JP2006189791A - 液晶噴射装置及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】均一な液晶滴下と液晶表示装置の画質を向上させることができる液晶噴射装置及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶噴射装置は、液晶が充填される液晶容器と、液晶容器に充填された液晶を微細粒子形状に噴霧する液晶ノズルと、液晶容器に充填された液晶を液晶ノズルに供給する液晶噴射機と、液晶ノズルに供給される液晶を微細粒子形状で噴霧させるためのガスを供給するガス供給部と、ガス供給部にガスを供給するガスタンクとを含むことを特徴とする。
【選択図】図４

Description

本発明は、液晶噴射装置に係り、均一な液晶滴下と液晶表示装置の画質を向上させることができる液晶噴射装置及びこれを利用した液晶表示装置製造方法に関する。

近来、携帯電話、 PDA、ノートブックコンピューター等の各種ポータブル電子機器が発展することによって、これに適用することができる軽薄短小用の平板表示装置(ＦＰＤ；flat panel display device)に対する要求が除々に増大している。

このような平板表示装置では、 液晶表示装置（LCD；liquid crystal display)、プラズマ表示装置（PDP；plasma display panel)、フィールドエミッションディスプレイ（FED；field emission display)、真空蛍光表示装置（VFD；vacuum fluorescent display)等が活発に研究されているが、量産化技術、駆動手段の容易性、高画質の具現という理由によって、現在では液晶表示装置が脚光を浴びている。

液晶表示装置は、液晶の屈折率異方性を利用して画面に情報を表示する装置である。

液晶表示装置は、一般的に薄膜トランジスター(以下、「TFT」という。）と画素電極とが形成された下部基板と、カラーフィルター層が形成された上部基板とが、液晶層を間に置いて合着された構造になっている。

そして、液晶表示装置の製造工程は、下部基板を形成するアレイ基板形成工程、上部基板を形成するカラーフィルター基板形成工程、及びセル工程に大きく区分される。以下、図1を参照して説明する。

図1は、従来の液晶表示装置の製造工程を説明する工程フロー図である。

図1に図示したように、まず、駆動素子（ＴＦＴ）アレイ工程によって下部基板上に画素領域を定義する複数のゲートライン及びデータラインを形成して、各画素領域にゲートライン及びデータラインに接続される駆動素子であるTFTを形成する(ステップS101)。又、駆動素子アレイ工程を通じてTFTに接続されて、データラインを介して印加される信号によって、液晶層を駆動する画素電極を形成する。

又、上部基板にはカラーフィルター工程によってカラーを具現する赤、緑、青(R, G, B)のカラーフィルター層と共通電極を形成する(ステップS104)。

そして、上部基板及び下部基板にそれぞれ配向膜を塗布した後、上部基板と下部基板との間に形成される液晶層の液晶分子に配向規制力又は表面固定力(すなわち、プリチルト角と配向方向)を提供するための配向膜をラビングする(ステップS102, S105)。

次いで、下部基板にセルギャップを一定に維持するためのスペーサーを散布して、上部基板の外郭部にシーリング材を塗布した後、下部基板と上部基板とに圧力を加えて合着する(ステップS103, S106, S107)。

一方、下部基板及び上部基板は大面積の硝子基板で成り立っている。すなわち、大面積の硝子基板に複数の液晶パネル領域が形成されて、各液晶パネル領域に駆動素子であるTFT及びカラーフィルター層が形成されるため、一個の液晶パネルを製作するためには上記合着された基板を切断、加工しなければならない(ステップS109)。

次いで、上記のように加工された個々の液晶パネルに液晶を注入して液晶注入口を封止して液晶層を形成した後、各液晶パネルを検査することで液晶表示装置の製造工程が終了する(ステップS109, S110)。ここで、液晶は液晶パネルに形成された液晶注入口を通じて注入される。このような液晶の注入は圧力差によって成り立つ。

図2は、従来の液晶パネルに液晶を注入する装置を図示した図面である。図2に図示されたように、真空チャンバー10内には液晶が充填された容器12が具備されていて、その上部に液晶パネル11が配置されている。真空チャンバー10は、真空ポンプと連結されており、液晶注入の際に真空チャンバー10内部を設定された真空状態を維持させる。

又、図面に図示しなかったが、真空チャンバー10内には液晶パネル移動用装置が設置されており、液晶パネル11を容器12の上部から容器12まで移動させて液晶パネル11に形成された注入口16を液晶14に接触させる。これを液晶デイッピング注入方式という。

上記のように、液晶パネル11の注入口16を液晶14に接触させた状態で真空チャンバー10内に窒素ガスを供給して真空チャンバー10内の圧力を真空程度へ低下させる。このようにすることにより、液晶パネル11内部の圧力と真空チャンバー10の圧力差によって、液晶14が注入口16を通じて液晶パネル11に注入される。

このように、液晶14が液晶パネル11内に完全に充填された後、液晶パネル11の注入口16を封止材によって封止することで、液晶層が完成される。このような、方式を液晶の真空注入方式という。

ところが、上記のように真空チャンバー10内で液晶パネル11に液晶を注入して液晶層を形成する方法には、次のような問題点がある。

第一の問題点として、液晶パネル11への液晶14の注入時間が長くなる。一般的に、液晶パネルの駆動素子アレイ基板とカラーフィルター基板との間の間隔は数μｍ程度と非常に狭いため、単位時間当りに液晶パネル内部に注入される液晶が非常に少ない量となることがある。例えば、約15インチの液晶パネルを製造する場合、液晶を完全に注入するのに大体8時間が必要となる。このように液晶注入に長い時間が必要となれば、液晶パネル製造工程が長くなり製造収率(生産性)が低下する。

第二の問題点として、上記のような液晶注入方式は注入工程中に捨てられる液晶14の量が多くなることがある。容器12に充填されている液晶14の中で、実際、液晶パネル11に注入される量は非常に少ない量である。一方、液晶14は大気や特定ガスに露出された場合、ガスと反応して劣化されるだけでなく、液晶パネル11との接触の際に流入される不純物によっても劣化される。従って、容器12に充填された液晶14が複数枚の液晶パネル11に注入される場合にも注入後残っている液晶14を廃棄しなければならないが、これは液晶パネル製造費用の増加をもたらす原因になる。

本発明は、一つの液晶パネルを含む大面積硝子基板上に直接液晶を噴射して均一に液晶層を形成することで、液晶注入工程で発生する不良率を最小化することができる液晶噴射装置及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法を提供することに、その目的がある。

上述した目的を達成するために、本発明による液晶噴射装置は、液晶が充填された液晶容器と、液晶容器に充填された液晶を微細粒子形状に噴霧する液晶ノズルと、液晶容器に充填された液晶を液晶ノズルに供給する液晶噴射機と、液晶ノズルに供給される液晶を微細粒子形状で噴霧させるためのガスを供給するガス供給部と、ガス供給部にガスを供給するガスタンクとを含むことを特徴とする。

本発明の他の実施形態による液晶噴射装置は、液晶が充填された液晶容器と、液晶容器に充填された液晶を微細粒子形状に噴霧する液晶ノズルと、液晶容器に充填された液晶を液晶ノズルに供給する液晶噴射機と、液晶ノズルに供給される液晶を微細粒子形状で変換させるための超音波変換子と、超音波変換子と連結された電源端子と、電源端子に制御信号を供給する制御部とを含むことを特徴とする。

また、本発明による液晶表示装置の製造方法は、第1基板と第2基板を提供する段階と、第1基板又は第2基板上に、液晶容器と、液晶容器から供給された液晶を複数個の微細粒子形状に変換する変換手段を具備したノズルとを含むスプレーを利用して液晶を噴射する段階と、第1基板又は第2基板上にシールパターンを形成する段階と、第1基板と第2基板とをお互いに合着する段階とを含む。

本発明は、液晶を噴射して基板上に均一に塗布することで、むら不良を防止して、上下基板を合着する際の加圧によって基板上に形成された配向膜の損傷を最小化することができる。

又、基板上に液晶を噴射滴下する時、基板及び液晶噴射装置の位置を多様に配置させることができて、液晶滴下に要する装置の体積を減少させることができる。

又、液晶滴下工程時間を顕著に減らすことができて、液晶表示装置の製造収率を向上させる効果がある。

そして、基板上に液晶を噴射して塗布する場合、液晶内に含まれていることもある気泡等による不良を最小化することができて、より均一に液晶を塗布することができる効果がある。

以下、添付した図面を参照して本発明による液晶滴下装置を具体的に説明する。

図3は、本発明による液晶表示装置の製造工程を示す工程フロー図である。

図3に図示したように、まず、駆動素子（ＴＦＴ）アレイ工程によって、基板上に画素領域を定義する複数のゲートライン及びデータラインを形成して、各画素領域にゲートライン及びデータラインと接続させる駆動素子であるＴＦＴを形成する(ステップS201)。又、駆動素子アレイ工程を通じてＴＦＴに接続されて、データラインを介して印加される信号によって液晶層を駆動する画素電極を形成する。

又、上部基板にはカラーフィルター工程によってカラーを具現する赤、緑、青(R, G, B)のカラーフィルター層と共通電極を形成する(ステップS204)。

そして、上部基板及び下部基板にそれぞれ配向膜を塗布した後、上部基板と下部基板との間に形成される液晶層の液晶分子に配向規制力又は表面固定力(すなわち、プリチトル角と配向方向)を提供するための配向膜をラビングする(ステップS202, S205)。

次いで、下部基板の外郭部にシールパターンを形成した後、続いて液晶を噴射して滴下し、下部基板及び上部基板に圧力を加えて合着する(ステップS203, S206, S207)。

上記では、下部基板上にシールパターンを形成して、下部基板に液晶噴射工程によって液晶滴下をしたが、これは固定された工程ではない。従って、下部基板上にシールパターンと液晶噴射による滴下をするか、又は上部基板上にシールパターンを形成して下部基板上に液晶噴射工程によっても液晶滴下ができる。

一方、下部基板及び上部基板は大面積の硝子基板で成り立っている。すなわち、大面積の硝子基板に複数の液晶パネル領域が形成されて、各液晶パネル領域に駆動素子であるTFT及びカラーフィルター層が形成されるため、一つの液晶パネルを製造するためには硝子基板を切断、加工しなければならない(ステップS208)。

次いで、上記のように加工された個々の液晶パネルを検査することで液晶表示装置の製造工程は終了する(ステップS209)。

ここで、基板上に液晶を滴下する方法を説明するために本発明による液晶滴下装置を図４〜図5ｂを参照して説明する。

図4は、本発明による液晶噴射装置を示す斜視図である。

図4に図示されたように、本発明による液晶噴射装置120では液晶容器122がケース123に収納されている。液晶容器122は、ポリエチレンで構成されており、その内部に液晶107が充填されている。ケース123はステンレス鋼等から構成されている。一般的に、ポリエチレンは成形性に優れていることにより所望の形状に形成できるだけではなく、液晶107が充填された際に液晶107と反応しないことにより液晶容器122として主に使われる。

液晶容器122の下部には液晶噴射機140が配置されていて、液晶容器122と液晶噴射機140とが連結管126で連結されている。そして、液晶噴射機140には、液晶107を噴霧することができるように液晶ノズル142が締結されていて、液晶ノズル142と液晶噴射機140とが締結される領域には、液晶107を微細な粒子状に噴射させるためのガスを供給するガス供給部152が締結されている。ガス供給部152は、空気、 N２、H２等のガスが保存されているガスタンク150とガス供給管153によって連結されていて、液晶ノズル142にガスを供給する。

又、液晶ノズル142には、微細な粒子状に噴霧される液晶107等による装置の汚染を防止するためや、選択領域にのみ液晶107が噴霧されるようにすることができるようにするために、ガイド155が設置されている。

上記のような構造を持つ液晶噴射装置120は、液晶噴射機140に液晶容器122から液晶107を供給した後、これを液晶ノズル142から噴霧させて液晶滴下工程を進行する。

この時、液晶107は水より粘度性が高いため、微細な液晶粒子等で分散させるには、ガスタンク150に保存されているガスを一緒に液晶ノズル142に供給する。このように液晶ノズル142に供給されたガスは、液晶ノズル142を通じて噴射される液晶107を微細な粒子状に分散させて、基板160上に微細粒子状に噴霧させる。

このように、液晶107を微細粒子状に噴霧して液晶滴下工程を進行すれば、基板160上に液晶107が均一な厚さに塗布されてむら不良を防止することができる。

そして、液晶ノズル142にガイド155を設置することにより、微細粒子状に噴霧される液晶107が工程中に装置等を汚染することを防止することや、選択された一定の領域にのみ液晶107を噴霧することができる。本発明の液晶噴射装置120で滴下される液晶の量を測定する方式によって、液晶ノズル142に液晶を噴霧するためのガス供給を遮断した状態で、液晶ノズル１４２から落ちる液晶の量を測定することにより滴下量を測定することができる。

上記のように液晶107を噴射すれば、基板160上に薄い厚さで均一に液晶107を塗布することができるため、上下基板を合着するに要する時間を短縮させる効果がある。又、上記のように液晶107を噴霧して滴下する場合には、上下基板を合着する際の加圧によって発生する配向膜の損傷を最小化することができる。そのため、配向膜の損傷が発生することによる液晶表示装置の不良率を減らすことができると共に、画質を改善することができる長所がある。

図5aは、上記図4における液晶ノズルの構造を図示した断面図であり、図5bは、上記図4における液晶ノズルとガス供給部の締結領域を図示した断面図である。

図5a及び図5bに図示されたように、液晶ノズル142内部には、液晶を流すことができる液晶注入口130と、液晶注入口130を通じて噴射される液晶を微細粒子で分散させるためのガス注入口131が形成されている。

粘度性が高い液晶を微細粒子状に噴霧させる原理は、液晶注入口130を通じて所定の圧力で液晶が注入される時、ガス注入口131を通じてガス(空気、 N_２、H_２又はこれらガスの混合)を供給することにより、液晶を微細粒子形状で分散させて噴霧をする。従って、ガス注入口131で供給されるガスの圧力によって分散される液晶の粒子を調節することができる。

上記のように液晶を微細な粒子に変換するために、液晶ノズル142にはガス供給部152が締結されているが、ガス供給部152はガス供給管153を通じて供給されるガス(空気, N_２, H_２又はこれらガスの混合)を液晶ノズル142のガス注入口131に注入する。ガス供給部152で供給されるガスは、液晶注入口130が遮断されているガス注入口131を通じて進行した後、液晶ノズル142の噴射領域で液晶と混合されて微細な粒子形状に噴霧される。

図6は、本発明による液晶噴射装置によって基板上に液晶が滴下される基本的な概念を示す図面である。

図6に図示されたように、本発明による液晶噴射装置120は基板160上部に設置されている。図面に図示しなかったが、液晶噴射装置120内部には液晶107が充填され、基板160上に一定量を噴射することができる。

そして、液晶噴射装置120は、液晶噴射機140と液晶ノズル142とを含んで形成されるが、液晶ノズル142で噴射される微細な液晶粒子等は基板160上に均一に塗布される。そして、液晶ノズル142を通じて噴射された液晶107は、噴霧形状として基板160上に微細な液晶粒子で滴下(塗布)される。

液晶ノズル142と液晶噴射機140との間にはガス供給部152が設置されていて、ガス供給管153から供給されるガスを液晶ノズル142に供給して液晶を微細粒子形状に分散させる。基板160は、x、y方向に設定された速度に移動して、液晶噴射装置120は設定された時間の間、連続的に液晶107を噴射する。

そのため、基板160上に滴下される液晶107は基板160の表面上に均一に塗布される。ここで、液晶滴下の時に基板160を固定して、液晶噴射装置120をx、y方向に移動して液晶107を噴射することもできる。

図7は、本発明の他の実施例による液晶滴下装置を図示した斜視図である。

図7に図示されたように、液晶噴射装置220において、液晶207を貯蔵している液晶容器222がケース223に収納されていて、液晶容器222は連結管226によって液晶噴射機240と連結されている。そして、液晶噴射機240は、液晶ノズル242と直接的に締結されていて、所定の圧力で液晶207を噴射することができる。

液晶ノズル242の内側には、液晶207を微細な粒子状に変換させるための超音波変換子252と、超音波変換子252と連結されている電源端子251と、電源端子25１に所定の電源信号を印加するための制御部250とで構成された超音波発生機が設置されている。

図面に図示したが説明しない253は、制御部250で発生させた電源信号を電源端子251に送るケーブルである。

又、液晶ノズル242には、微細な粒子状に噴霧される液晶207等による装置の汚染を防止するためや、選択領域にのみ液晶207が噴霧させることができるようにするため、ガイド255が設置されている。

上記のような構造を持つ液晶噴射装置220は、液晶噴射機240から液晶ノズル242に噴射される液晶207を超音波発生機の超音波変換子252の振動エネルギーによって微細な液晶粒子形状に変換した後、これを噴霧するようにして液晶滴下工程を進行する。

この時、超音波発生機の超音波変換子252によって、液晶207が微細な粒子に変換される原理は次のようである。

液晶噴射機240から所定の液晶207が液晶ノズル242に供給されれば、液晶ノズル242の終端に設置している超音波変換子252が制御部250の制御信号によって振動する。

このように超音波変換子252が振動するようになれば、液晶207の液膜が超音波変換子252の振動エネルギーを吸収して液膜表面に所定の定常波が発生する。

このような定常波を毛細管波動というが、この波動の臨界波高の大きさが毛細波の安全性限度を越すようになれば、その結果、液膜表面に形成された波動のてっぺんから波形が潰れながら微細液晶粒子が一定の大きさで落ちるようになる。このように落ちた微細液晶粒子を基板260に噴霧して液晶滴下工程を進行する。

このように超音波発生機によって液晶207が微細粒子に噴霧されれば、噴霧される液晶粒子等の運動エネルギーが大きくならないため、配向膜を損傷させずに滴下される液晶量を微細に調節することができる。

このように、超音波発生機を使って液晶207を微細粒子形状に噴霧して滴下すれば、基板260上に液晶207が均一な厚さに塗布することができて、基板合着によるむら不良を防止することができる。

そして、上記のように液晶207を噴射すれば、基板260上に薄い厚さで均一に液晶207が塗布されるため、上下基板を合着する時間を短縮させる効果がある。

又、液晶ノズル242にガイド255が設置されていて、微細粒子形状に噴霧される液晶207が工程中に装置等を汚染させることを防止することや、選択された一定の領域にのみ液晶207を噴霧することができる。

図8は、図7で示した超音波発生機が設置された液晶ノズルの構造を示した図面である。図示されたように、液晶ノズル242の内部には、液晶を微細な粒子に変換させるように振動する超音波変換子252が挿入されている。

超音波変換子252には電源端子251が連結されていて、電源端子251はケーブル253によって外部の制御部250と連結されている。

制御部250で所定の電源信号が印加されれば、超音波変換子252が振動する。このようにして振動する超音波変換子252によって、液晶の表面に所定の波動が発生して液晶を微細粒子形状で落とすことができる。

噴霧される液晶の微細粒子は、制御部250の制御によって多様な大きさに調節することができる。例えば、超音波変換子252の振動数を高くする又は低くすることによって、微細粒子の大きさを調節することができる。

そして、超音波発生機が設置された液晶噴射装置220によって基板上に滴下される液晶量を測定する方法は、超音波発生機をオフ状態にした後に液晶ノズルから落ちる液晶量を測定することにより、滴下量を測定することができる。

本発明は、図面に図示した実施例を説明したが、これは例示的なことに過ぎず、本技術分野の通常の知識を持った者ならば、多様な変形及び均等な他の実施例として行うことが可能だという点を理解するはずである。従って、本発明の真正な技術的保護範囲は添付された特許請求範囲の技術的思想によって決まるはずである。

従来液晶表示装置の工程を説明するための工程フロー図である。 従来液晶パネルに液晶を注入する装置を示した図面である。 本発明による液晶表示装置の製造工程を説明するための工程フロー図である。 本発明による液晶噴射装置を示す斜視図である。 図4での液晶ノズルの構造を示した断面図である。 図4での液晶ノズルとガス供給部との締結領域を示した断面図である。 本発明による液晶噴射装置によって基板上に液晶が滴下される基本的な概念を示す図面である。 本発明の他の実施例による液晶噴射装置を示した斜視図である。 図7での超音波発生機が設置された液晶ノズルの構造を示した図面である。

符号の説明

107, 207 :液晶
120, 220 :液晶噴射装置
122, 222 :液晶容器
123, 223 :ケース
126, 226 :連結管
140, 240 :液晶噴射機
142, 242 :液晶ノズル
160, 260 :基板
152:ガス供給部
153:ガス供給管
250:制御部
251:電源端子
252:超音波変換子

Claims (20)

1. 液晶が充填された液晶容器と、
   前記液晶容器に充填された液晶を微細粒子状に噴霧する液晶ノズルと、
   前記液晶容器に充填された液晶を前記液晶ノズルに供給する液晶噴射機と、
   前記液晶ノズルに供給される液晶を微細粒子状に噴霧させるためのガスを供給するガス供給部と、
   前記ガス供給部にガスを供給するガスタンクとを含むことを特徴とする液晶噴射装置。
2. 前記液晶ノズルは、前記ガス供給部で供給されるガスによって前記液晶噴射機で供給される液晶を微細液晶粒子状に分散させた後、該液晶を噴霧することを特徴とする請求項１に記載の液晶噴射装置。
3. 前記液晶を微細粒子状に分散させるために供給するガスは、空気、 N_２、 H_２、及びこれらの混合物のうち何れかひとつであることを特徴とする請求項１に記載の液晶噴射装置。
4. 前記液晶ノズルは、噴霧される微細液晶粒子等による装置の汚染を防止する又は噴霧される領域を選択的に制限するためのガイドを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶噴射装置。
5. 前記液晶ノズルは、前記液晶噴射機から液晶が注入される液晶注入口と、前記液晶注入口の周囲に沿って前記ガスタンクから供給されるガスが注入されるガス注入口が形成されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶噴射装置。
6. 液晶が充填された液晶容器と、
   前記液晶容器に充填された液晶を微細粒子状に噴霧する液晶ノズルと、
   前記液晶容器に充填された液晶を前記液晶ノズルに供給する液晶噴射機と、
   前記液晶ノズルに供給される液晶を微細粒子状に変換させるのための超音波変換子と、
   前記超音波変換子と連結された電源端子と、
   前記電源端子に制御信号を供給する制御部とを含むことを特徴とする液晶噴射装置。
7. 前記超音波変換子は、前記液晶ノズル内側に配置されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶噴射装置。
8. 前記液晶ノズルは、前記超音波変換子の振動エネルギーによって前記液晶噴射機で供給される液晶を微細液晶粒子状に分散させた後、該液晶を噴霧することを特徴とする請求項６に記載の液晶噴射装置。
9. 前記液晶ノズルで噴霧される微細液晶粒子は、前記超音波変換子の振動数によって多様な大きさの形状に形成されることを特徴とする請求項８に記載の液晶噴射装置。
10. 前記液晶ノズルは、噴霧される微細液晶粒子等による装置の汚染を防止する又は噴霧される領域を選択的に制限するためのガイドを更に含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶噴射装置。
11. 第1基板及び第2基板を提供する段階と、
    前記第1基板又は第2基板上に、液晶容器と、前記液晶容器から供給された液晶を複数個の微細粒子状に変換する変換手段を具備したノズルとを含むスプレーを利用して液晶を噴射する段階と、
    前記第1基板又は第2基板上にシールパターンを形成する段階と、
    前記第1基板と前記第2基板とをお互いに合着する段階とを含む液晶表示装置の製造方法。
12. 前記変換手段には、液晶を微細粒子状に変換するためのガスを供給するガス注入口が具備されたことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
13. 前記変換手段により液晶を変換した微細粒子形状の大きさは、注入されるガス圧力によって調節されることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。
14. 前記供給するガスは、空気、 N_２、 H_２、及びこれらの混合物のうち何れかひとつであることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。
15. 前記ノズルは、液晶容器から液晶を供給させるための液晶注入口を更に含むことを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。
16. 前記変換手段は、超音波変換子であることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
17. 前記変換手段により液晶を変換した微細粒子形状の大きさは、超音波変換子の振動周波数によって調節されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置の製造方法。
18. 前記超音波変換子の振動周波数は、制御部によってコントロールされることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法。
19. 前記超音波変換子は、電源端子によってコントローラーと連結されていることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法。
20. 前記ノズルは、前記第1基板又は前記第2基板上の選択領域に液晶を噴射するためのガイドを更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
    

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