JP2006186380A - Z位置の誤差/ばらつき、及び基板テーブルの平坦度を決定するためのリソグラフィ装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ投影装置は、放射ビームを提供する照明系と、ビーム断面にパターンを与えるパターン形成装置を支持する支持体と、基板Wを保持する基板テーブルWTと、パターンが形成された放射を基板Wのターゲット部分に投影する投影システムと、基板テーブルWT上の基板の水準を複数の異なる位置で検知する複数のレベル・センサLSと、基板テーブルWTの位置を決定するシステムとを含む。基板Wとレベル・センサの配列の間で、第1の測定値が得られる第1の位置から他の測定値が得られる複数の重複した点への相対移動を生じさせる制御装置と、重複した測定値を用いてZ位置の誤差の値、及び/又は基板テーブルWTの非平坦性、及び/又はレベル・センサLSの位置/オフセットの値を算出する計算器も提供される。
【選択図】図2
Description
放射ビームを提供するように構成された照明系と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
基板テーブルのZ方向における位置を決定するためのシステムと、
基板テーブルに支持された基板のレベル(水準)を複数の異なる位置で検知するための複数のレベル・センサと、
基板テーブルとレベル・センサの配列との間に相対移動を生じさせて、複数のレベル・センサのそれぞれを基板上の第1の点における測定を行う位置へ移動可能にすることによって1組の重複した測定値を提供し、且つ複数のレベル・センサを基板上の少なくとも1つの他の測定点へ移動可能にすることによって重複した測定値の他の組を提供するように構成された制御装置と、
レベル・センサの重複した測定値の組を用いて、位置の誤差/ばらつきの値、基板テーブルの非平坦性の値、及びレベル・センサの位置/オフセットの値のうちの少なくとも1つを算出するための計算器とを含むリソグラフィ投影装置が提供される。
基板とレベル・センサの配列との間で相対移動を生じさせて、複数のレベル・センサのそれぞれを基板上の第1の点における測定を行う位置へ移動可能にし、それにより重複した測定値の第1の組を提供する段階と、
基板とレベル・センサの配列との間で相対移動を生じさせて、複数のレベル・センサを基板上の少なくとも1つの他の測定点へ移動させ、それによって少なくとも1つの重複した測定値の他の組を提供する段階と、
重複した測定値の組を用いて、Z位置の誤差の値、及び/又は基板テーブルの非平坦性、及び/又はレベル・センサの位置/オフセットの値を算出する段階とを含む方法が提供される。
基板とレベル・センサの配列との間で相対移動を生じさせて、複数のレベル・センサのそれぞれを基板上の第1の点における測定を行う位置へ移動可能にし、それによって重複した測定値の第1の組を提供し、
基板とレベル・センサの配列との間の相対移動を生じさせて、複数のレベル・センサを基板上の少なくとも1つの他の測定点へ移動させ、それによって少なくとも1つの重複した測定値の他の組を提供し、
重複した測定値の組を用いて、位置の誤差の値、及び/又は基板テーブルの非平坦性、及び/又はレベル・センサの位置/オフセットの値を算出するように構成されたコード又は命令を有するコンピュータ・プログラム又はコンピュータ・プログラム製品が提供される。
0<ピッチ・測定値<ピッチ・LSスポット
でなければならない。測定値の重複が完全ではない場合には、測定値の線形補間、又はマップ及びウェハを記述するパラメータの数学的な調整によって、これを処理することができる。
vmeas(xWS,yWS)=dZ(X,Y)−xLSdRy(X,Y)+ctrue(xWS,yWS)+wtrue(xwaf,ywaf)+dzLS(xLS)
上式で、vmeasは測定されたウェハの厚さ/高さ、dZ並びにRyおよびdRyはそれぞれ、ミラーの非平坦性によるステージのZ位置並びにRy位置の誤差(ここで、Ryはy軸に対するウェハの回転位置)、ctrue及びwtrueはそれぞれ、ウェハのx位置及びy位置に応じたチャック及びウェハの真の高さ/非平坦性、xLSはLSスポットのx位置、dzLSはスポットの高さのz誤差である。
vmeas(xWS,yWS)=dZx(X)+dZy(Y)−xLSdRyx(X)−xLSdRyy(Y)+ctrue(xWS,yWS)+wtrue(xwaf,ywaf)+dzLS(xLS)
vmeas(xWS)=dZx(X)−xLSdRy(X)+vtrue(xWS)+dzLS(xLS)
上式で、vtrueはctrueとwtrue、すなわちチャックとウェハを組み合わせた効果を表している。あるウェハ搭載角度では、WSの座標における位置とウェハの座標における位置との間には決まった関係がある。さらに、x方向の1ラインを測定する場合、y方向は役割を持たない、すなわち一定の寄与をもたらすだけである。
上式で、v1〜v9などは単一の測定点における9個のレベル・センサそれぞれによって得られた測定値の組であり、全部で(2N+1)×9個の測定点がある。これらの式はすべてのレベル・センサによって測定されたウェハ上の点のみを考慮したものであることに留意すべきである。したがって、ウェハ上で1つのスポット又はスポットの一部しか測定することのできないxの末端位置に対する測定値は使用されない。
であり、行列Mはそれに応じたものである。
上式で、P=(2N+1)×9である。180°の場合、ウェハの添字は、0°の場合に対して反対になっている。測定値の両組からなる行列−ベクトル方程式を作成すると、x方向の1つのラインについてチャックとウェハの寄与を区別することができるようになる。
であり、やはり行列Mはそれに応じたものである。
これから、ウェハの平坦度w−N−4,・・・,wN+4を簡単に得ることが可能であり、したがって、チャックの平坦度c−N−4,・・・,cN+4を決めることができる。
vmeas(xWS,yWS)=dZx(X)+dZy(Y)−xLSdRyx(X)−xLSdRyy(Y)+ctrue(xWS,yWS)+wtrue(xwaf,ywaf)+dzLS(xLS)
IF 位置センサ、干渉計
IL 照明器
LS レベル・センサ
M1 Xミラー
M2 傾斜ミラー
MA パターン形成装置、マスク
MT 支持体、マスク・テーブル、対象物テーブル
PB 放射ビーム
PL 投影システム
PM、PW 位置決め装置
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル、対象物テーブル、ウェハ・テーブル
ZM Zミラー
Claims (25)
- 放射ビームを提供するように構成された照明系と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板テーブルに支持された基板の水準を複数の異なる位置で検知するための複数のレベル・センサと、
前記基板テーブルの少なくともZ方向における位置を決定するためのシステムと、
前記基板と前記レベル・センサの配列との間に相対移動を生じさせて、前記複数のレベル・センサのそれぞれを前記基板上の第1の点における測定を行う位置へ移動可能にし、それにより重複した測定値の第1の組を提供し、且つ前記複数のレベル・センサのそれぞれを前記基板上の少なくとも1つの他の測定点へ移動可能にし、それにより重複した測定値の少なくとも1つの他の組を提供するように構成された制御装置と、
前記複数の重複した測定値を用いて、位置の誤差の値、基板テーブルの非平坦性の値、及びレベル・センサの位置/オフセットの値のうちの少なくとも1つを算出するための計算器とを含むリソグラフィ投影装置。 - 前記Z位置を決定するシステムがZミラーを含む請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記Z位置を決定するシステムがエンコーダを含む請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記制御装置が、実質的にセンサのピッチに相当する量の相対移動を生じさせるように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記制御装置がX方向に相対移動を生じさせるように構成され、前記レベル・センサが、複数のX位置のそれぞれにおける測定値を得るように動作可能である請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 2つ以上の異なる基板の搭載方向で測定値が得られるようになっている請求項5に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記制御装置が、X方向及びY方向に相対移動を生じさせるように構成され、前記レベル・センサが、複数のX位置のそれぞれ、及び複数のY位置のそれぞれにおける測定値を得るように動作可能である請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 2つ以上の異なる基板の搭載方向で重複した測定値が得られるようになっている請求項7に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記基板テーブルの位置を決定するシステムが干渉計システムである請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 放射源が体積線源である請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 放射源がプラズマ放射源である請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置の誤差が、Z位置、Y位置、X位置、X軸に対する回転位置、及びY軸に対する回転位置のうちの任意の1つ又は複数である請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- ビームの断面にパターンを与えるように構成されたパターン形成装置を支持するように構成された支持体と、パターンの付与された放射を基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 放射ビームを提供するように構成された照明系と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、前記基板テーブルに支持された基板の水準を複数の異なる位置で検知するための複数のレベル・センサと、前記基板テーブルの少なくともZ方向における位置を決定するためのシステムとを有するリソグラフィ・システムにおける、ミラーの平坦度及び/又はチャックの平坦度を測定する方法において、
前記基板と前記レベル・センサの配列との間で相対移動を生じさせて、前記複数のレベル・センサのそれぞれを移動可能にして、それにより前記基板上の第1の点において測定を行うことによって重複した測定値の第1の組を提供し、且つ少なくとも1つの他の測定点に対する測定を行うことによって少なくとも1つの重複した測定値の他の組を提供する段階と、
前記複数の重複した測定値を用いて、位置の誤差の値、基板テーブルの非平坦性、及びレベル・センサの位置/オフセットの値のうちの少なくとも1つを決定する段階とを含む方法。 - 前記相対移動がセンサのピッチに相当する量であり、それによって測定値の重複を確保する請求項14に記載された方法。
- 前記Z位置を決定するシステムがZミラーを含み、レベル・センサの各測定値が、Zミラーの高さ、基板の高さ、及びレベル・センサのスポットのオフセット誤差の関数である請求項15に記載された方法。
- 前記Z位置を決定するシステムがエンコーダを含み、レベル・センサの各測定値が、該エンコーダの少なくとも一部の高さ、基板の高さ、及びレベル・センサのスポットのオフセット誤差の関数である請求項15に記載された方法。
- 位置の誤差、基板テーブルの非平坦性、及びレベル・センサの位置/オフセットのうちの少なくとも1つを算出する前記段階が、それらを行列の形に変換することによって連立方程式を解く段階を含む請求項15に記載された方法。
- 前記位置の誤差が、Z位置、Y位置、X位置、X軸に対する回転位置、及びY軸に対する回転位置のうちの任意の1つ又は複数である請求項14に記載された方法。
- 前記重複した測定値を複数の異なるウェハの搭載角度で得る請求項14に記載された方法。
- 前記重複した測定値を複数の異なるY位置で得る請求項14に記載された方法。
- 前記リソグラフィ・システムが、ビームの断面にパターンを与えるように構成されたパターン形成装置を支持するように構成された支持体と、パターンの形成された放射を基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む請求項14に記載された方法。
- データ媒体若しくはコンピュータ可読媒体上のコンピュータ・プログラム、又はコンピュータ・プログラム製品において、該コンピュータ・プログラムがミラー及び/又はチャックの平坦度を決定するためのコード又は命令を有し、該コード又は命令が、
前記基板と前記レベル・センサの配列との間で相対移動を生じさせて、複数のレベル・センサのそれぞれを基板上の第1の点における測定を行う位置へ移動可能にすることによって重複した測定値の第1の組を提供し、
前記基板と前記レベル・センサの配列との間の相対移動を生じさせて、複数のレベル・センサのそれぞれを基板上の少なくとも1つの他の測定点へ移動させることによって少なくとも1つの重複した測定値の他の組を提供し、
前記複数の重複した測定値を用いて、位置の誤差の値、基板テーブルの非平坦性、及びレベル・センサの位置/オフセットの値のうちの少なくとも1つを決定するように構成されているコンピュータ・プログラム又はコンピュータ・プログラム製品。 - 請求項1から請求項23までのいずれか1項に記載された装置、方法又はコンピュータ・プログラムを用いて決定された位置の誤差の値、基板テーブルの非平坦性の値、及びレベル・センサの位置/オフセットの値のうちの少なくとも1つを用いる段階を含む、リソグラフィ装置の較正方法。
- レベル・センサの重複した測定値の組を用いる段階を含む、リソグラフィ装置における位置の誤差の値、基板テーブルの非平坦性の値、及びレベル・センサの位置/オフセットの値のうちの少なくとも1つを決定する方法において、各組が実質的に同じ位置で複数のセンサによって得られた測定値を含み、異なる組が異なる位置で得られた測定値を含む方法。
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