、前述のような透明樹脂に透明微粒子を配合して透明保護層を形成する方式等が挙げられる。

透明微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等があげられ、この他にも導電性を有する無機系微粒子や、架橋または未架橋のポリマー粒状物等から構成される有機系微粒子等を使用することもできる。透明微粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．５〜２０μｍの範囲である。また、透明微粒子の配合割合は、特に制限されないが、一般に、前述のような透明樹脂１００質量部あたり２〜７０質量部の範囲が好ましく、より好ましくは５〜５０質量部の範囲である。

透明微粒子を配合したアンチグレア層は、例えば、透明保護層そのものとして使用することもでき、また、透明保護層表面に塗工層等として形成されてもよい。さらに、アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視覚補償機能等）を兼ねるものであってもよい。

なお、反射防止層、スティッキング防止層、拡散層、アンチグレア層等は、透明保護層とは別個に、例えば、これらの層を設けたシート等から構成される光学層として、偏光板に積層してもよい。

各構成層同士（光学フィルム、偏光子、透明保護層等）の積層方法は、特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、前述と同様の粘着剤や接着剤等が使用でき、その種類は、各構成物の材質等によって適宜決定できる。接着剤としては、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等が挙げられる。また、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤等も使用できる。前述のような粘着剤、接着剤は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。具体的には、偏光子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、そのまま偏光子や透明保護層の表面に塗布してもよいし、接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を表面に配置してもよい。また、例えば、水溶液として調製した場合、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。なお、接着剤を塗布する場合は、例えば、接着剤水溶液に、さらに、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。このような接着層の厚みは、特に制限されないが、例えば、１ｎｍ〜５００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。特に限定されず、例えば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー等の接着剤等を使用した従来公知の方法が採用できる。また、湿度や熱等によっても剥がれにくく、光透過率や偏光度に優れる偏光板を形成できることから、さらに、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のＰＶＡ系ポリマーの水溶性架橋剤を含む接着剤が好ましい。これらの接着剤は、例えば、その水溶液を各構成物表面に塗工し、乾燥すること等によって使用できる。
水溶液には、例えば、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合できる。これらの中でも、接着剤としては、ＰＶＡフィルムとの接着性に優れる点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。

また、本発明の光学フィルムは、前述のような偏光子の他にも、例えば、各種位相差板、拡散制御フィルム、輝度向上フィルム等、従来公知の光学部材と組合せて使用することもできる。位相差板としては、例えば、ポリマーフィルムを一軸延伸または二軸延伸したもの、Ｚ軸配向処理したもの、液晶性高分子の塗工膜等が挙げられる。拡散制御フィルムとしては、例えば、拡散、散乱、屈折を利用したフィルムが挙げられ、これらは、例えば、視野角の制御や、解像度に関わるギラツキや散乱光の制御等に使用することができる。輝度向上フィルムとしては、例えば、コレステリック液晶の選択反射と１／４波長板（λ／４板）とを用いた輝度向上フィルムや、偏光方向による異方性散乱を利用した散乱フィルム等が使用できる。また、光学フィルムは、例えば、ワイヤーグリッド型偏光子と組合せることもできる。

本発明の積層偏光板は、実用に際して、本発明の光学フィルムの他に、さらに他の光学層を含んでもよい。光学層としては、例えば、以下に示すような偏光板、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム等、液晶表示装置等の形成に使用される、従来公知の各種光学層が挙げられる。これらの光学層は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよく、また、一層でもよいし、二層以上を積層してもよい。このような光学層をさらに含む積層偏光板は、例えば、光学補償機能を有する一体型偏光板として使用することが好ましく、例えば、液晶セル表面に配置する等、各種画像表示装置への使用に適している。

以下に、このような一体型偏光板について説明する。
まず、反射型偏光板または半透過反射型偏光板の一例について説明する。反射型偏光板は、本発明の積層偏光板にさらに反射板が、半透過反射型偏光板は、本発明の積層偏光板にさらに半透過反射板が、それぞれ積層されている。

反射型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）等に使用できる。このような反射型偏光板は、例えば、バックライト等の光源の内蔵を省略できるため、液晶表示装置の薄型化を可能にする等の利点を有する。

反射型偏光板は、例えば、弾性率を示す偏光板の片面に、金属等から構成される反射板を形成する方法等、従来公知の方法によって作製できる。具体的には、例えば、偏光板における透明保護層の片面（露出面）を、必要に応じてマット処理し、面に、アルミニウム等の反射性金属からなる金属箔や蒸着膜を反射板として形成した反射型偏光板等が挙げられる。

また、前述のように各種透明樹脂に微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護層の上に、その微細凹凸構造を反映させた反射板を形成した、反射型偏光板等も挙げられる。その表面が微細凹凸構造である反射板は、例えば、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制できるという利点を有する。このような反射板は、例えば、透明保護層の凹凸表面に、真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式等、従来公知の方法により、直接、金属箔や金属蒸着膜として形成することができる。

また、前述のように偏光板の透明保護層に反射板を直接形成する方式に代えて、反射板として、透明保護フィルムのような適当なフィルムに反射層を設けた反射シート等を使用してもよい。反射板における反射層は、通常、金属から構成されるため、例えば、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続や、透明保護層の別途形成を回避する点等から、その使用形態は、反射層の反射面がフィルムや偏光板等で被覆された状態であることが好ましい。

一方、半透過型偏光板は、反射型偏光板において、反射板に代えて、半透過型の反射板を有するものである。半透過型反射板としては、例えば、反射層で光を反射し、かつ、光を透過するハーフミラー等が挙げられる。

半透過型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射して画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置等に使用できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、一方、比較的暗い雰囲気下においても、内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置等の形成に有用である。

つぎに、本発明の積層偏光板に、さらに輝度向上フィルムが積層された偏光板の一例を説明する。
輝度向上フィルムとしては、特に限定されず、例えば、誘電体の多層薄膜や、屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体のような、所定偏光軸の直線偏光を透過して、他の光は反射する特性を示すもの等が使用できる。このような輝度向上フィルムとしては、例えば、３Ｍ社製の商品名「Ｄ−ＢＥＦ」等が挙げられる。また、コレステリック液晶層、特にコレステリック液晶ポリマーの配向フィルムや、その配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの等が使用できる。
これらは、左右一方の円偏光を反射して、他の光は透過する特性を示すものであり、例えば、日東電工社製の商品名「ＰＣＦ３５０」、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名「Ｔｒａｎｓｍａｘ」等が挙げられる。

以上のような本発明の各種偏光板は、例えば、本発明の積層偏光板と、さらに２層以上の光学層とを積層した光学部材であってもよい。
このように２層以上の光学層を積層した光学部材は、例えば、液晶表示装置等の製造過程において、順次別個に積層する方式によっても形成できるが、予め積層した光学部材として使用すれば、例えば、品質の安定性や組立作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上できるという利点がある。なお、積層には、前述と同様に、粘着層等の各種接着手段を用いることができる。

前述のような各種偏光板は、例えば、液晶セル等の他の部材への積層が容易になることから、さらに粘着剤層や接着剤層を有していることが好ましく、これらは、偏光板の片面または両面に配置することができる。粘着層の材料としては、特に制限されず、アクリル系ポリマー等の従来公知の材料が使用でき、特に、吸湿による発泡や剥離の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性等の点より、例えば、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層となることが好ましい。また、微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層等でもよい。偏光板表面への粘着剤層の形成は、例えば、各種粘着材料の溶液または溶融液を、流延や塗工等の展開方式により、偏光板の所定の面に直接添加して層を形成する方式や、同様にして後述するセパレータ上に粘着剤層を形成させて、それを偏光板の所定面に移着する方式等によって行うことができる。なお、このような層は、偏光板のいずれの表面に形成してもよく、例えば、偏光板における位相差板の露出面に形成してもよい。

このように偏光板に設けた粘着剤層等の表面が露出する場合は、粘着層を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的として、セパレータによって表面をカバーすることが好ましい。このセパレータは、透明保護フィルム等のような適当なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを一層以上設ける方法等によって形成できる。

粘着剤層等は、例えば、単層体でもよいし、積層体でもよい。積層体としては、例えば、異なる組成や異なる種類の単層を組合せた積層体を使用することもできる。また、偏光板の両面に配置する場合は、例えば、それぞれ同じ粘着剤層でもよいし、異なる組成や異なる種類の粘着剤層であってもよい。
粘着剤層の厚みは、例えば、偏光板の構成等に応じて適宜に決定でき、一般には、１〜５００μｍである。
粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等が挙げられる。
粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。

以上のような本発明の光学フィルムや偏光板、各種光学部材（光学層を積層した各種偏光板）を形成する偏光フィルム、透明保護層、光学層、粘着剤層等の各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で適宜処理することによって、紫外線吸収能を持たせたものでもよい。

本発明の光学フィルムや偏光板は、前述のように、液晶表示装置等の各種装置の形成に使用することが好ましく、例えば、本発明の光学フィルムや偏光板を液晶セルの片側または両側に配置して液晶パネルとし、反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。

液晶表示装置を形成する液晶セルの種類は、任意で選択でき、例えば、薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のもの等、種々のタイプの液晶セルが使用できる。これらの中でも、本発明の光学フィルムや偏光板は、特にＶＡ（垂直配向；Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｈｎｅｄ）セルの光学補償に非常に優れているので、ＶＡモードの液晶表示装置用の視角補償フィルムとして非常に有用である。

また、液晶セルは、通常、対向する液晶セル基板の間隙に液晶が注入された構造であって、液晶セル基板としては、特に制限されず、例えば、ガラス基板やプラスチック基板が使用できる。なお、プラスチック基板の材質としては、特に制限されず、従来公知の材料が挙げられる。

また、液晶セルの両面に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じ種類のものでもよいし、異なっていてもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適当な部品を、適当な位置に１層または２層以上配置することができる。

さらに、本発明の液晶表示装置は、液晶パネルを含み、液晶パネルとして、本発明の液晶パネルを使用する以外は、特に制限されない。光源を含む場合、特に制限されないが、例えば、光のエネルギーが有効に使用できることから、例えば、偏光を出射する平面光源であることが好ましい。

図４の断面図に、本発明の液晶パネルの一例を示す。図示のように、液晶パネル４０は、液晶セル２１、光学フィルム１、偏光子２および透明保護層３を有しており、液晶セル２１の一方の面に光学フィルム１が積層されており、光学の他方の面に、偏光子２および透明保護層が、この順序で積層されている。液晶セルは、二枚の液晶セル基板の間に、液晶が保持された構成となっている（図示せず）。また、光学フィルム１は、前述のように複屈折層（ａ）と透明フィルム（ｂ）の積層体であり、複屈折層側が液晶セルに面しており、透明フィルム側が偏光子２に面している。

本発明の液晶表示装置は、視認側の光学フィルム（偏光板）の上に、例えば、さらに拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層や保護板を配置したり、または液晶パネルにおける液晶セルと偏光板との間に補償用位相差板等を適宜配置することもできる。

なお、本発明の光学フィルムや偏光板は、前述のような液晶表示装置には限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、ＰＤＰ、ＦＥＤ等の自発光型表示装置にも使用できる。自発光型フラットディスプレイに使用する場合は、例えば、本発明の複屈折性光学フィルムの面内位相差値Δｎｄをλ／４にすることで、円偏光を得ることができるため、反射防止フィルターとして利用できる。

以下、実施例および比較例を用いて本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。

（セルロースアセテート溶液Ａ組成）
酢化度２．８６のセルロースアセテート １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部

（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記のマット剤溶液組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。

（マット剤溶液組成）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ｄ １０．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤については下記表４に示すものを用いた。

（添加剤溶液組成）
光学的異方性を低下する化合物 ４９．３質量部
波長分散調整剤 ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ １２．８質量部

（セルロースアセテートフィルム試料１の作製）
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．８％であった。残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルムを製造した。出来あがったセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は８０μｍであった。

（セルロースアセテートフィルム試料２〜１８の作製）
添加剤溶液中の光学的異方性を低下する化合物および波長分散調整剤の種類及び量を表１の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアセテートフィルム試料２〜１８を作製した。表１には試料１作製の溶液組成も記入した。これら試料の相対湿度１０％と相対湿度８０％での膜厚方向のレターデーションの差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）を測定したところ、本発明の光学的異方性低下剤を添加していない比較試料１５、１６および光学的異方性低下剤の代わりに可塑剤ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）を添加した比較試料１７、１８においてはΔＲｔｈが３０ｎｍ以下にならず光学的異方性の湿度依存性が大きかった。
一方、本発明の光学的異方性低下剤を含む試料２〜１４においてはΔＲｔｈが０〜３０ｎｍの範囲にあり、湿度依存性が低下していることを確認した。さらに、Ｒｅ、Ｒｔｈの幅方向の分布も小さく、光学ムラの少ないものであった。またこれら試料の２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率を測定したところ、比較試料１５以外においてはいずれも４％以下であり本発明の光学的異方性低下剤や波長分散調整剤の添加によりセルロースアシレートフィルムが疎水化されていることが確認できた。さらに、これら試料の６０℃、９５％ＲＨ、２４ｈｒの透湿度（８０μｍ換算）を測定したところ、比較試料１５以外においてはいずれも４００ｇ／ｍ²・２４ｈｒ以上２０００ｇ／ｍ²・２４ｈｒ以下であり、また比較試料１６、１７と比較して本発明の光学的異方性低下剤や波長分散調整剤を添加した試料１〜１４はいずれも透湿度が良化していることが確認できた。また、比較試料１８以外の試料ではいずれもフィルムの白濁はなく、十分に透明なフィルムが作成できたが、比較試料１８は添加化合物の総量がセルロースアシレートに対して４９％と高く、５〜４５％の範囲を超えており、この場合はフィルムが白濁して化合物が析出し（泣き出し）、透明性を持ったセルロースアシレートフィルムとしては評価できなかった。
また、試料１２と１３においては、８０℃、９０％ＲＨの条件に４８時間放置した際の質量変化を測定したところ、試料１２は−０.１２％、試料１３は−０.０２％であった。 波長分散調整剤としてベンゾトリアゾール系化合物であるＵＶ−２１、ＵＶ−２２、ＵＶ−２３を用いたが、分子量が３２０以下であるＵＶ−２３（分子量３１５．５）を含まない試料１２３の方が試料１２よりも保留性の点で有利であることが確認できた。

本発明の光学的異方性を低下する化合物を用いた試料１〜１４は、これらの化合物を用いていない比較試料１５、１６および一般的な可塑剤でＬｏｇＰが７．３と本発明想定外である、ビフェニル−ジフェニルフォスフェート（ＢＤＰ）を用いた比較試料１７に比較して、いずれもＲｅ（６３０）、Ｒｔｈ（６３０）ともに十分な低下が見られ、光学的にほぼ等方性に近づいている。また本発明の波長分散を調整する化合物を併用した試料は、比較試料に対していずれの試料も｜Ｒｅ（₄₀₀）−Ｒｅ（₇₀₀）｜、｜Ｒｔｈ（₄₀₀）−Ｒｔｈ（₇₀₀）｜ともに十分な低下が見られ、波長分散がゼロに近づいている。

（実施例２）
２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）と、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＢ）とから合成された下記式（６）で表される質量平均分子量（Ｍｗ）７０，０００のポリイミドを、シクロヘキサノンに溶解して、１５質量％のポリイミド溶液を調製した。なお、ポリイミドの調製等は、文献（Ｆ． Ｌｉ ｅｔ ａｌ． Ｐｏｌｙｍｅｒ４０ （１９９９） ４５７１−４５８３）の方法を参照した。一方、実施例１の、厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム１を、固定端横延伸によって１７５℃で１．３倍の横延伸して、厚み７５μｍの延伸ＴＡＣフィルムを作製した。そして、この延伸ＴＡＣフィルム上にポリイミド溶液を塗工し、これを１００℃で１０分間乾燥した。その結果、完全透明で平滑な、厚み７５μｍ、Δｎ（ｂ）約０．０００６の延伸ＴＡＣフィルム（透明フィルム（ｂ））の上に、厚み６μｍ、Δｎ（ａ）約０．０４のポリイミドフィルム（複屈折層（ａ））が積層された光学フィルムが得られた。この光学フィルムは、湿度依存性、波長分散性に優れ、光学性能の面内ばらつきが小さいものであった。また、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学特性を持つ複屈折層を有する光学フィルムであった。
また、フィルム１のかわりに実施例１のフィルム２乃至１４を用いた場合についても同様であった。

（実施例３）
下記式（１８）で表されるポリエーテルケトン（Ｍｗ：５００，０００）をメチルイソブチルケトンに溶解し、２０質量％のワニスを調製した。このワニスを、実施例２と同様の延伸ＴＡＣフィルム１上に塗工し、これを１００℃で１０分間乾燥した。その結果、完全透明で平滑な、厚み７５μｍ、Δｎ（ｂ）約０．０００６の延伸ＴＡＣフィルム（透明フィルム（ｂ））の上に、厚み１０μｍ、Δｎ（ａ）約０．０２のポリエーテルケトンフィルム（複屈折層（ａ））が積層された光学フィルムが得られた。この光学フィルムは、湿度依存性、波長分散性に優れ、光学性能の面内ばらつきが小さいものであった。また、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学特性を持つ複屈折層を有する光学フィルムであった。また、フィルム１のかわりに実施例１のフィルム２乃至１４を用いた場合についても同様であった。

式（１８）

（実施例４）
４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−２，２−ジフェニルプロパン二無水物と、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニルとから合成されたポリイミド（Ｍｗ：３０，０００）を、シクロペンタノンに溶解して、２０質量％ポリイミド溶液を調製した。この溶液を、実施例１の厚み８０μｍの未延伸ＴＡＣフィルム１上に塗布し、１３０℃で５分乾燥した後、１５０℃で縦一軸延伸により１０％の延伸を行った。その結果、完全透明で平滑な、厚み８０μｍ、Δｎ（ｂ）約０．０００６のＴＡＣフィルム（透明フィルム（ｂ））の上に、厚み５μｍ、Δｎ（ａ）約０．０２５のポリイミドフィルム（複屈折層（ａ））が積層された光学フィルムが得られた。この光学フィルムは、湿度依存性、波長分散性に優れ、光学性能の面内ばらつきが小さいものであった。また、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学特性を持つ複屈折層を有する光学フィルムであった。また、フィルム１のかわりに実施例１のフィルム２乃至１４を用いた場合についても同様であった。

（実施例５）
２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物と、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニルとから合成されたポリイミド（Ｍｗ：１００，０００）をシクロヘキサノンに溶解し、１５質量％ポリイミド溶液を調製した。この溶液を、実施例１の厚み８０μｍの未延伸ＴＡＣフィルム１上に塗布し、１３０℃で５分乾燥した後、１５０℃で縦一軸延伸により１０％の延伸を行った。その結果、完全透明で平滑な、厚み８０μｍ、Δｎ（ｂ）約０．０００６のＴＡＣフィルム（透明フィルム（ｂ））の上に、厚み６μｍ、Δｎ（ａ）約０．０４のポリイミドフィルム（複屈折層（ａ））が積層された光学フィルムが得られた。この光学フィルムは、湿度依存性、波長分散性に優れ、光学性能の面内ばらつきが小さいものであった。また、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学特性を持つ複屈折層を有する光学フィルムであった。また、フィルム１のかわりに実施例１のフィルム２乃至１４を用いた場合についても同様であった。

（実施例６）
実施例１と同様のポリイミドを、メチルイソブチルケトンに溶解して、２５質量％のポリイミド溶液を調製した。この溶液を、実施例１と同様の実施例１の延伸ＴＡＣフィルム１上に塗工し、１６０℃で５分間乾燥を行った。その結果、完全透明で平滑な、厚み７５μｍ、Δｎ（ｂ）約０．０００６の延伸ＴＡＣフィルム（透明フィルム（ｂ））の上に、厚み６μｍ、Δｎ（ａ）約０．０４のポリイミドフィルム（複屈折層（ａ））が積層された光学フィルムが得られた。この光学フィルムは、湿度依存性、波長分散性に優れ、光学性能の面内ばらつきが小さいものであった。また、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学特性を持つ複屈折層を有する光学フィルムであった。また、フィルム１のかわりに実施例１のフィルム２乃至１４を用いた場合についても同様であった。

（実施例７）
実施例１と同様のポリイミド溶液を、実施例１の厚み８０μｍの未延伸ＴＡＣフィルム１上に塗工し、１００℃で１０分間乾燥した。その結果、完全透明で平滑な、厚み８０μｍ、Δｎ（ｂ）約０．０００６のＴＡＣフィルム（透明フィルム（ｂ））の上に、厚み４μｍ、Δｎ（ａ）約０．０２５のポリイミドフィルム（複屈折層（ａ））が積層された光学フィルムが得られた。このフィルムは、湿度依存性、波長分散性に優れ、光学性能の面内ばらつきが小さいものであった。また、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚの光学特性を持つ複屈折層を有する光学フィルムであった。また、フイルム１のかわりに実施例１のフィルム２乃至１４を用いた場合についても同様であった。

（比較例１）
ＴＡＣフィルムを実施例１で作製した比較試料フィルム１５乃至１８にした以外は実施例２と同様にして、光学フィルムを作製した。
（比較例２）
ＴＡＣフィルムを実施例１で作製した比較試料フィルム１５乃至１８にした以外は実施例３と同様にして、光学フィルムを作製した。
（比較例３）
ＴＡＣフィルムを実施例１で作製した比較試料フィルム１５乃至１８にした以外は実施例４と同様にして、光学フィルムを作製した。
（比較例４）
ＴＡＣフィルムを実施例１で作製した比較試料フィルム１５乃至１８にした以外は実施例５と同様にして、光学フィルムを作製した。
（比較例５）
ＴＡＣフィルムを実施例１で作製した比較試料フィルム１５乃至１８にした以外は実施例６と同様にして、光学フィルムを作製した。
（比較例６）
ＴＡＣフィルムを実施例１で作製した比較試料フィルム１５乃至１８にした以外は実施例７と同様にして、光学フィルムを作製した。

表２に、作製した光学フィルムの性能を示す。（代表的な例として、フィルム１とフィルム１５を使用した場合についての値を示す）

表３に、作製した複屈折層（a）に関しての評価結果を示す。

（表示特性の評価）
そして、実施例１〜７および比較例１〜６で得られた光学フィルムを、市販の偏光板（日東電工（株）製、商品名「ＨＥＧ１４２５ＤＵ」）と、アクリル系粘着剤を介して積層し、光学補償層一体型の積層偏光板を作製した。なお、偏光板と、光学フィルムの透明フィルム（ｂ）基材とが面するように積層した。さらに、この積層偏光板を液晶セルのバックライト側に、偏光板が外側になるように接着して液晶表示装置を作製した。
そして、これらの液晶表示装置の表示特性を評価した。その結果、各実施例の光学フィルムを用いた場合、斜めから見た場合でも正面から見た場合と色味の差が小さいこと、また、画面内にムラが少ないことが示された。
（斜めから見た色味変化）
ほとんど正面と色味が同じ ：○
視認できるほど色味が異なる ：△
色味が異なり鑑賞しにくい ：×
（画面内のムラ）
３ｃｍ四方以下の薄いムラが１点以下ある ：○
３ｃｍ四方以下の薄いムラが１点以上３点以下ある ：△
３ｃｍ四方以上のムラが３点以上ある ：×
結果より、波長分散性に優れた実施例のフィルムを使用した液晶表示装置は斜めから見ても色味変化しないことが確認できた。また、Ｒｅ、Ｒｔｈの光学ムラの小さい実施例のフィルムを使用した液晶表示装置は、画面内のムラも少ないことが確認できた。さらに、実施例では、正面と斜視の広い視野角範囲において、コントラストと表示の均質性に優れるだけでなく、さらに虹ムラの発生も抑制された。各実施例の中でも、特に、条件（II）が１００以下である実施例１〜実施例６の光学フィルムの場合は、虹ムラの発生が十分に回避され、極めて優れた表示品位を示した。

また、作製した液晶表示装置を、２５℃１０％ＲＨ、２５℃８０％ＲＨの雰囲気下に２４時間放置後、表示性能を確認し、湿度によって表示性能に違いがあるかないかを確認した。
（表示性能の湿度依存性）
湿度による表示性能に差が感じられない ：○
表示性能に差があるが、気にならない ：△
表示性能に大きく差があり、非常に気になる ：×
湿度による、Ｒｅ、Ｒｔｈの性能に差が小さい実施例のフィルムを用いた液晶表示装置は、２５℃１０％ＲＨの雰囲気下と２５℃８０％ＲＨの雰囲気下での表示性能に差が小さく、比較例のフィルムを使用した場合より優れていることが確認できた。

また、作製した液晶表示装置を、６０℃９０％ＲＨの雰囲気下に１２０時間放置後、２５℃６０％ＲＨ雰囲気下に２４時間静置した後、表示性能を確認し、湿熱サーモによって表示性能が変質しないか確認した。
（湿熱サーモによる表示性能の変化）
湿熱サーモしても表示ムラ（光漏れ・色ムラ等）がない ：○
画面の一部に３ｃｍ四方以下の光漏れ・色ムラがある ：△
画面全体に３ｃｍ四方以上の光漏れ・色ムラがある ：×
湿度による、Ｒｅ、Ｒｔｈの性能に差が小さい実施例のフィルムを用いた液晶表示装置は、湿熱サーモしても表示ムラがなく、比較例のフィルムを使用した場合より優れていることが確認できた。

これらの結果を表４に示す。代表例として、実施例２乃至７はフィルム１を、比較例１乃至６はフィルム１５を使用した場合の結果を示す。フィルム２乃至１４を使用した場合も、フィルム１を使用した場合同様、表示性能に優れた液晶表示装置を作製できた。また、フィルム１６乃至１８を使用した場合は、フィルム１５同様、実施例に比較すると表示性能に劣るものであったが、波長分散性、湿度依存性に劣る、フィルム１５を使用した場合が、斜めからの色味変化、表示性能の湿度依存性、湿熱サーモ後の表示性能ともに実施例に劣るものであった。

以上のように、本発明のフィルムを用いて作製した光学フィルム、偏光板を使用すれば、斜めからの色味変化が少なく、画面上のムラが少なく、さらには表示性能の湿度依存性にも優れ、また、虹ムラの発生も抑制された表示品位に優れる薄型の液晶表示装置が実現できる。

本発明における光軸方向を示す斜視図である。 本発明の積層偏光板の一例の断面図である。 本発明の積層偏光板のその他の一例の断面図である。 本発明の液晶パネルの一例を示す断面図である。

符号の説明

１ 光学フィルム
２ 偏光子
３ 保護層
１０複屈折率層（ａ）
２０，３０積層偏光板
２１液晶セル
４０液晶パネル

Claims (22)

1. 透明フィルム（ｂ）の上に複屈折層（ａ）が積層された光学フィルムであって、かつ複屈折層（ａ）は下記数式（Ｉ）、（II）の条件を満たし、かつ２５℃１０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値及びＲｔｈレターデーション値と２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値及びＲｔｈレターデーション値の差異が、それぞれ２０ｎｍ以内、５０ｎｍ以内であることを特徴とする光学フィルム。
   数式（Ｉ）：１＜（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）
   数式（II）：０．０００５≦Δｎ（ａ）≦０．５
   （数式（II）において、Δｎ（ａ）は、下記数式で表される複屈折層（ａ）の複屈折率であり、数式（Ｉ）および下記数式において、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、それぞれ複屈折層（ａ）におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示す。ここで、Ｘ軸は複屈折層（ａ）の面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は前記面内において、Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸はＸ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。
   Δｎ（ａ）＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ）
2. Ｒｅ₍λ₎およびＲｔｈ₍λ₎が下記数式（Ｉ'）をみたすことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
   数式（Ｉ'）：｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０、かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５
   （式中、Ｒｅ₍λ₎は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ₍λ₎は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。）
3. Ｒｅ及びＲｔｈの面内ばらつきが下記数式（III）及び（IV）を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
   （III）：｜Ｒｅ_(MAX)−Ｒｅ_(MIN)｜≦３
   （IV） ：｜Ｒｔｈ_(MAX)−Ｒｔｈ_(MIN)｜≦５
   （式中、Ｒｅ_(MAX)、Ｒｔｈ_(MAX)は任意に切り出した１ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値、Ｒｅ_(MIN)、Ｒｔｈ_(MIN)は最小値である。）
4. 積層体を構成する透明フィルム（ｂ）のＲｅ₍λ₎及びＲｔｈ₍λ₎が、下記数式（Ｖ）及び（ＶI）を満たすことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の光学フィルム。
   数式（Ｖ） ：０≦Ｒｅ₍₆₃₀₎≦１０、かつ｜Ｒｔｈ₍₆₃₀₎｜≦２５
   数式（ＶI） ：｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜≦１０、かつ｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜≦３５
   （式中、Ｒｅ₍λ₎は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ₍λ₎は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。）
5. セルロースアシレートフィルムが、フィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物を、下記数式（VII）及び（VIII）をみたす範囲で少なくとも一種含有することを特徴とする請求項４に記載の光学フィルム。
   数式（VII）：（Ｒｔｈ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−１．０
   数式（VIII） ：０．０１≦Ａ≦３０
   （ここで、Ｒｔｈ（Ａ）はＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ（０）はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表す。なお、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。）
6. セルロースアシレートフィルムが、アシル置換度が２.８５〜３．００のセルロースアシレートに、Ｒｅ₍λ₎およびＲｔｈ₍λ₎を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする請求項４に記載の光学フィルム。
7. セルロースアシレートフィルムが、フィルムの｜Ｒｅ₍₄₀₀）−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜および｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜を低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする請求項４に記載の光学フィルム。
8. セルロースアシレートフィルムが、フィルムの膜厚が１０〜１２０μｍであることを特徴とする請求項４に記載の光学フィルム。
9. 透明フィルム（ｂ）上に、直接、複屈折層（ａ）が積層されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の光学フィルム。
10. 複屈折層（ａ）を形成する材料が、非液晶性材料であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の光学フィルム。
11. 非液晶性材料が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一種のポリマー材料であることを特徴とする請求項１１に記載の光学フィルム。
12. 収縮性を有する透明フィルム（ｂ）上に、直接、複屈折層（ａ）の形成材料を塗工して塗工膜を形成し、透明フィルム（ｂ）の収縮に伴い前記塗工膜を収縮させることにより得られることを特徴とする請求項９乃至１１のいずれかに記載の光学フィルム。
13. 加熱により透明フィルム（ｂ）を収縮させることを特徴とする請求項１２に記載の光学フィルム。
14. 透明フィルム（ｂ）上に、直接、複屈折層（ａ）の形成材料を塗工して塗工膜を形成し、透明フィルム（ｂ）と塗工膜とを共に延伸することによって得られることを特徴とする請求項９乃至１３のいずれかに記載の光学フィルム。
15. さらに、接着剤層および粘着剤層の少なくとも一方を含む請求項９乃至１５のいずれかに記載の光学フィルム。
16. 最外層に、接着剤層および粘着剤層の少なくとも一方が積層された請求項９乃至１５のいずれかに記載の光学フィルム。
17. 請求項１乃至８のいずれかに記載のセルロースアシレートフィルム、又は請求項９乃至１６のいずれかに記載の光学フィルムを少なくとも１枚、偏光子の保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
18. 液晶セルおよび光学部材を含み、液晶セルの少なくとも一方の表面に光学部材が配置された液晶パネルであって、光学部材が、請求項１乃至１６のいずれかに記載の光学フィルムまたは請求項１７に記載の偏光板であることを特徴とする液晶パネル。
19. 液晶パネルを含む液晶表示装置であって、液晶パネルが請求項１８記載の液晶パネルであることを特徴とする液晶表示装置。
20. 請求項１〜１６に記載の光学フィルム及び請求項１７に記載の偏光板、のいずれかを有することを特徴とする液晶表示装置。
21. 請求項１〜１６のいずれかに記載の光学フィルム及び請求項１７に記載の偏光板、のいずれかを有することを特徴とするＶＡ液晶表示装置。
22. 液晶セルの上下両側に偏光板を有する請求項２１に記載のＶＡ液晶表示装置において、少なくとも片側の偏光板のセル側に請求項１〜１６のいずれかに記載の光学フィルムを有することを特徴とする液晶表示装置。

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