JP2006193764A - 高周波熱処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 高周波焼入れや高周波焼戻しに使用される高周波熱処理装置のワーク処理効率を向上させること。
【解決手段】 冷却槽１０の上方の略水平面内にワークＷの加熱位置Ｈ１，Ｈ２を複数設定する。一方の加熱位置Ｈ１に供給されたワークＷを誘導加熱コイル４１によって加熱し、当該ワークＷを昇降機構３０ａによって下降させて冷却槽１０内の冷却液に浸漬して冷却する。これと並行して、誘導加熱コイル４１を移動機構４２によって他方の加熱位置Ｈ２に移動させ、他方の加熱位置Ｈ２に供給されたワークＷの加熱を行なう。このように誘導加熱コイル４１の稼動率を上げることで、ワークＷの処理効率を向上させることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、ワークの高周波焼入れや高周波焼戻しに使用する高周波熱処理装置に関するものである。

高周波焼入れ及び高周波焼戻しはいずれも、鋼やジュラルミンなどの合金からなるワークの表面層を誘導加熱したのち冷却する熱処理である。高周波焼入れは、炭素を含有する鋼に施すとワーク内部の粘り強さを維持しつつワーク表面層が硬化する一方、ステンレス鋼や高マンガン鋼などに適用すると金属組織状態が安定化する。高周波焼戻しは、焼入れされたワークを再加熱して冷却することで、ワークの硬度を低下させて粘り強くする処理であるが、材料によってはより硬くなるものもある。

例えば自動車のリングギア等の鋼製歯車は、その歯面を硬くするための熱処理として焼入れが行なわれる。リングギアの焼入れに使用される従来の高周波熱処理装置としては、例えば図８に示すように、所定位置に配置された誘導加熱コイル５１と、誘導加熱コイル５１の上方に配設され、ピストン５２の下端部にワークＷを保持するチャック５３を設けたピストン・シリンダ機構５４と、誘導加熱コイル５１の下方に配置された冷却槽５５とを備えたものがある（例えば特許文献１参照）。

特開平６−０７３４５６号公報

従来の高周波熱処理装置は、チャック５３に保持されたワークＷをピストン・シリンダ機構５４によって誘導加熱コイル５１の内部まで下降させてワークＷの表面を加熱すると共に、誘導加熱コイル５１によって加熱されたワークＷをさらに下降させて冷却槽５５内に貯留された冷却液に浸漬して冷却する。冷却されたワークＷは、冷却槽５５内でチャック５３から解放され、冷却槽５５中に配設された２本の駆動チェーン５６によって冷却槽５５より外へ搬出される。ワークＷを解放したチャック５３は、ピストン・シリンダ機構５４によってワークＷの供給位置まで引上げられる。従来装置は、ワークＷの冷却中、誘導加熱コイル５１にピストン５２が挿入されているために、誘導加熱コイル５１を他のワークＷの加熱に使用することができず、ワークＷの処理効率が低いという問題がある。

本発明は、斯かる実情に鑑み創案されたものであって、その目的は、一のワークの冷却中に誘導加熱コイルを他のワークの加熱に使用できるように、高周波熱処理装置を改良することにある。

本発明に係る高周波熱処理装置は、上記目的を達成するため、ワークを加熱する誘導加熱コイルと、冷却液を貯留した冷却槽と、冷却槽上方の略水平面内に設定され、ワークが順番に繰り返し供給される複数の加熱位置間で、誘導加熱コイルを略水平移動させる移動機構と、各加熱位置と冷却槽内の各加熱位置に対応する冷却位置との間でワークを昇降させる複数の昇降機構とを備える。

冷却槽上方の略水平面内に設定された複数の加熱位置のいずれか一の加熱位置に供給されたワークは、誘導加熱コイルによって加熱される。前記一の加熱位置で加熱されたワークは、昇降機構によって冷却槽内の冷却液に浸漬して冷却される。これと同時に、前記誘導加熱コイルは、移動機構によって他の加熱位置に略水平移動され、前記他の加熱位置に供給されたワークの加熱に使用される。前記他の加熱位置でのワーク加熱中に、前記一の加熱位置で加熱されたワークの冷却を終えた場合は、当該ワークを本発明装置から排出し、次のワークを前記一の加熱位置へ供給できる状態にする。他方、前記他の加熱位置でのワーク加熱中に、前記一の加熱位置で加熱されたワークの冷却を終えない場合は、前記他の加熱位置で加熱されたワークを昇降機構によって冷却槽内の冷却液に浸漬するのと並行して、前記誘導加熱コイルを前記他の加熱位置とは別の加熱位置に略水平移動させ、当該別の加熱位置に供給されたワークを前記誘導加熱コイルによって加熱する。

本発明によれば、ひとつの誘導加熱コイルに対して複数の加熱位置を設定し、一の加熱位置で加熱されたワークを冷却するのと並行して、誘導加熱コイルを一の加熱位置から他の加熱位置へ移動させて他の加熱位置に供給されたワークの加熱に使用することで、誘導加熱コイルの稼動率を向上させ、ワークの処理効率を高めることができる。

以下、図面を参照しつつ本発明に係る高周波熱処理装置の一実施形態について説明する。

図１は本発明に係る高周波熱処理装置の一実施形態を示す概略平面図で、図２は図１のＸ−Ｘ矢視図である。各図において、符号１０は冷却槽で、その内部には冷却液が貯留される。冷却槽１０の上方の水平面上には、ワークＷを加熱するための第１の加熱位置Ｈ１と第２の加熱位置Ｈ２が設定される。冷却槽１０の冷却液中には、第１の加熱位置Ｈ１の真下に第１の冷却位置Ｃ１が設定され、第２の加熱位置Ｈ２の真下に第２の冷却位置Ｃ２が設定される。第１の加熱位置Ｈ１と第１の冷却位置Ｃ１の間、および、第２の加熱位置Ｈ２と第２の冷却位置Ｃ２の間には、ワークＷを冷却槽１０の上方に供給すると共に冷却槽１０の上方から排出するための第１の供給排出位置Ｍ１と第２の供給排出位置Ｍ２が設定される。

各図において、符号２０はワークＷの供給排出機構である。供給排出機構２０は、搬入レーン１から供給されたワークＷを供給排出位置Ｍ１，Ｍ２へ供給すると共に、焼入れされたワークＷを供給排出位置Ｍ１，Ｍ２から取り出して搬出レーン２へ排出するものである。この実施形態では、第１及び第２の供給排出位置Ｍ１，Ｍ２を通る直線軌道と平行に敷設されたガイドレール２１と、ガイドレール２１上を走行して搬入レーン１の終端部と搬出レーン２の始端部の間を往復移動する台車２２と、ワークＷを保持するチャック２３と、台車２２上に配設され、チャック２３を台車２２上から冷却槽１０の上方の第１及び第２の供給排出位置Ｍ１，Ｍ２へ向かって前進後退させるスライド機構２４とで構成してある。

なお、図１の実線で示す供給排出機構２０は、ガイドレール２１上の第１の供給排出位置Ｍ１に対向する位置で台車２２を停車させ、チャック２３を後端位置まで後退させて台車２２上に配置した状態を示している。同図の破線で示す供給排出機構２０は、ガイドレール２１上の第２の供給排出位置Ｍ２に対向する位置で台車２２を停車させ、チャック２３を前端位置まで前進させ第２の供給排出位置Ｍ２に配置した状態を示している。同図の一点鎖線で示す供給排出機構２０は、台車２１をガイドレール２１の図示上左端部に停車させ、チャック２３を搬入レーン１の終端部に配置すると共に、チャック２２を拡開させてワークＷを把持する状態を示している。同図の二点鎖線で示す供給排出機構２０は、台車２１をガイドレール２１の図示上右端部に停車させ、チャック２３を搬出レーン２の始端部に位置させると共に、チャック２２を拡開させてワークＷを解放する状態を示している。

図１において、符号３０ａは第１の昇降機構で、符号３０ｂは第２の昇降機構である。第１及び第２の昇降機構３０ａ，３０ｂは、第１及び第２の供給排出位置Ｍ１，Ｍ２で供給排出機構２０から受け取ったワークＷを昇降させ、第１及び第２の加熱位置Ｈ１，Ｈ２や第１及び第２の冷却位置Ｃ１，Ｃ２へ供給するものである。この実施形態では、冷却槽１０の両側に立設したピストン・シリンダ機構３１ａ，３１ｂと、ピストン・シリンダ機構３１ａ，３１ｂの上端部からワークＷの昇降軌道上へ延設したアーム３２ａ，３２ｂと、各アーム３２ａ，３２ｂの先端に回転自在に取付けられた回転テーブル３３ａ，３３ｂと、各アーム３２ａ，３２ｂの先端部に配設された回転テーブル３３ａ，３３ｂの駆動モータ３４ａ，３４ｂとで構成してある。ピストン・シリンダ機構３１ａ，３１ｂは、その上端部が冷却槽１０の側壁よりも上方で鉛直方向に進退移動する。各アーム３２ａ，３２ｂは、ピストン・シリンダ機構３１ａ，３１ｂの上端部よりも下方で回転テーブル３３ａ，３３ｂを支持する屈曲形状をなす。回転テーブル３３ａ，３３ｂは、冷却液中での昇降時に負荷される液圧を軽減する目的で複数の透孔３５ａ，３５ｂを設けてある。

なお、図２では、第１の昇降機構３０ａの回転テーブル３３ａを第１の供給排出位置Ｍ１よりも下方で待機させた状態を示している。第１及び第２の昇降機構３０ａ，３０ｂは、回転テーブル３３ａ，３３ｂを第１及び第２の供給排出位置Ｍ１，Ｍ２よりも下方で待機させ、供給排出機構２０によって第１及び第２の供給排出位置Ｍ１，Ｍ２にワークＷが供給されると、回転テーブル３３ａ，３３ｂを上昇させてチャック２３からワークＷを受け取る。さらに、回転テーブル３３ａ，３３ｂを第１及び第２の加熱位置Ｈ１，Ｈ２まで一旦上昇させてから第１及び第２の冷却位置Ｃ１，Ｃ２まで下降させ、第１及び第２の供給排出位置Ｍ１，Ｍ２まで再度上昇してチャック２３にワークＷを掴ませてから下降し、第１及び第２の供給排出位置Ｍ１，Ｍ２より下方で次のワークＷが第１及び第２の供給排出位置Ｍ１，Ｍ２に供給されるまで待機する。

各図において、符号４０は高周波誘導加熱装置である。高周波誘導加熱装置４０は、ワークＷを加熱する誘導加熱コイル４１と、誘導加熱コイル４１を水平移動させる移動機構４２と、誘導加熱コイル４１の電源部となる高周波発振器４３とで構成される。移動機構４２は、第１及び第２の加熱位置Ｈ１，Ｈ２を通る直線軌道と平行に敷設されたリニアガイドレール４４と、リニアガイドレール４４上を進退移動する移動ベース４５とを備え、移動ベース４５から冷却槽１０の上方の直線軌道上へ延在させた誘導加熱コイル４１を直線軌道に沿って進退移動させる。なお、移動ベース４５には、図示外の高周波変流器を組込んである。また、移動ベース４５は手動式又は自動式のいずれであっても構わない。

図３は、上記の高周波熱処理装置の動作の一例を時系列で示しており、以下、図３に基づいてワークＷの熱処理について説明する。なお、図３では、上段に第１の昇降機構３０ａ側での熱処理の工程Ｉ₁₁，Ｈ₁₁，…を、中段に第２の昇降機構３０ｂ側での熱処理の工程Ｉ₂₁，Ｈ₂₁，…を、下段に誘導加熱コイル４１の稼動期間を示している。

図３の上段の工程Ｉ₁₁はワークＷの供給工程で、搬入レーン１から搬送されてきたワークＷを供給排出機構２０及び第１の昇降機構３０ａによって第１の加熱位置Ｈ１に待機している誘導加熱コイル４１へ供給する。供給排出機構２０は、チャック２３を後端位置まで後退させると共に拡開させた状態で、台車２２を図１に示すガイドレール２１の図示上左端位置に停車させ、搬入レーン１から搬送されてきたワークＷをチャック２３によって把持する。さらに、台車２２を図１に示すガイドレール２１の図示上左端位置から図１の実線で示す位置に移動して、スライド機構２４によってチャック２３を前進させて、第１の供給排出位置Ｍ１にワークＷを供給する。第１の供給排出位置Ｍ１に供給されたワークＷは、第１の供給排出位置Ｍ１よりも下方の待機位置から上昇してきた回転テーブル３３ａが第１の供給排出位置Ｍ１に到達したときにチャック２３から解放され、回転テーブル３３ａ上に載置される。回転テーブル３３ａ上に載置されたワークＷは、回転テーブル３３ａが上昇して、第１の加熱位置Ｈ１に待機している誘導加熱コイル４１の内部に供給される。供給排出機構２０は、供給排出位置Ｍ１にてワークＷを解放したのち、拡開したチャック２３を後端位置まで後退させて、台車２２を図１に示すガイドレール２１の図示上左端位置まで移動させる。

図３の上段の工程Ｈ₁₁はワークＷの加熱工程で、第１の加熱位置Ｈ１にてワークＷの誘導加熱を行なう。第１の昇降機構３０ａは、回転テーブル３３ａを回転させながら、ワークＷを第１の加熱位置Ｈ１に維持する。高周波誘導加熱装置４０は、高周波発振器４３を作動させて誘導加熱コイル４１内のワークＷの誘導加熱を所定期間（例えば８秒間程度）行なう。なお、一行程目以降の加熱工程Ｈ₁₂，Ｈ₁₃では、一行程目の加熱工程Ｈ₁₁と同様の動作が行なわれる。

図３の上段の工程Ｔ₁₁は誘導加熱コイル４１の移動工程で、第１の昇降機構３０ａが回転テーブル３３ａを下降させて、ワークＷが誘導加熱コイル４１の下方へ出るのと同時に、移動機構４２によって誘導加熱コイル４１を第１の加熱位置Ｈ１から第２の加熱位置Ｈ２へ直線移動させる。一方、第１の昇降機構３０ａは、回転テーブル３３ａを第１の加熱位置Ｈ１から第１の冷却位置Ｃ１まで下降させて、ワークＷを冷却液に浸漬する。なお、一行程目以降の移動工程Ｔ₁₂では、一行程目の移動工程Ｔ₁₁と同様の動作が行なわれる。

図３の上段の工程Ｃ₁₁はワークＷの冷却工程で、第１の昇降機構３０ａが、ワークＷを冷却位置Ｃ１に維持した状態で所定期間（例えば１３秒間程度）待機し、冷却液に浸漬されたワークＷを冷却する。第１の昇降機構３０ａは、ワークＷの冷却を所定期間行なったのち、回転テーブル３３ａを上昇させて、ワークＷを第１の供給排出位置Ｍ１に戻す。なお、一行程目以降の冷却工程Ｃ₁₂では、一行程目の冷却工程Ｃ₁₁と同様の動作が行なわれる。

一方、図３の中段の工程Ｉ₂₁は供給工程で、搬入レーン１から搬送されてきたワークＷを供給排出機構２０及び第２の昇降機構３０ｂによって第２の供給排出位置Ｍ２へ供給する。第２の供給排出位置Ｍ２へワークＷを供給する動作は、第１の供給排出位置Ｍ１へワークＷを供給する動作とほぼ同じであるから詳しい説明を省略する。供給排出機構２０は、第２の供給排出位置Ｍ２にてワークＷを解放したのち、拡開したチャック２３を後端位置まで後退させて、台車２２を図１の破線で示す位置から実線で示す位置に移動させ、冷却工程Ｃ₁₁が終了するまで待機する。なお、一行程目以降の供給工程Ｉ₂₂では、一行程目の供給工程Ｉ₂₁と同様の動作が行なわれる。

また、図３の中段の工程Ｈ₂₁，工程Ｔ₂₁，工程Ｃ₂₁は、それぞれ加熱工程、移動工程、冷却工程で、第１の昇降機構３０ａ側での加熱工程Ｈ₁₁，移動工程Ｔ₁₁，冷却工程Ｃ₁₁とほぼ同様の動作が第２の昇降機構３０ｂ側で行なわれる。すなわち、加熱工程Ｈ₂₁で第２の加熱位置Ｈ２にてワークＷの誘導加熱を行ない、移動工程Ｔ₂₁で第２の加熱位置Ｈ２にて誘導加熱されたワークＷを冷却槽１０内の第２の冷却位置Ｃ２に移動させるのと同時に、誘導加熱コイル４１を第２の加熱位置Ｈ２から第１の加熱位置Ｈ１へ直線移動させる。次いで、冷却工程Ｃ₂₁でワークＷの冷却を所定期間（例えば１３秒間程度）行なったのち、回転テーブル３３ｂを上昇させて、ワークＷを第２の供給排出位置Ｍ２に戻す。なお、一行程目以降の加熱工程Ｈ₂₂，移動工程Ｔ₂₂，冷却工程Ｃ₂₂では、それぞれ一行程目の加熱工程Ｈ₂₁，移動工程Ｔ₂₁，冷却工程Ｃ₂₁と同様の動作が行なわれる。

図３の上段の工程Ｏ₁₁はワークＷの排出工程で、第１の加熱位置Ｈ１での加熱と第１の冷却位置Ｃ１での冷却とを経て高周波焼入れされたワークＷを搬出レーン２へ排出する。第２の供給排出位置Ｍ２へワークＷを供給する供給工程Ｉ₂₁を経て台車２２を図１の実線で示す位置に停車させた供給排出機構２０は、チャック２３を前端位置まで前進させて、第１の昇降機構３０ａによって第１の供給排出位置Ｍ１に戻されたワークＷを把持する。次いで、第１の昇降機構３０ａが回転テーブル３３ａを第１の供給排出位置Ｍ１より下方の待機位置に下降させてから、チャック２３を後端位置まで後退させると共に、台車２２をガイドレール２１の図示上右端位置まで移動させ、チャック２３を拡開してワークＷを解放する。チャック２３から解放されたワークＷは、搬出レーン２によって搬送される。また、供給排出機構２０は、ワークＷを解放したのち、台車２２をガイドレール２１の図示上左端位置まで移動させる。

図３の二行程目の供給工程Ｉ₁₂は、一行程目の供給工程Ｉ₁₁と同様に搬入レーン１から搬送されてきたワークＷを第１の供給排出位置Ｍ１へ供給する。供給排出機構２０は、第１の供給排出位置Ｍ１にてワークＷを解放したのち、拡開したチャック２３を後端位置まで後退させて、台車２２を図１の実線で示す位置から破線で示す位置に移動させ、冷却工程Ｃ₂₁が終了するまで待機する。なお、二行程目以降の供給工程Ｉ₁₃では、二行程目の供給工程Ｉ₁₂と同様にワークＷを第１の供給排出位置Ｍ１へ供給したのち、チャック２３をガイドレール２１の第２の供給排出位置Ｍ２と対向する位置に移動させる。

第１の昇降機構３０ａ側での二行程目の供給工程Ｉ₁₂以降は、一行程目の加熱工程Ｈ₁₁〜二行程目の供給工程Ｉ₁₂までの動作が繰り返される。

図３の中段の排出工程Ｏ₂₁は、第２の加熱位置Ｈ２での加熱と第２の冷却位置Ｃ２での冷却とを経て高周波焼入れされたワークＷを搬出レーン２へ排出する。ワークＷを搬出レーン２へ排出する動作は、第１の昇降機構３０ａ側での排出工程Ｏ₁₁とほぼ同じであるから詳しい説明を省略する。供給排出機構２０は、ワークＷを搬出レーン２へ搬送したのち、台車２２をガイドレール２１の図示上左端位置まで移動させ、二行程目の供給工程Ｉ₂₂が行なわれる。

他方の昇降機構３０ｂ側での一行程目の排出工程Ｏ₂₁以降は、一行程目の供給工程Ｉ₂₁〜排出工程Ｏ₂₁と同じ動作が繰り返される。

以上のように、上記の高周波熱処理装置は、冷却槽１０の上方に設定された第１及び第２の加熱位置Ｈ１，Ｈ２の一方の加熱位置で加熱されたワークＷを冷却槽１０内の冷却液に浸漬して冷却している間に、誘導加熱コイル４１を他方の加熱位置に水平移動させ、他方の加熱位置に供給されたワークＷを誘導加熱コイル４１によって加熱する。このように、誘導加熱コイル４１の稼動率を上げることで、ワークＷの処理効率が飛躍的上昇する。

なお、図４には、比較のために、従来装置による熱処理動作の時系列を示している。従来装置は、ワークＷの加熱位置が一箇所であるため、供給排出機構２０のガイドレール２１を上記実施形態の高周波熱処理装置よりも短くすることができる。この点を考慮すると、ワークＷの供給工程Ｉ₁，Ｉ₂，…や排出工程Ｏ₁，Ｏ₂，…の所要時間が上記実施形態よりも若干短くなるが、同種のワークＷの熱処理を行なう場合、ワークＷの加熱工程Ｈ₁や冷却工程Ｃ₁、ワークＷの下降工程Ｔ₁の所要時間は、上記実施形態とほぼ同じである。以上の検討結果から図４ではワークＷの供給工程Ｉ₁，Ｉ₂，…と排出工程Ｏ₁，Ｏ₂，…の所要時間のみを上記実施形態よりも短くしてある。図３と図４を比較すると、本実施形態の高周波熱処理装置は、従来装置の約２倍程度にワークＷの処理効率が向上する。

以上、本発明の一実施形態につき説明したが、本発明は上記実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば上記実施形態では、誘導加熱コイル４１の移動機構４２をリニアガイドレール４４及び移動ベース４５で構成してあるが、図５に示すように、冷却槽１０の上方の水平円弧軌道上に設定された複数の加熱位置Ｈ１，Ｈ２の略中心位置Ｏに回転ベース４６を配設し、回転ベース４６を回転させることで、回転ベース４６から冷却槽１０の上方に延在させた誘導加熱コイル４１が水平円弧軌道に沿って旋回移動する構成としても、上記実施形態とほぼ同様の作用効果が得られる。また、回転ベース４６を非回転とし、誘導加熱コイル４１の基端部を回転ベース４６に組込まれた図示しないモータの回転軸に取付けることによっても、誘導加熱コイル４１を水平円弧軌道に沿って旋回移動させることが可能である。

また、上記実施形態では、第２の昇降機構３０ｂ側での行程を、第１の昇降機構３０ａ側での行程よりも半行程遅らせてあるが、第１の昇降機構３０ａ側の行程に対する第２の昇降機構３０ｂ側の行程の遅延を半行程未満にすることもできるし、半行程以上にすることもできる。図６には、第１の昇降機構３０ａ側の行程に対する第２の昇降機構３０ｂ側の行程の遅延を最少にした例を示している。図６の例では、第１の昇降機構３０ａ側での加熱工程Ｈ₁₁を終えて、第１の加熱位置Ｈ１から移動させた誘導加熱コイル４１が第２の加熱位置Ｈ２に到達した直後に第２の昇降機構３０ｂ側での加熱工程Ｈ₂₁が行なわれるように設定すると最少の遅延となる。逆に、第２の昇降機構３０ｂ側での加熱工程Ｈ₂₁を終えて、第２の加熱位置Ｈ２から移動させた誘導加熱コイル４１が第１の加熱位置Ｈ１に到達した直後に第１の昇降機構３０ａ側での加熱工程Ｈ₁₂が行なわれるように設定すると最大の遅延となる。

また、上記実施形態では、冷却槽１０の上方に二箇所の加熱位置Ｈ１，Ｈ２を設けた場合について説明したが、加熱位置を三箇所以上に設定することもできる。図７に、上記第１及び第２の加熱位置Ｈ１，Ｈ２に加えて図示しない第３の加熱位置を設定した場合の時系列を示す。前記第３の加熱位置の下方には、上記第１及び第２の加熱位置Ｈ１，Ｈ２と同様に、図示しない第３の供給排出位置及び第３の冷却位置が設定され、第３の加熱位置と第３の冷却位置の間でワークを昇降させる第３の昇降機構が配設される。このように加熱位置を三箇所設定すると、誘導加熱コイル４１の稼動率をさらに向上させることができる。図７の例では、ワークＷの加熱工程Ｈ₁₁，Ｈ₂₁，Ｈ₃₁，Ｈ₁₂，Ｈ₂₂，Ｈ₃₂，…の時間間隔を誘導加熱コイル４１の移動行程Ｔ₁₁，Ｔ₂₁，Ｔ₃₁，…の所要時間に設定しており、誘導加熱コイル４１の稼動率を最も高くしてある。なお、加熱位置の設定数に応じて、供給排出機構や昇降機構の構成（配設箇所や個数も含む。）は本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で適宜変更される。

さらに、上記実施形態では、ワークＷを高周波焼入れする場合について説明しているが、本発明は、ワークＷの高周波焼戻しを行なう場合にも適用することができる。

本発明に係る高周波熱処理装置の一実施形態を示す平面図である。 本発明に係る高周波熱処理装置の一実施形態を示す側面図である。 本発明を適用した高周波熱処理装置による熱処理動作の時系列の一例を示す図である。 従来装置による熱処理動作の時系列の一例を示す図である。 本発明に係る高周波熱処理装置の他の実施形態を示す平面図である。 本発明を適用した高周波熱処理装置による熱処理動作の時系列の他の例を示す図である。 本発明を適用した高周波熱処理装置による熱処理動作の時系列の他の例を示す図である。 従来の高周波熱処理装置の一例を示す縦断面図である。

符号の説明

１ 搬入レーン
２ 搬出レーン
１０ 冷却槽
２０ 供給排出機構
２１ 移動レーン
２２ 台車
２３ アーム
２４ チャック
３０ａ，３０ｂ 昇降機構
３１ａ，３１ｂ 支柱
３２ａ，３２ｂ 上側アーム
３３ａ，３３ｂ ピストン・シリンダ機構
３４ａ，３４ｂ 下側アーム
３５ａ，３５ｂ ホルダ
４０ 高周波誘導加熱装置
４１ 誘導加熱コイル
４２ 移動機構
４３ 高周波発振器
４４ リニアガイドレール
４５ 移動ベース
４６ 回転ベース
Ｗ ワーク
Ｈ１，Ｈ２ 加熱位置
Ｃ１，Ｃ２ 冷却位置
Ｍ１，Ｍ２ 供給排出位置
Ｏ 水平円弧軌道の中心位置

Claims (3)

1. ワークを加熱する誘導加熱コイルと、冷却液を貯留した冷却槽と、冷却槽上方の略水平面内に設定され、ワークが順番に繰り返し供給される複数の加熱位置間で、誘導加熱コイルを略水平移動させる移動機構と、各加熱位置と冷却槽内の各加熱位置に対応する冷却位置との間でワークを昇降させる複数の昇降機構とを備え、複数の加熱位置のいずれか一の加熱位置に供給されたワークを誘導加熱コイルによって加熱し、前記一の加熱位置で加熱されたワークを冷却液に浸漬して冷却するのと並行して、誘導加熱コイルを移動機構によって前記一の加熱位置から他の加熱位置に略水平移動させ、前記他の加熱位置に供給されたワークを加熱することを特徴とする高周波熱処理装置。
2. 移動機構が、冷却槽上方の略直線軌道上に設定された複数の加熱位置間で、誘導加熱コイルを略直線移動させることを特徴とする請求項１に記載の高周波熱処理装置。
3. 移動機構が、冷却槽上方の略円弧軌道上に設定された複数の加熱位置間で、誘導加熱コイルを略旋回移動させることを特徴とする請求項１に記載の高周波熱処理装置。