JP2006185679A - Organic el panel, organic el light-emitting device and manufacturing method of organic el panel - Google Patents

Organic el panel, organic el light-emitting device and manufacturing method of organic el panel Download PDF

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Kunio Masushige
邦雄 増茂
Yasuo Uno
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-reliability organic EL display; to provide an organic EL light-emitting device; and to provide a manufacturing method of an organic EL display. <P>SOLUTION: This organic EL panel in one embodiment of this application is provided with: an element substrate 10 with organic EL elements 9 formed thereon; a facing substrate 20 disposed so as to face the element substrate 10; a sealing seal 23 formed of a polymer material for sticking the element substrate 10 to the facing substrate 20 and for forming a sealed space between the element substrate 10 and the facing substrate 20; and a barrier film 25 formed of an inorganic substance as a main constituent, and covering the outside surface of the sealing seal 23 for shielding the sealing seal 23 from the outside. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有機ELパネル及び有機EL発光装置、並びに有機ELパネルの製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL panel, an organic EL light emitting device, and a method for manufacturing the organic EL panel.

近年、FPD(Flat Panel Display)として有機EL(ElectroLuminescence)ディスプレイが注目されている。有機ELディスプレイは、自発光表示素子であり、液晶表示素子と比較して視野角が広く、バックライトが不要なため薄型化が可能である。また、応答速度も速く、有機物が有する発光性の多様性から、次世代の表示装置として期待されている。   In recent years, an organic EL (ElectroLuminescence) display has attracted attention as an FPD (Flat Panel Display). An organic EL display is a self-luminous display element, has a wider viewing angle than a liquid crystal display element, and can be thinned because a backlight is unnecessary. In addition, it has a high response speed and is expected as a next-generation display device because of the variety of luminescent properties of organic substances.

有機ELディスプレイは、画素となる有機EL素子を複数配置した有機ELパネルを備えている。この有機ELパネルは、例えば、平行なストライプ状に配列された陽極と、当該陽極に交差するように、かつ、平行なストライプ状に配列された陰極との交差部の間に有機EL層が挟持された構造となっている。この一つの交差部に、発光素子としての画素が形成せしめられている。   The organic EL display includes an organic EL panel in which a plurality of organic EL elements serving as pixels are arranged. In this organic EL panel, for example, an organic EL layer is sandwiched between intersections between anodes arranged in parallel stripes and cathodes arranged in parallel stripes so as to intersect the anodes. It has a structured. A pixel as a light emitting element is formed at this one intersection.

有機ELパネルは、このような画素がマトリックス状に配列されることにより構成されている。この有機ELパネルは、携帯電話の表示器や光源などとしての利用が期待されている。その製法や各種のデバイス構造について多くの研究がなされ、詳細な報告がなされている(非特許文献1)。   The organic EL panel is configured by arranging such pixels in a matrix. This organic EL panel is expected to be used as a display or a light source for a mobile phone. Many studies have been made on the manufacturing method and various device structures, and detailed reports have been made (Non-Patent Document 1).

ところが、有機ELパネルは、時間経過により発光輝度、発光の均一性等の表示特性が劣化するという問題がある。有機ELパネル内の構成部品の表面に吸着している水分、あるいは有機ELパネル内に浸入した水分や酸素により発光層や有機層が劣化するためである。これにより、時間経過により画素領域の表示可能領域が減少する。そのため、本来表示領域であるにもかかわらず、経時的劣化等により表示できなくなってしまう幅(以下、「ダークフレーム量」という)を抑制する技術が重要となる。   However, the organic EL panel has a problem that display characteristics such as light emission luminance and light emission uniformity deteriorate with time. This is because the light-emitting layer and the organic layer are deteriorated by moisture adsorbed on the surface of the component in the organic EL panel, or moisture and oxygen that have entered the organic EL panel. As a result, the displayable area of the pixel area decreases with time. For this reason, a technique for suppressing a width (hereinafter referred to as “dark frame amount”) that cannot be displayed due to deterioration over time in spite of being a display area is important.

そこで、一般的に、有機ELパネルにおいては、有機EL素子はガラス基板上に形成され、もう1枚のガラス基板又は金属基板とシール樹脂とにより有機EL素子を覆うように貼り合わされている。これらの2枚の基板とシール樹脂とによって囲まれた封止空間には、窒素等の不活性気体又は不活性な液体が満たされている。これによって、有機ELパネル内に備えられた有機EL素子は外気と遮断するよう封止されている。   Therefore, in general, in an organic EL panel, an organic EL element is formed on a glass substrate, and is bonded so as to cover the organic EL element with another glass substrate or metal substrate and a sealing resin. The sealed space surrounded by these two substrates and the sealing resin is filled with an inert gas such as nitrogen or an inert liquid. Thereby, the organic EL element provided in the organic EL panel is sealed so as to be blocked from outside air.

さらに、封止された有機EL素子内に捕水材を配設している。捕水材としては、1)パウダー型、2)シート型(例えば、特許文献1、特許文献2)、3)ペースト型(例えば、特許文献3)のものが知られている。   Furthermore, a water catching material is disposed in the sealed organic EL element. As the water catching material, those of 1) powder type, 2) sheet type (for example, Patent Document 1, Patent Document 2), 3) paste type (for example, Patent Document 3) are known.

このような有機ELパネルにおいては、ガラス基板、金属基板の透過性は低く、これらの基板から水分や気体が浸入しないが、シール樹脂やシール樹脂と基板との界面からは水分や気体が浸入しやすい。有機ELパネル内に設けられた捕水材によって浸入した水分をある程度捕獲することができるが、有機EL素子の信頼性を高め、信頼性の高い有機ELパネルを十分に実現することが困難であった。
「有機EL素子とその工業化最前線」 株式会社エヌ・ティ・エス出版、1998年11月30日 特開平13−354780号公報 特開2002−43055号公報 特開2003−317934号公報
In such an organic EL panel, the permeability of the glass substrate and the metal substrate is low, and moisture and gas do not enter from these substrates, but moisture and gas enter from the interface between the sealing resin and the sealing resin and the substrate. Cheap. Moisture that has entered the organic EL panel can be captured to some extent by the water-absorbing material provided in the organic EL panel, but it has been difficult to improve the reliability of the organic EL element and sufficiently realize a highly reliable organic EL panel. It was.
"Organic EL devices and the forefront of industrialization" NTT Publishing Co., Ltd., November 30, 1998 Japanese Patent Laid-Open No. 13-354780 JP 2002-43055 A JP 2003-317934 A

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、有機ELパネル内への水分や気体の浸入を抑制することにより、有機EL素子の耐久性を向上し信頼性の高い有機ELディスプレイ及び有機EL発光装置、並びに有機ELディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above background, and by suppressing the intrusion of moisture and gas into the organic EL panel, the durability of the organic EL element is improved and the organic EL display and the organic EL display are highly reliable. An object of the present invention is to provide an EL light emitting device and a method for manufacturing an organic EL display.

本発明の第1の態様にかかる有機ELパネルは、有機EL素子が形成された素子基板と、前記素子基板に対向するように配置された対向基板と、高分子材料から形成され、前記素子基板と前記対向基板とを貼り合せ、前記素子基板と前記対向基板との間において封止空間を形成する封止用シールと、無機物を主成分として形成され、前記封止用シールの外表面を覆い、前記封止用シールを外部から遮蔽するバリア膜とを備えたものである。これにより、有機EL素子の封止空間を形成する部位の中で相対的に遮蔽性の低い封止用シール部の遮蔽性を向上させ、このシール部から封止空間内に水分や気体が浸入するのを防止することができる。それゆえ、封止空間内の有機EL素子を保護することができ、信頼の高い有機ELディスプレイを実現することができる。   An organic EL panel according to a first aspect of the present invention includes an element substrate on which an organic EL element is formed, a counter substrate disposed so as to face the element substrate, and a polymer material. And the counter substrate, and a sealing seal that forms a sealing space between the element substrate and the counter substrate, and an inorganic substance as a main component, covering the outer surface of the sealing seal And a barrier film that shields the sealing seal from the outside. As a result, the shielding property of the sealing portion having a relatively low shielding property in the portion forming the sealing space of the organic EL element is improved, and moisture and gas enter the sealing space from this sealing portion. Can be prevented. Therefore, the organic EL element in the sealed space can be protected, and a highly reliable organic EL display can be realized.

本発明の第2の態様にかかる有機ELパネルは、前記封止空間の内部から外部に延在し、前記素子基板上に配設された配線又は回路と、当該有機ELパネルを駆動するために接続された外部配線とを、さらに備え、前記バリア膜は、前記配線及び前記回路を覆うとともに、前記配線及び前記回路と前記外部配線の接続部分とを覆うものである。これにより、バリア膜によって封止空間外の補助配線や外部配線を保護し、短絡等を防止することができる。   The organic EL panel according to the second aspect of the present invention extends from the inside of the sealing space to the outside, and drives the organic EL panel with wirings or circuits disposed on the element substrate. The barrier film further includes a connected external wiring, and the barrier film covers the wiring and the circuit, and covers a connection portion between the wiring and the circuit and the external wiring. Thereby, the auxiliary wiring and the external wiring outside the sealed space can be protected by the barrier film, and a short circuit or the like can be prevented.

本発明の第3の態様にかかる有機ELパネルは、前記バリア膜が、当該有機ELパネルの外表面全体を覆うものである。これにより、バリア膜によって、封止用シールと素子基板や対向基板との固着部分から封止空間内に水分や気体が浸入するのを防止することができるとともに、封止空間外の補助配線や外部配線を保護することができる。特に、封止用シールと素子基板の界面付近の遮蔽性が向上し、封止用シールと素子基板、対向基板との固着部分から封止空間内に水分や気体が浸入するのを防止することができる。また、バリア膜を全面に形成することによりバリア膜の形成工程を簡素化することが可能になる。   In the organic EL panel according to the third aspect of the present invention, the barrier film covers the entire outer surface of the organic EL panel. Thus, the barrier film can prevent moisture and gas from entering the sealing space from the fixing portion between the sealing seal and the element substrate or the counter substrate, and can also provide auxiliary wiring outside the sealing space. External wiring can be protected. In particular, the shielding performance near the interface between the sealing seal and the element substrate is improved, and moisture and gas are prevented from entering the sealing space from the fixing portion between the sealing seal and the element substrate and the counter substrate. Can do. In addition, by forming the barrier film over the entire surface, the barrier film forming process can be simplified.

本発明の第4の態様にかかる有機ELパネルは、前記バリア膜がシリカ膜であるものである。これにより、遮蔽性の高いバリア膜を容易かつ安価に実現することができる。   In the organic EL panel according to the fourth aspect of the present invention, the barrier film is a silica film. Thereby, a barrier film having a high shielding property can be realized easily and inexpensively.

本発明の第1の態様にかかる有機EL発光装置は、このような有機ELパネルを備えたものである。これにより、封止空間内に水分や気体が浸入するのを防止することができる。それゆえ、封止空間内の有機EL素子を保護することができ、信頼性の高い有機EL発光装置を実現することができる。   The organic EL light emitting device according to the first aspect of the present invention includes such an organic EL panel. Thereby, it is possible to prevent moisture and gas from entering the sealed space. Therefore, the organic EL element in the sealed space can be protected, and a highly reliable organic EL light emitting device can be realized.

本発明の第1の態様にかかる有機ELパネルの製造方法は、封止用シ−ルを備えた有機ELパネルを形成するステップと、前記封止用シールの外表面を覆うように、前記封止用シールを外部から遮蔽するバリア膜を生成するステップと、前記有機ELパネルの封止空間内部の電極に接続され、封止空間外部に引き出された補助配線と当該有機ELパネルを駆動するための駆動回路に接続された外部配線とを接続するステップとを、備え、前記補助配線と外部配線とを接続するステップの後に、前記バリア膜が前記封止空間の外部の補助配線及び前記外部配線を覆うように前記バリア膜を生成するステップを行うものである。   The organic EL panel manufacturing method according to the first aspect of the present invention includes a step of forming an organic EL panel provided with a sealing seal, and the sealing so as to cover an outer surface of the sealing seal. A step of generating a barrier film that shields the stop seal from the outside, and an auxiliary wiring that is connected to an electrode inside the sealing space of the organic EL panel and led out of the sealing space and driving the organic EL panel And connecting the external wiring connected to the driving circuit of the auxiliary wiring and the external wiring after the step of connecting the auxiliary wiring and the external wiring. The step of generating the barrier film so as to cover the film is performed.

本発明の第2の態様にかかる有機ELパネルの製造方法は、前記バリア膜を形成する工程は、当該有機ELパネルを成膜溶液に浸積するステップと、前記浸積した有機ELパネルにバリア膜を生成するステップとを有するものである。これにより、遮蔽性の高いバリア膜を容易に形成することができる。   In the method of manufacturing an organic EL panel according to the second aspect of the present invention, the step of forming the barrier film includes a step of immersing the organic EL panel in a film forming solution, and a barrier to the immersed organic EL panel. Forming a film. Thereby, a barrier film with high shielding properties can be easily formed.

本発明によれば、信頼性の高い有機ELディスプレイ及び有機EL発光装置、並びに有機ELディスプレイの製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a highly reliable organic EL display and organic EL light emitting device, and a method for manufacturing the organic EL display.

以下に、本発明を適用可能な実施の形態の説明をする。以下の説明は、本発明の実施形態についてのものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Embodiments to which the present invention can be applied will be described below. The following description is about the embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment.

図1は、本実施形態にかかる有機ELパネルの構成を示す模式的上面図である。図2は、図1中のA−A’断面図である。図1に示すように、本実施形態にかかる有機ELパネル100は、陽極配線1、陰極配線3、陰極補助配線4、画素開口部5、開口絶縁膜6、陰極隔壁7、コンタクトホール8、素子基板10を備えている。また、図2に示すように、本実施形態にかかる有機ELパネル100は、有機EL素子9、捕水材22、対向基板20を備えている。   FIG. 1 is a schematic top view showing the configuration of the organic EL panel according to the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ in FIG. 1. As shown in FIG. 1, an organic EL panel 100 according to this embodiment includes an anode wiring 1, a cathode wiring 3, a cathode auxiliary wiring 4, a pixel opening 5, an opening insulating film 6, a cathode partition wall 7, a contact hole 8, and an element. A substrate 10 is provided. As shown in FIG. 2, the organic EL panel 100 according to this embodiment includes an organic EL element 9, a water catching material 22, and a counter substrate 20.

素子基板10としては、例えば、無アルカリガラス基板(例えば、旭硝子社製AN100)、又は、アルカリガラス基板(例えば、旭硝子社製AS)を用いることができる。素子基板10の厚みは、特に限定されないが、例えば0.7〜1.1mmのものを用いることが好ましい。   As the element substrate 10, for example, an alkali-free glass substrate (for example, AN100 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) or an alkali glass substrate (for example, AS manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) can be used. The thickness of the element substrate 10 is not particularly limited, but it is preferable to use a thickness of 0.7 to 1.1 mm, for example.

陽極配線1は、図1に示すように素子基板10上に複数本備え、それぞれが平行となるように配設されている。陽極配線1の材料としては、例えばITOを用いることが好ましい。陽極配線1は、素子基板10の端部側において異方性導電膜(以下、「ACF」と略記する)を介してFPC(Flexible Printed Circuit board)やTCP(Tape Career Package)等の外部配線と接続するための金属パッドとして機能する。このように構成することにより、外部に設けられた駆動回路から陽極配線1に電流が供給されることになる。また、ITOを用いて形成された陽極配線1の下に、CF、CCM、オーバーコート(平坦化膜)、バリア膜等を設けてもよい。   As shown in FIG. 1, a plurality of anode wirings 1 are provided on the element substrate 10 and are arranged so as to be parallel to each other. As a material for the anode wiring 1, for example, ITO is preferably used. The anode wiring 1 is connected to external wiring such as FPC (Flexible Printed Circuit board) and TCP (Tape Career Package) via an anisotropic conductive film (hereinafter abbreviated as “ACF”) on the end side of the element substrate 10. Functions as a metal pad for connection. With this configuration, a current is supplied to the anode wiring 1 from an external drive circuit. Further, CF, CCM, overcoat (planarization film), barrier film, etc. may be provided under the anode wiring 1 formed using ITO.

陰極配線3は、図1に示すように複数本備え、それぞれが平行となるよう、かつ、上記陽極配線1と直交するように配設されている。陰極配線3は、通常はAl又はAl合金を使用する。陰極補助配線4は、陰極配線3の端部において陰極配線3とコンタクトホール8を介して電気的に接続され、平行となるように配置されている。この陰極補助配線4は、陰極配線3端部から素子基板10の端部に向けて延設されている。したがって、陰極配線3と同じ本数の陰極補助配線4が形成されている。陰極補助配線4は、その端部側においてFPCやTCP等の外部配線42と接続するための金属パッドとして機能する。また、陰極補助配線4は、多層構造又は単層構造の金属膜により形成することができる。   A plurality of cathode wirings 3 are provided as shown in FIG. 1 and are arranged so as to be parallel to each other and to be orthogonal to the anode wiring 1. The cathode wiring 3 usually uses Al or an Al alloy. The cathode auxiliary wiring 4 is electrically connected to the cathode wiring 3 via the contact hole 8 at the end of the cathode wiring 3 and arranged in parallel. The cathode auxiliary wiring 4 extends from the end of the cathode wiring 3 toward the end of the element substrate 10. Therefore, the same number of cathode auxiliary wires 4 as the cathode wires 3 are formed. The cathode auxiliary wiring 4 functions as a metal pad for connecting to an external wiring 42 such as FPC or TCP on the end side. The auxiliary cathode wiring 4 can be formed of a metal film having a multilayer structure or a single layer structure.

開口絶縁膜6は、陽極配線1、及び陰極補助配線4上にその一部を覆うように形成されている(図1及び図2参照)。そして、陽極配線1と陰極配線3が交差する位置に、表示画素領域となる画素開口部5が設けられている。有機EL素子9は、図2に示すように開口絶縁膜6の上に形成されており、陽極配線1と陰極配線3とに挟持された構造となっている。有機EL素子9は、例えば、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層により構成された有機EL層である。   The opening insulating film 6 is formed on the anode wiring 1 and the cathode auxiliary wiring 4 so as to cover a part thereof (see FIGS. 1 and 2). A pixel opening 5 serving as a display pixel region is provided at a position where the anode wiring 1 and the cathode wiring 3 intersect. The organic EL element 9 is formed on the opening insulating film 6 as shown in FIG. 2 and has a structure sandwiched between the anode wiring 1 and the cathode wiring 3. The organic EL element 9 is an organic EL layer configured by, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

陰極隔壁7は、図1に示すように陰極配線3と平行に配設されている。陰極隔壁7は、陰極配線3の配線同士が導通しないように、複数の陰極配線3を空間的に分離する。陰極隔壁7の断面形状は、素子基板10から離間するにつれて断面幅(図1中のB方向)が大きくなる形状(逆テーパ形状)のことをいう。これにより、陰極隔壁7の側壁及び立ち上がり部分が陰となり、後述する陰極配線3の製造工程において、複数の陰極配線3を空間的に分離しやすくすることができる。   The cathode partition 7 is disposed in parallel with the cathode wiring 3 as shown in FIG. The cathode partition 7 spatially separates the plurality of cathode wirings 3 so that the wirings of the cathode wirings 3 do not conduct with each other. The cross-sectional shape of the cathode barrier 7 refers to a shape (reverse taper shape) in which the cross-sectional width (the B direction in FIG. 1) increases as the distance from the element substrate 10 increases. Thereby, the side wall and the rising portion of the cathode partition wall 7 are shaded, and the plurality of cathode wirings 3 can be easily separated spatially in the manufacturing process of the cathode wiring 3 to be described later.

上記素子基板10は、対向基板20とシール材を介して貼り合わせられ、有機EL素子9等が設けられた空間が封止せしめられている。封止を行うのは、有機EL素子9が空気中の水分により劣化するのを避けるためである。対向基板20上であって、上記封止された空間内には上述した有機EL素子9や陰極配線3等と間隙をもって捕水材22が配設されている。すなわち、陽極配線1、有機EL素子9、及び陰極配線3等を有し、有機EL素子となる積層体から離間して捕水材22が配設される。   The element substrate 10 is bonded to the counter substrate 20 via a sealing material, and a space in which the organic EL element 9 and the like are provided is sealed. The reason for sealing is to prevent the organic EL element 9 from deteriorating due to moisture in the air. On the counter substrate 20, a water capturing material 22 is disposed in the sealed space with a gap from the organic EL element 9, the cathode wiring 3, and the like described above. That is, it has the anode wiring 1, the organic EL element 9, the cathode wiring 3, etc., and the water catching material 22 is disposed away from the laminate that becomes the organic EL element.

捕水材22としては物理吸着性捕水材と化学吸着性捕水材等が利用可能である。物理吸着性捕水材としてはシリカゲルや合成ゼオライトなどがあり、化学吸着性捕水材としては、五酸化燐や塩化カルシウムなどがある。また、捕水材22としては、アルカリ土類金属酸化物と不活性油を主成分とする捕水材を使用することができる。アルカリ土類金属酸化物としては、例えば、BaO、CaO、MgO、を挙げることができる。不活性油としては、本発明の趣旨に反しない限り公知のものを用いることができる。好適には、フッ素系油やシリコーン系油を用いることができる。   As the water catching material 22, a physical adsorptive water catching material, a chemical adsorptive water catching material or the like can be used. Examples of the physically adsorbing water capturing material include silica gel and synthetic zeolite, and examples of the chemisorbing water capturing material include phosphorus pentoxide and calcium chloride. Moreover, as the water catching material 22, a water catching material mainly composed of an alkaline earth metal oxide and an inert oil can be used. Examples of the alkaline earth metal oxide include BaO, CaO, and MgO. As the inert oil, known oils can be used as long as they are not contrary to the gist of the present invention. Preferably, fluorine oil or silicone oil can be used.

封止用シール23は、素子基板10と対向基板20の両者に固着し、これらの素子基板10と対向基板20を貼り合わしている。これによって、素子基板10と対向基板20との間に、封止空間が形成されている。封止用シール23の材料としては、高分子材料であり、例えば、光カチオン重合型エポキシ樹脂などの感光性エポキシ樹脂を好適に用いることができる。また例えば、封止用シール23の幅は2mm程度とすることができ、その高さは20μm程度とすることができる。   The sealing seal 23 is fixed to both the element substrate 10 and the counter substrate 20, and the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together. As a result, a sealing space is formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. The material of the sealing seal 23 is a polymer material, and for example, a photosensitive epoxy resin such as a cationic photopolymerization type epoxy resin can be suitably used. Further, for example, the width of the sealing seal 23 can be about 2 mm, and the height thereof can be about 20 μm.

バリア膜25は、封止用シール23上に覆設され、この封止用シール23を外部から遮蔽している。詳細には、バリア膜25は、素子基板10と封止用シール23との固着部分の外表面を覆い、それとともに対向基板20と封止用シール23との固着部分の外表面を覆っている。従って、バリア膜25は、封止用シール23と素子基板10、対向基板20との固着部分を外部から遮蔽している。また、バリア膜25は、封止用シール23全体の外表面を覆うように設けられ、本実施形態においては、有機ELパネル100全体の外表面を覆って有機ELパネル100全体を外部から遮蔽している。   The barrier film 25 is covered on the sealing seal 23 and shields the sealing seal 23 from the outside. Specifically, the barrier film 25 covers the outer surface of the fixing portion between the element substrate 10 and the sealing seal 23, and also covers the outer surface of the fixing portion between the counter substrate 20 and the sealing seal 23. . Therefore, the barrier film 25 shields the fixing portion between the sealing seal 23 and the element substrate 10 and the counter substrate 20 from the outside. The barrier film 25 is provided so as to cover the entire outer surface of the sealing seal 23. In this embodiment, the barrier film 25 covers the entire outer surface of the organic EL panel 100 and shields the entire organic EL panel 100 from the outside. ing.

バリア膜25は、無機薄膜を形成する化合物を含んだ成膜溶液から析出、膜状化して形成される無機薄膜から形成される。すなわち、バリア膜25は、無機物を主成分とする膜から形成されている。ここで、成膜溶液とは、この無機薄膜を形成する化合物を含んだ液である。この無機薄膜は、複雑形状に追従できる成膜性と封止材以上の遮蔽性及び安定性が求められる。このようなの条件を満たすバリア膜25としては、無機物を主成分とする膜が好ましく、成膜時の透明性に優れ、絶縁性も高いシリカ膜がさらに好ましい。また、無機物を主成分とする膜の成膜法としては、周知のさまざまな方法が適用可能であるが、成膜溶液に用いる可溶性化合物として、4官能性の加水分解性シラン化合物やその部分加水分解縮合物、シリコーン系熱硬化性化合物およびポリシラザンなどがある。   The barrier film 25 is formed from an inorganic thin film formed by deposition from a film forming solution containing a compound that forms an inorganic thin film. That is, the barrier film 25 is formed of a film containing an inorganic substance as a main component. Here, the film-forming solution is a liquid containing a compound that forms this inorganic thin film. This inorganic thin film is required to have a film forming property capable of following a complicated shape and a shielding property and stability higher than those of a sealing material. As the barrier film 25 satisfying such conditions, a film containing an inorganic substance as a main component is preferable, and a silica film having excellent transparency and high insulating properties is more preferable. Various known methods can be applied as a method for forming a film containing an inorganic substance as a main component. As a soluble compound used in a film forming solution, a tetrafunctional hydrolyzable silane compound or a partially hydrolyzed silane compound can be used. There are decomposition condensates, silicone-based thermosetting compounds and polysilazanes.

4官能性の加水分解性シラン化合物やその部分加水分解縮合物としては、例えばテトラアルコキシシランやその部分加水分解縮合物がある。緻密なシリカ膜を生成するポリシラザンを成膜溶液として用いることがさらに好ましく、平坦性及び表面特性の優れたバリア膜を得ることができる。また、成膜溶液の自然乾燥によってもシリカ膜の成膜は可能であるが、より緻密なシリカ膜を生成するため、加熱乾燥、焼成、紫外線硬化などの手法を利用することが可能である。また、成膜反応の促進のため触媒や成膜助剤を用いることも可能である。   Examples of the tetrafunctional hydrolyzable silane compound and its partial hydrolysis condensate include tetraalkoxysilane and its partial hydrolysis condensate. It is more preferable to use polysilazane that forms a dense silica film as a film forming solution, and a barrier film having excellent flatness and surface characteristics can be obtained. The silica film can also be formed by natural drying of the film forming solution. However, in order to form a denser silica film, it is possible to use techniques such as heat drying, baking, and ultraviolet curing. Further, it is possible to use a catalyst or a film forming aid for promoting the film forming reaction.

バリア膜25の膜厚は、薄すぎると遮蔽性の低下や異物等の突起に対する被覆性の低下が発生し、厚すぎると亀裂が入りやすくなり、遮蔽性の低下や均一性の低下が生じる。そのため、バリア膜25の膜厚は、30nm〜3μm程度が好ましく、100nm〜1μm程度が付着物等を覆うことができ、かつ耐クラック性が低下しないためより好ましい。   If the film thickness of the barrier film 25 is too thin, the shielding property is deteriorated and the covering property against protrusions such as foreign matters is deteriorated. If the film is too thick, cracks are easily generated, and the shielding property and uniformity are deteriorated. Therefore, the film thickness of the barrier film 25 is preferably about 30 nm to 3 μm, and about 100 nm to 1 μm is more preferable because it can cover deposits and the like and crack resistance does not decrease.

次に、本実施形態にかかる有機EL発光装置の製造方法について図1〜6を用いつつ説明する。なお、下記の製造工程は有機EL発光装置の場合における典型的な一例であり、本発明の趣旨に合致する限り他の製造方法を採用することができることは言うまでもない。図3は、本実施形態にかかる有機EL発光装置の製造工程を示すフローチャートである。図4は、有機ELパネル100の構成を示す断面図である。図5は、浸漬中の有機ELパネル100の構成を示す断面図、乾燥後の有機ELパネル100の構成を示す断面図である。   Next, a method for manufacturing the organic EL light emitting device according to this embodiment will be described with reference to FIGS. In addition, the following manufacturing process is a typical example in the case of an organic EL light-emitting device, and it cannot be overemphasized that other manufacturing methods can be employ | adopted as long as it agree | coincides with the meaning of this invention. FIG. 3 is a flowchart showing manufacturing steps of the organic EL light emitting device according to this embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view showing the configuration of the organic EL panel 100. FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration of the organic EL panel 100 during immersion, and a cross-sectional view showing a configuration of the organic EL panel 100 after drying.

ステップS1として、素子基板10上に陽極配線1及び陰極補助配線4を形成する。例えば、スパッタや蒸着を用いて、ITO等の陽極配線材料を素子基板10全面に均一性よく成膜する。その後、フォトリソグラフィー工程及びエッチング工程により、成膜された陽極配線材料をパターニングする。これにより陽極配線1が形成される。例えば、フォトリソグラフィー工程では、レジストとしてフェノールノボラック樹脂を使用する。エッチング工程では、ウエットエッチング法を採用し、処理液として塩酸及び塩酸第2鉄の混合水溶液を使用する。剥離液として、例えばモノエタノールアミン水溶液を使用する。   As step S <b> 1, the anode wiring 1 and the cathode auxiliary wiring 4 are formed on the element substrate 10. For example, an anode wiring material such as ITO is formed on the entire surface of the element substrate 10 with good uniformity by sputtering or vapor deposition. Thereafter, the formed anode wiring material is patterned by a photolithography process and an etching process. Thereby, the anode wiring 1 is formed. For example, in the photolithography process, phenol novolac resin is used as a resist. In the etching process, a wet etching method is employed, and a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and ferric hydrochloric acid is used as a treatment liquid. As the stripping solution, for example, a monoethanolamine aqueous solution is used.

陰極補助配線4は、例えば、スパッタや蒸着によって成膜したAl又はAl合金などの低抵抗な金属材料を、フォトリソグラフィー工程及びエッチング工程によりパターニングして形成することができる。例えば、ウエットエッチング法を採用する場合には、処理液として燐酸、酢酸、硝酸の混合水溶液よりなるエッチング液を使用する。また、下地との密着性向上や、腐食防止等の観点からAl膜の下層又は上層にTiNやCr等のバリア層を形成して、補助配線を多層構造体とすることができる。例えば、DCスパッタ法により、総厚が450nmのCr/Al/Crの多層構造体を成膜する。なお、陽極材料と補助配線材料とを順に成膜した後に、補助配線材料と陰極配線材料とを順番にパターニングすることも可能である。   The cathode auxiliary wiring 4 can be formed, for example, by patterning a low-resistance metal material such as Al or Al alloy formed by sputtering or vapor deposition through a photolithography process and an etching process. For example, when the wet etching method is employed, an etching solution made of a mixed aqueous solution of phosphoric acid, acetic acid, and nitric acid is used as the processing solution. In addition, from the viewpoint of improving adhesion to the base and preventing corrosion, a barrier layer such as TiN or Cr can be formed in the lower layer or upper layer of the Al film to make the auxiliary wiring a multilayer structure. For example, a Cr / Al / Cr multilayer structure having a total thickness of 450 nm is formed by DC sputtering. It is also possible to pattern the auxiliary wiring material and the cathode wiring material in order after forming the anode material and the auxiliary wiring material in order.

その後、ステップS2として、開口絶縁膜7を形成する。開口絶縁膜材料としては、例えば感光性ポリイミドを用いることができる。例えば、スピンコーティングによりポリイミドを成膜する。成膜された開口絶縁膜材料は、表示領域となる画素開口部5及びコンタクトホール8が開口せしめられるようにパターニングされる。感光性ポリイミドを用いる場合には、露光工程、現像工程の後にキュア工程を行い、図1及び図2に示すような画素開口部5及びコンタクトホール8を有する開口絶縁膜6のパターンを得る。   Thereafter, as step S2, an opening insulating film 7 is formed. As the opening insulating film material, for example, photosensitive polyimide can be used. For example, a polyimide film is formed by spin coating. The formed opening insulating film material is patterned so that the pixel opening 5 and the contact hole 8 serving as a display area are opened. In the case of using photosensitive polyimide, a curing process is performed after the exposure process and the development process, and a pattern of the opening insulating film 6 having the pixel opening 5 and the contact hole 8 as shown in FIGS. 1 and 2 is obtained.

続いて、ステップS3として陰極隔壁6を形成する。例えば、感光性ノボラック樹脂、感光性アクリル樹脂等をスピンコート法によって成膜した後、複数の陰極配線3が形成される位置の間隙に、図1に示すように陰極配線3と平行になるようにパターニングを行う。また、ネガタイプの感光性樹脂を用いると、露光工程において、陰極隔壁7の下層位置ほど光反応が不十分となり逆テーパ構造を容易に形成できる。なお、このステップS3の後に、絶縁膜に形成された画素開口部5により露出するITO層の表面改質を行うために、酸素プラズマ又は紫外線を照射する工程を加えてもよい。   Subsequently, the cathode barrier 6 is formed as step S3. For example, after a photosensitive novolac resin, a photosensitive acrylic resin, or the like is formed by spin coating, the gap between the positions where the plurality of cathode wirings 3 are formed is parallel to the cathode wirings 3 as shown in FIG. Patterning is performed. In addition, when a negative type photosensitive resin is used, in the exposure process, the lower the position of the cathode partition wall 7, the less the photoreaction, and the reverse taper structure can be easily formed. In addition, after this step S3, in order to modify the surface of the ITO layer exposed by the pixel opening 5 formed in the insulating film, a step of irradiating oxygen plasma or ultraviolet light may be added.

続いて、ステップS4として有機EL素子9を構成する有機EL層をマスク蒸着する。例えば、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層を順次蒸着する。さらに、ステップS5として、例えばAl等の陰極配線材料をマスク蒸着することによって陰極配線3を形成する。マスク蒸着に変えて、スパッタリング、イオンプレーティングなどの他の物理的気相成長法(PVD)により形成してもよい。以上の工程により、素子基板10上には複数の有機EL素子9が形成される。   Subsequently, in step S4, an organic EL layer constituting the organic EL element 9 is mask-deposited. For example, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are sequentially deposited. Further, as step S5, the cathode wiring 3 is formed by mask vapor deposition of a cathode wiring material such as Al. Instead of mask vapor deposition, another physical vapor deposition method (PVD) such as sputtering or ion plating may be used. Through the above steps, a plurality of organic EL elements 9 are formed on the element substrate 10.

次に、有機EL素子9を封止するための対向基板を製造する工程について説明する。まず、対向基板20上に凹部形状の捕水材収容部21をエッチングやサンドブラスト等により複数設ける。捕水材収容部21は、図4に示すように素子基板10上に設けられた有機EL素子9と対向する位置に離間して設ける。封止空間内の水分を捕獲するための捕水材22を有機EL表示領域11と対向する位置に設けるためである。   Next, a process for manufacturing a counter substrate for sealing the organic EL element 9 will be described. First, a plurality of recessed water catching material accommodating portions 21 are provided on the counter substrate 20 by etching or sandblasting. As shown in FIG. 4, the water catching material accommodating portion 21 is provided at a position facing the organic EL element 9 provided on the element substrate 10. This is because a water capturing material 22 for capturing moisture in the sealed space is provided at a position facing the organic EL display region 11.

続いて、ステップS6として対向基板20の捕水材収容部21が設けられている面側に、図4に示すように封止用シール23、飛散防止用シール24を塗布する。封止用シール23は、図4に示すように捕水材収容部21が設けられている凹部を囲む外枠部に塗布する。この封止用シール23は、有機EL表示領域11を封止する役割を担う。陰極補助配線4及び陽極配線1は、後述する外部の駆動回路と接続させるために、封止用シール23外まで延設されるようにする。飛散防止用シール24は、図4に示すように各有機ELパネル同士の間隙の中央部付近に設けられる。飛散防止用シール24は、後述する各有機ELパネルを分離するための基板の切断時に、切断端材が飛散するのを防止する役割を担う。   Subsequently, as shown in FIG. 4, as shown in FIG. 4, a sealing seal 23 and a scattering prevention seal 24 are applied to the surface side of the counter substrate 20 where the water catching material accommodating portion 21 is provided as step S <b> 6. As shown in FIG. 4, the sealing seal 23 is applied to the outer frame portion surrounding the recess in which the water catching material accommodation portion 21 is provided. The sealing seal 23 plays a role of sealing the organic EL display region 11. The cathode auxiliary wiring 4 and the anode wiring 1 are extended to the outside of the sealing seal 23 so as to be connected to an external drive circuit described later. As shown in FIG. 4, the anti-scattering seal 24 is provided near the center of the gap between the organic EL panels. The scattering prevention seal 24 plays a role of preventing the cut end material from scattering when the substrate for separating each organic EL panel described later is cut.

その後、ステップS7として、塗布ノズルによりペースト状の捕水材22を塗布する。この塗布量は、捕水材収容部21の大きさに応じて適宜変更して適切な量が塗布されるようにする。上記各シール材は、ディスペンサ等を用いて塗布することができる。封止用シール23の材料としては、光カチオン重合型エポキシ樹脂などの感光性エポキシ樹脂を好適に用いることができる。飛散防止用シール24にも同じ材料を使用することができる。これにより、製造工程を簡略化することができる。以上のようにして、対向基板20を製造する。   Thereafter, as step S7, a paste-like water catching material 22 is applied by an application nozzle. This application amount is appropriately changed according to the size of the water catching material accommodation portion 21 so that an appropriate amount is applied. Each of the sealing materials can be applied using a dispenser or the like. As a material for the sealing seal 23, a photosensitive epoxy resin such as a cationic photopolymerization type epoxy resin can be suitably used. The same material can be used for the anti-scattering seal 24. Thereby, a manufacturing process can be simplified. The counter substrate 20 is manufactured as described above.

次に、ステップS8として素子基板10と対向基板20とを貼り合わせる。素子基板10と対向基板20とを位置合わせした後に、両基板を加圧し、各シール材にUV光を照射する。これにより、素子基板10と対向基板20とが接着せしめられる。これにより、有機EL素子9が形成された表示領域が封止される。   Next, in step S8, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together. After aligning the element substrate 10 and the counter substrate 20, both substrates are pressurized, and each sealing material is irradiated with UV light. Thereby, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together. Thereby, the display area in which the organic EL element 9 is formed is sealed.

続いて、ステップS9として素子基板10と対向基板20とが貼り合わされた基板を切断分離し、有機ELパネル100ごとに分割する。その後、ステップS10として、この有機ELパネル100に外部配線や駆動回路等を実装する。封止用シール23の外側まで延設された陰極補助配線4及び陽極配線1の端部に、ACFを貼り付け、駆動回路が設けられたFPCやTCP等の外部配線41と接続する。そして、配線が接続された有機ELパネル100が完成する。   Subsequently, in step S <b> 9, the substrate on which the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded is cut and separated, and is divided for each organic EL panel 100. Thereafter, as step S10, external wiring, a drive circuit, and the like are mounted on the organic EL panel 100. ACF is attached to the ends of the cathode auxiliary wiring 4 and the anode wiring 1 extending to the outside of the sealing seal 23 and connected to an external wiring 41 such as FPC or TCP provided with a drive circuit. Then, the organic EL panel 100 to which the wiring is connected is completed.

最後に、ステップS11として、封止用シール23によって封止され、配線接続済みの有機ELパネル100を容器26内の成膜溶液27に浸漬する(図5参照)。ここで、成膜溶液27としては、例えば、ポリシラザン溶液等が用いられる。その後、配線接続済みの有機ELパネル100は、100℃程度の温度下で10〜30分程度加熱乾燥され、配線接続済みの有機ELパネル100の外表面に付着した成膜溶液27からバリア膜25が生成される。これにより、配線接続済みの有機ELパネル100の外表面全体にシリカ膜からなるバリア膜25が形成され、本発明にかかる有機ELパネル100が完成する。そして、このバリア膜25で覆われた有機ELパネル100を筐体に取り付け、有機EL発光装置が完成する(図6参照)。このとき、バリア膜25は、陰極補助配線4及び陽極配線1、さらには、これらに接続された外部配線41にも形成されている。ここで、このシリカ膜は無色透明なので、有機ELパネル100の発光面に膜形成されても全く問題とならない。   Finally, as step S11, the organic EL panel 100 sealed with the sealing seal 23 and connected to the wiring is immersed in the film forming solution 27 in the container 26 (see FIG. 5). Here, as the film-forming solution 27, for example, a polysilazane solution or the like is used. Thereafter, the wiring-connected organic EL panel 100 is heated and dried at a temperature of about 100 ° C. for about 10 to 30 minutes, and the barrier film 25 is formed from the film-forming solution 27 attached to the outer surface of the wiring-connected organic EL panel 100. Is generated. Thereby, the barrier film 25 made of a silica film is formed on the entire outer surface of the organic EL panel 100 that has been connected to the wiring, and the organic EL panel 100 according to the present invention is completed. Then, the organic EL panel 100 covered with the barrier film 25 is attached to the housing to complete the organic EL light emitting device (see FIG. 6). At this time, the barrier film 25 is also formed on the cathode auxiliary wiring 4 and the anode wiring 1 and also on the external wiring 41 connected thereto. Here, since this silica film is colorless and transparent, there is no problem even if it is formed on the light emitting surface of the organic EL panel 100.

以上のように、本発明にかかる有機ELパネル100においては、バリア膜25によって封止用シール23の遮蔽性能を改善することができる。特に、バリア膜25は、シリカ膜等の無機薄膜によって形成されている。この無機薄膜の遮蔽性が高分子材料を用いて形成された封止用シール23に比べて遥かに高いため、無機薄膜のバリア膜25は、封止用シール23よりも水分や気体を透過しにくい。それゆえ、バリア膜25は、水分や気体が外部から封止用シール23を通って封止空間内に浸入するのを確実に防止することができる。したがって、バリア膜25によって信頼性の高い有機ELパネル100を実現することができる。   As described above, in the organic EL panel 100 according to the present invention, the barrier film 25 can improve the shielding performance of the sealing seal 23. In particular, the barrier film 25 is formed of an inorganic thin film such as a silica film. Since the shielding property of the inorganic thin film is much higher than that of the sealing seal 23 formed using a polymer material, the barrier film 25 of the inorganic thin film transmits moisture and gas more than the sealing seal 23. Hateful. Therefore, the barrier film 25 can reliably prevent moisture and gas from entering the sealing space through the sealing seal 23 from the outside. Therefore, the organic EL panel 100 with high reliability can be realized by the barrier film 25.

さらに、本発明においては、有機ELパネル100の全体がバリア膜25によって覆われている。これによって、従来、水分、気体等の浸入経路となっていた有機ELパネル100のセル端面に形成された封止用シール23の露出部及び封止用シール23と素子基板10や対向基板20との固着部分を封止用シール23とともにバリア膜25によって覆うことができる。それゆえ、封止空間内に水分や気体が浸入するのを防ぐことができる。特に、封止空間内の有機EL素子9の耐久性を向上させることができ、有機ELパネル100の信頼性を向上させることができる。   Furthermore, in the present invention, the entire organic EL panel 100 is covered with the barrier film 25. As a result, the exposed portion of the sealing seal 23 and the sealing seal 23 formed on the cell end surface of the organic EL panel 100, which has conventionally been an infiltration path for moisture, gas, and the like, the element substrate 10 and the counter substrate 20 Can be covered with a barrier film 25 together with a sealing seal 23. Therefore, it is possible to prevent moisture and gas from entering the sealed space. In particular, the durability of the organic EL element 9 in the sealed space can be improved, and the reliability of the organic EL panel 100 can be improved.

さらにまた、本実施形態においては、有機ELパネル100外部に引き出された陰極補助配線4及び陽極配線1、さらには、これらに接続された外部配線41上にもバリア膜25が形成されている。そのため、バリア膜25は、これら配線金属の保護膜としても機能し、それとともに、このような接続部分からの水分や気体の浸入量を低減させることができる。したがって、より信頼性の高い有機ELパネル100を実現することができる。   Furthermore, in the present embodiment, the barrier film 25 is also formed on the cathode auxiliary wiring 4 and the anode wiring 1 drawn out to the outside of the organic EL panel 100 and further on the external wiring 41 connected thereto. Therefore, the barrier film 25 also functions as a protective film for these wiring metals, and at the same time, it is possible to reduce the intrusion amount of moisture and gas from such a connection portion. Therefore, the organic EL panel 100 with higher reliability can be realized.

なお、本実施形態においては、バリア膜25は、有機ELパネル100及び封止空間外の配線や接続部の外表面全体を覆っており、水分及び気体の遮蔽性向上と配線や接続部の保護が同時に期待できる。一方で、バリア膜原料使用量の低減や工程上の都合により、封止用シール部、または、封止用シールと基板の界面を選択的にバリア膜で覆うことも可能である。また、バリア膜はクラックやピンホールなどの成膜欠陥がないことが望ましい。しかし、バリア膜の一部に成膜欠陥が存在しても、健全に成膜しているバリア膜の水分や気体の浸入抑制効果により、バリア膜がない有機ELパネルと比較した場合、有機EL素子の耐久性向上が期待できる。   In the present embodiment, the barrier film 25 covers the entire outer surface of the organic EL panel 100 and the wiring and connection portions outside the sealing space, and improves moisture and gas shielding properties and protects the wiring and connection portions. Can be expected at the same time. On the other hand, it is also possible to selectively cover the sealing seal portion or the interface between the sealing seal and the substrate with a barrier film due to a reduction in the amount of the raw material used for the barrier film and the convenience of the process. Further, it is desirable that the barrier film has no film formation defects such as cracks and pinholes. However, even if there is a film formation defect in a part of the barrier film, the organic EL panel has an organic EL panel when compared with an organic EL panel without the barrier film due to the moisture and gas intrusion suppression effect of the barrier film that is being formed smoothly. The durability of the element can be expected to improve.

またなお、本実施形態においては、バリア膜25の形成工程において、成膜溶液27中に1度だけ浸漬させるだけであるが、1度に限らず、何度浸漬させてもよい。さらに、本実施形態においては、浸漬によってバリア膜25を有機ELパネル100に付着させているが、これに限らず、スプレー等によって成膜溶液を塗布してもよい。   In this embodiment, in the step of forming the barrier film 25, the film is only immersed once in the film forming solution 27. However, the film is not limited to once and may be immersed many times. Further, in this embodiment, the barrier film 25 is attached to the organic EL panel 100 by dipping. However, the present invention is not limited to this, and the film forming solution may be applied by spraying or the like.

上記の実施形態においては、陽極配線1、陰極補助配線4が有機ELパネル100の2辺から引き出されている。これに対して、図7に示すように、有機ELパネル100の1辺のみから陰極配線1、陰極補助配線4が引き出され、その1辺から外部配線42が引き出されることがある。このような場合には、1辺から引き出された外部配線42を保持し、配線接続済みの有機ELパネル100を成膜溶液27に浸漬することができる。その後、配線接続済みの有機ELパネル100を加熱乾燥することによって、配線接続済みの有機ELパネル100の外表面に付着した成膜溶液27からバリア膜25を生成することができる(図8参照)。このように外部配線42が1辺から引き出される場合には、成膜溶液27に容易に浸漬することができ、バリア膜25を効率よく生成することができる。   In the above embodiment, the anode wiring 1 and the cathode auxiliary wiring 4 are drawn out from the two sides of the organic EL panel 100. On the other hand, as shown in FIG. 7, the cathode wiring 1 and the cathode auxiliary wiring 4 may be drawn from only one side of the organic EL panel 100, and the external wiring 42 may be drawn from the one side. In such a case, it is possible to hold the external wiring 42 drawn from one side and immerse the organic EL panel 100 connected to the wiring in the film forming solution 27. Thereafter, the barrier film 25 can be generated from the film-forming solution 27 attached to the outer surface of the organic EL panel 100 with wiring connection by heating and drying the organic EL panel 100 with wiring connection (see FIG. 8). . Thus, when the external wiring 42 is pulled out from one side, it can be easily immersed in the film forming solution 27, and the barrier film 25 can be efficiently generated.

以下に本実施形態を実施例などにより具体的に説明するが、本発明はそれにより何ら限定されない。また、以下の実施例で得られた有機ELパネル100を覆う無機薄膜(バリア膜25)を用いて、以下のようにしてダークフレーム(非発光領域)の拡大量を測定又は評価した。   Hereinafter, the present embodiment will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, using the inorganic thin film (barrier film 25) covering the organic EL panel 100 obtained in the following examples, the amount of enlargement of the dark frame (non-light emitting region) was measured or evaluated as follows.

本実施例では、素子基板10と対向基板20を封止樹脂(封止用シール23)で貼り合わせて封止し、有機ELパネル100にFPCを圧着した。その後、配線接続済みの有機ELパネル100全体をポリシラザン溶液(クラリアント社製NP−110;商品名アクアミカ)に浸漬、100℃のオーブンにて10分間乾燥し、シール樹脂(封止用シール23)の外表面を含む有機ELパネル100外表面全体にシリカ膜(バリア膜25)を形成した。また、本実施例における有機ELパネル100では、市販の(ダイニック社製)シール状の捕水材を用いた。   In this example, the element substrate 10 and the counter substrate 20 were bonded and sealed with a sealing resin (sealing seal 23), and the FPC was pressure-bonded to the organic EL panel 100. Thereafter, the entire organic EL panel 100 connected to the wiring is immersed in a polysilazane solution (NP-110 manufactured by Clariant, trade name Aquamica), dried in an oven at 100 ° C. for 10 minutes, and sealed resin (sealing seal 23) A silica film (barrier film 25) was formed on the entire outer surface of the organic EL panel 100 including the outer surface. Moreover, in the organic EL panel 100 in a present Example, the commercially available (Dynic company make) seal-like water catching material was used.

このように形成した有機ELパネル100について、80℃、90%RHの高温高湿炉で保存試験を行った。そして、シリカ膜(バリア膜25)が形成されなかった従来の有機ELパネルとの比較を行った。この比較結果が、図9のグラフに示されている。   The organic EL panel 100 thus formed was subjected to a storage test in a high-temperature and high-humidity furnace at 80 ° C. and 90% RH. And the comparison with the conventional organic electroluminescent panel in which the silica film (barrier film 25) was not formed was performed. The comparison result is shown in the graph of FIG.

図9に示すように、本発明にかかる有機ELパネル100においては、220時間程度経過して以降、従来の有機ELパネルよりもダークフレームの拡大を抑制できている。これは、本発明において新たに設けたバリア膜25によって、有機ELパネル100の外部からの水分や気体等の浸入を遮断するからと考えられる。   As shown in FIG. 9, in the organic EL panel 100 according to the present invention, after about 220 hours, the expansion of the dark frame can be suppressed as compared with the conventional organic EL panel. This is presumably because the barrier film 25 newly provided in the present invention blocks entry of moisture, gas, and the like from the outside of the organic EL panel 100.

なお、上記実施形態においては、発明を有機EL発光装置に適用した例について示したが、この有機EL発光装置には有機EL表示装置及び有機EL光源装置等の有機EL素子の発光を利用した装置が含まれるものとする。またなお、本実施形態においては、バリア膜が陽極配線、陰極補助配線上に形成されているが、本発明に係るバリア膜は、種々の電極配線、これらの補助配線等の配線形態に適用することができる。例えば、本発明を、基板に直接駆動用の回路が取付けられたCOG(Chip On Glass)等の配線形態にも適用することができる。   In the above embodiment, an example in which the invention is applied to an organic EL light emitting device has been described. However, this organic EL light emitting device is a device using light emission of an organic EL element such as an organic EL display device and an organic EL light source device. Is included. In this embodiment, the barrier film is formed on the anode wiring and the cathode auxiliary wiring. However, the barrier film according to the present invention is applied to various electrode wirings and wiring forms such as these auxiliary wirings. be able to. For example, the present invention can also be applied to a wiring form such as COG (Chip On Glass) in which a driving circuit is directly attached to a substrate.

本実施形態にかかる有機ELパネルの一構成例の模式的上面図。1 is a schematic top view of a configuration example of an organic EL panel according to an embodiment. 図1のA−A’切断線における部分断面図。FIG. 2 is a partial cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. 1. 本実施形態にかかる有機EL発光装置の製造方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing method of the organic electroluminescent light emitting device concerning this embodiment. 本実施形態にかかる有機ELパネルの構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the organic electroluminescent panel concerning this embodiment. 本実施形態にかかる有機ELパネルの浸漬中の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure during the immersion of the organic electroluminescent panel concerning this embodiment. 本実施形態にかかる有機ELパネルの乾燥後の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure after drying of the organic electroluminescent panel concerning this embodiment. 本実施形態にかかる有機ELパネルの浸漬中の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure during the immersion of the organic electroluminescent panel concerning this embodiment. 本実施形態にかかる有機ELパネルの乾燥後の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure after drying of the organic electroluminescent panel concerning this embodiment. 高温高湿試験時間とダークフレーム量の関係を示す図。The figure which shows the relationship between high temperature, high humidity test time, and the amount of dark frames.

符号の説明Explanation of symbols

1 陽極配線
3 陰極配線
4 陰極補助配線
5 画素開口部
6 陰極隔壁
7 開口絶縁膜
8 コンタクトホール
9 有機EL素子
10 素子基板
11 表示領域
20 対向基板
21 捕水材収容部
22 捕水材
23 封止用シール
24 飛散防止用シール
25 バリア膜
26 容器
27 成膜溶液
41,42 外部配線
100 有機ELパネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anode wiring 3 Cathode wiring 4 Cathode auxiliary wiring 5 Pixel opening part 6 Cathode partition 7 Opening insulating film 8 Contact hole 9 Organic EL element 10 Element board | substrate 11 Display area | region 20 Counter substrate 21 Water catching material accommodating part 22 Water catching material 23 Sealing Seal 24 Anti-scattering seal 25 Barrier film 26 Container 27 Film-forming solution 41, 42 External wiring 100 Organic EL panel

Claims (7)

有機EL素子が形成された素子基板と、
前記素子基板に対向するように配置された対向基板と、
高分子材料から形成され、前記素子基板と前記対向基板とを貼り合せ、前記素子基板と前記対向基板との間において封止空間を形成する封止用シールと、
無機物を主成分として形成され、前記封止用シールの外表面を覆い、前記封止用シールを外部から遮蔽するバリア膜とを備えた、
有機ELパネル。
An element substrate on which an organic EL element is formed;
A counter substrate arranged to face the element substrate;
A sealing seal that is formed of a polymer material, bonds the element substrate and the counter substrate, and forms a sealing space between the element substrate and the counter substrate;
A barrier film that is formed mainly of an inorganic substance, covers an outer surface of the sealing seal, and shields the sealing seal from the outside.
Organic EL panel.
前記封止空間の内部から外部に延在し、前記素子基板上に配設された配線又は回路と、
当該有機ELパネルを駆動するために接続された外部配線とを、さらに備え、
前記バリア膜は、前記配線及び前記回路を覆うとともに、前記配線及び前記回路と前記外部配線の接続部分とを覆う、
請求項1記載の有機ELパネル。
Wiring or a circuit extending from the inside of the sealing space to the outside and disposed on the element substrate;
And an external wiring connected to drive the organic EL panel,
The barrier film covers the wiring and the circuit, and covers the wiring and the connection portion of the circuit and the external wiring.
The organic EL panel according to claim 1.
前記バリア膜は、当該有機ELパネルの外表面全体を覆う、
請求項1又は2に記載の有機ELパネル。
The barrier film covers the entire outer surface of the organic EL panel.
The organic EL panel according to claim 1 or 2.
前記バリア膜はシリカ膜である、
請求項1乃至3の一項のいずれかに記載の有機ELパネル。
The barrier film is a silica film;
The organic electroluminescent panel in any one of Claims 1 thru | or 3.
請求項1乃至4の一項のいずれかに記載の有機ELパネルを備えた有機EL発光装置。   An organic EL light emitting device comprising the organic EL panel according to claim 1. 封止用シ−ルを備えた有機ELパネルを形成するステップと、
前記封止用シールの外表面を覆うように、前記封止用シールを外部から遮蔽するバリア膜を生成するステップと、
前記有機ELパネルの封止空間内部の電極に接続され、封止空間外部に引き出された補助配線と当該有機ELパネルを駆動するための駆動回路に接続された外部配線とを接続するステップとを、備え、
前記補助配線と外部配線とを接続するステップの後に、前記バリア膜が前記封止空間の外部の補助配線及び前記外部配線を覆うように前記バリア膜を生成するステップを行う、
有機ELパネルの製造方法。
Forming an organic EL panel provided with a sealing seal;
Generating a barrier film that shields the sealing seal from the outside so as to cover the outer surface of the sealing seal;
Connecting the auxiliary wiring connected to the electrode inside the sealing space of the organic EL panel and drawn out of the sealing space and the external wiring connected to a driving circuit for driving the organic EL panel; , Prepare,
After the step of connecting the auxiliary wiring and the external wiring, performing the step of generating the barrier film so that the barrier film covers the auxiliary wiring outside the sealing space and the external wiring;
Manufacturing method of organic EL panel.
前記バリア膜を形成する工程は、
当該有機ELパネルを成膜溶液に浸積するステップと、
前記浸積した有機ELパネルにバリア膜を生成するステップとを有する、
請求項6記載の有機ELパネルの製造方法。
The step of forming the barrier film includes
Immersing the organic EL panel in a film-forming solution;
Forming a barrier film on the immersed organic EL panel.
The manufacturing method of the organic electroluminescent panel of Claim 6.
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