JP2006191088A - リソグラフィ・デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、所望のパターンに従って非偏光放射のビームをパターン形成するように構成された位相シフト・マスクを保持するように構成された支持構造と、基板を保持するように構成された基板テーブルとを備えている。リソグラフィ装置は、さらに、パターン形成されたビームをネガ型レジスト層が付着している基板の目標部分に投影するように構成された、ネガ型レジスト層上にパターンのイメージを形成するための投影システムを備えている。
【選択図】図1
Description
CD=k1(λ/NA)
及び
DOF=k2(λ/NA2)
λは、照明放射の波長であり、k1及びk2は、特定のリソグラフィ・プロセスの定数である。また、NAは、投影システムの開口数である。本明細書においては焦点又は焦点深度の値が参照されており、単位はμmである。
1.ステップ・モード:支持構造MT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向に動かされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で結像される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:投影ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、支持構造MT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率(縮小率)及びイメージ反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラム可能パターン形成装置を保持するために支持構造MTが基本的に静止状態に維持され、投影ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、又は連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン形成装置が更新される。この動作モードは、上記で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン形成装置を利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
MA パターン形成装置
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 パターン形成装置アライメント・マーク
PB 放射のビーム(投影ビーム)
PL 投影システム
PM 第1の位置決め装置
PW 第2の位置決め装置
P1、P2 基板アライメント・マーク
Re 照明端の外部半径
Ri 照明端の内部半径
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
10 バイナリ結像マスク
12、18、24、26 100%透過率領域(透過領域)
14 不透明領域
16 ハーフトーン型位相シフト・マスク
20 6%透過率領域
22 クロムレス位相シフト・マスク
28 渦型マスク
29 渦型マスクを構成している長方形又は正方形
30a、30b、30c、30d 四相位相領域
31 鋭角コーナ
36、52 バイナリ結像マスクを使用してポジ型レジスト上に印刷された4つのホール全体の強度プロファイルを表す曲線
38、50 6%ハーフトーン型位相シフト・マスクを使用してポジ型レジスト上に印刷された4つのホール全体の強度プロファイルを表す曲線
40、54 クロムレス位相(CPL)マスクを使用してネガ型レジスト上に印刷された4つのホール全体の強度プロファイルを表す曲線
42、56 渦型マスクを使用してネガ型レジスト上に印刷された4つのホール全体の強度プロファイルを表す曲線
44 クロムレス位相マスクをネガ型レジストと共に使用した場合に得られる強度プロファイル
46 渦型マスクをネガ型レジストと共に使用した場合に得られる強度プロファイル
Claims (13)
- デバイスを製造する方法であって、
パターン形成された放射のビームを生成するために、一定のパターンのコンタクト・ホールを有する位相シフト・マスクを非偏光放射のビームで照射する段階と、
ネガ型レジスト層上に前記一定のパターンのコンタクト・ホールのイメージを形成するために、基板上に付着している前記ネガ型レジスト層を前記パターン形成された放射のビームを使用して露光する段階とを含む方法。 - 前記位相シフト・マスクがクロムレス位相シフト・マスクを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記位相シフト・マスクを照射する段階が、四極子照明を使用して照射するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記四極子照明がx−y軸系の象限の各々に極を備えた、請求項3に記載の方法。
- 前記四極子照明がx−y軸系の各半軸上に配置された極を備えた、請求項3に記載の方法。
- 前記四極子照明の外部半径が0.7と1の間の正規化値を有する、請求項5に記載の方法。
- 前記四極子照明の内部半径が0.5と0.9の間の正規化値を有する、請求項5に記載の方法。
- 前記四極子照明中の光の極の範囲を定めている開口角が10度と90度の間で選択される、請求項5に記載の方法。
- 前記位相シフト・マスクを照射する段階が、オフアクシス照明を使用して照射する段階を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記位相シフト・マスクが、20%より大きい透過率を有する暗フィーチャを備えたハーフトーン型位相シフト・マスクである、請求項1に記載の方法。
- 前記位相シフト・マスクを照射する段階が、環状照明を使用して照射する段階を含む、請求項1に記載の方法。
- 開口数が0.7と1.5の間の投影システムを使用して前記パターン形成された放射のビームを前記ネガ型レジスト層に投影する段階をさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ネガ型レジスト上に形成されるパターンが、0.5以下のk1係数に対応するフィーチャを含む、請求項1に記載の方法。
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