JP2006181828A - Method for manufacturing liquid jetting head and liquid jetting head - Google Patents

Method for manufacturing liquid jetting head and liquid jetting head Download PDF

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洋 小松
Shusuke Tanaka
秀典 田中
Shunei Takabayashi
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    • B41J2002/14411Groove in the nozzle plate

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a liquid jetting head which can remarkably improve print quality by preventing curved flying of liquid droplets, and a liquid jetting head. <P>SOLUTION: The method for manufacturing a liquid jetting head comprises at least a lamination step for forming a wafer laminated body laminating at least a wafer for nozzle plates having a plurality of nozzles formed and a wafer for a cavity substrate having a pressure chamber communicating with the nozzles, a sealing step for sealing the nozzles by sticking a sealing tape with an adhesive layer consisting of an anaerobic adhesive on the nozzle surface having the nozzles opened, a separation step for separating the wafer laminated body into a specified size, and a peeling step for peeling the sealing tape. The method furthermore comprises a curing step for curing the adhesive layer in the region corresponding to at least the nozzles in a state that the air in the pressure chamber is substituted with nitrogen prior to the peeling step. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ノズルから液滴を吐出する液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射ヘッドに関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a liquid ejecting head that ejects liquid droplets from nozzles, and a liquid ejecting head.

一般的に、プリンタ、ファクシミリ、複写装置等に用いられるインクジェット式記録ヘッド等の液体噴射ヘッドでは、液滴を吐出させるためのメカニズムに応じて各種方式のものが知られている。例えば、発熱素子等によって液体を沸騰させ、そのときに生じる気泡圧で液滴を吐出させるものや、液滴が充填された圧力室の容積を、圧電素子の変位によって膨張又は収縮させることでノズルから液滴を吐出させるものがある。さらに、例えば、静電気力を利用して圧力室の容積を変化させることで、ノズルから液滴を吐出させるようにした静電駆動方式のものもある。   In general, various types of liquid ejecting heads such as ink jet recording heads used in printers, facsimiles, copiers, and the like are known depending on the mechanism for ejecting droplets. For example, a nozzle that boiles liquid by a heating element or the like and discharges a droplet with a bubble pressure generated at that time, or expands or contracts the volume of a pressure chamber filled with the droplet by displacement of a piezoelectric element There is one that discharges droplets from the nozzle. Further, for example, there is an electrostatic drive type in which droplets are ejected from a nozzle by changing the volume of a pressure chamber using electrostatic force.

また、このようなインクジェット式記録ヘッドの製造方法が、様々提案されているが、例えば、静電駆動方式のヘッドの製造方法としては、ノズルプレート、キャビティープレート及び電極基板がそれぞれ複数形成された3枚の基板を接合して複合基板を形成した後、この複合基板を切断ブレード等によって切断することにより、同時に複数個のヘッドを得るようにした方法がある(例えば、特許文献1参照)。   Various methods for manufacturing such an ink jet recording head have been proposed. For example, as a method for manufacturing an electrostatic drive head, a plurality of nozzle plates, cavity plates, and electrode substrates are formed. There is a method in which a plurality of heads are obtained simultaneously by joining three substrates to form a composite substrate and then cutting the composite substrate with a cutting blade or the like (see, for example, Patent Document 1).

また、このような製造方法では、一般的に、複合基板の切断は、この複合基板の両面に粘着シートを貼り付けた状態で行われる。複合基板を切断する際に、切断ブレードの接触による衝撃等で基板に割れや欠けなどが発生するのを防止するためである。またこの粘着シートは、複合基板の表面に切り屑等の汚れが付着するのを防止する役割もある。   In such a manufacturing method, generally, the composite substrate is cut in a state where an adhesive sheet is attached to both surfaces of the composite substrate. This is to prevent the substrate from being cracked or chipped due to an impact caused by contact with the cutting blade when the composite substrate is cut. The pressure-sensitive adhesive sheet also serves to prevent dirt such as chips from adhering to the surface of the composite substrate.

しかしながら、このように複合基板に貼り付けられた粘着シートは、複合基板を切断後に剥がされるが、その際、基板の表面に粘着シートの粘着剤が残ってしまう場合がある。そして、この粘着シートの粘着剤が、ノズル内やノズルの開口縁部等に付着していると、インク滴を吐出させる際に、インク滴の飛行曲がりが生じてしまうという問題がある。   However, the pressure-sensitive adhesive sheet attached to the composite substrate in this way is peeled off after the composite substrate is cut, but in this case, the pressure-sensitive adhesive of the pressure-sensitive adhesive sheet may remain on the surface of the substrate. If the pressure-sensitive adhesive of the pressure-sensitive adhesive sheet adheres to the inside of the nozzle, the opening edge of the nozzle, or the like, there is a problem that when the ink droplet is ejected, the ink droplet is bent.

なお、このような問題は、勿論、インクジェット式記録ヘッドだけでなく、他の液体噴射ヘッドにおいても同様に存在する。   Such a problem naturally exists not only in the ink jet recording head but also in other liquid ejecting heads.

特開平11−254689(第1図、第2図、第5図、第5頁)Japanese Patent Laid-Open No. 11-254689 (FIGS. 1, 2, 5, and 5)

本発明はこのような事情に鑑み、液滴の飛行曲がりを防止して印刷品質を著しく向上することができる液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射ヘッドを提供することを課題とする。   In view of such circumstances, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid ejecting head and a liquid ejecting head capable of significantly improving printing quality by preventing flying bending of droplets.

上記課題を解決する本発明の第1の態様は、複数のノズルが形成されたノズルプレート用ウェハと、前記ノズルに連通する圧力室が形成されたキャビティ基板用ウェハとを少なくとも積層したウェハ積層体を形成する積層工程と、前記ノズルが開口するノズル面に嫌気性の粘着剤からなる粘着層を有する封止テープを貼り付けて当該ノズルを封止する封止工程と、前記ウェハ積層体を所定の大きさに分離する分離工程と、前記封止テープを剥離する剥離工程とを少なくとも具備し、且つ前記剥離工程の前に、前記圧力室内の空気を窒素と置換した状態で、少なくとも前記ノズルに対応する領域の前記粘着層を硬化させる硬化工程を具備することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法にある。
かかる第1の態様では、封止テープを剥がす際にノズル近傍の粘着層が確実に硬化されているため、ノズルプレート表面から粘着層を完全に除去することができ、粘着層(粘着剤)残りに起因する液滴の飛行曲がりを防止することができる。
A first aspect of the present invention that solves the above problem is a wafer laminate in which a nozzle plate wafer having a plurality of nozzles and a cavity substrate wafer having a pressure chamber communicating with the nozzles are laminated at least. A sealing step for sealing the nozzle by attaching a sealing tape having an adhesive layer made of an anaerobic adhesive to the nozzle surface where the nozzle is opened, and the wafer laminate. And at least the nozzle in a state where the air in the pressure chamber is replaced with nitrogen before the peeling step. In the method of manufacturing a liquid jet head, the method includes a curing step of curing the adhesive layer in a corresponding region.
In the first aspect, since the adhesive layer near the nozzle is reliably cured when the sealing tape is peeled off, the adhesive layer can be completely removed from the nozzle plate surface, and the adhesive layer (adhesive) remains. It is possible to prevent the flight of the droplet caused by

本発明の第2の態様は、第1の態様において、前記封止テープの前記粘着層が紫外線硬化型の粘着剤からなり、前記硬化工程では、前記封止テープに紫外線を照射することで前記粘着層を硬化させることを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法にある。
かかる第2の態様では、粘着層を確実に硬化できると共に、粘着層を比較的容易に部分的に硬化させることができる。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the adhesive layer of the sealing tape is made of an ultraviolet curable adhesive, and in the curing step, the sealing tape is irradiated with ultraviolet rays. In the method of manufacturing a liquid jet head, the pressure-sensitive adhesive layer is cured.
In the second aspect, the adhesive layer can be reliably cured, and the adhesive layer can be partially cured relatively easily.

本発明の第3の態様は、第1又は2の態様において、前記硬化工程を前記分離工程の前に実施し且つ当該硬化工程では、前記ノズルに対応する領域のみの前記粘着層を硬化させることを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法にある。
かかる第3の態様では、ウェハ積層体を分離する際に、封止テープが剥がれてノズルから切削水等が侵入するのを防止でき、且つ粘着剤残りも防止できる。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the curing step is performed before the separation step, and in the curing step, the adhesive layer only in a region corresponding to the nozzle is cured. A method of manufacturing a liquid jet head characterized by the above.
In the third aspect, when separating the wafer laminate, it is possible to prevent the sealing tape from being peeled off and cutting water or the like from entering from the nozzle, and to prevent the adhesive remaining.

本発明の第4の態様は、第1又は2の態様において、前記硬化工程が前記分離工程の後に実施し且つ当該硬化工程では、前記封止テープ全面の前記粘着層を硬化させることを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法にある。
かかる第4の態様では、ウェハ積層体を分離する際に、封止テープが剥がれてノズルから切削水等が侵入するのを防止でき、且つ粘着剤残りも防止できる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first or second aspect, the curing step is performed after the separation step, and the adhesive layer on the entire surface of the sealing tape is cured in the curing step. A method of manufacturing a liquid jet head.
In the fourth aspect, when the wafer laminate is separated, it is possible to prevent the sealing tape from peeling off and intrusion of cutting water or the like from the nozzle, and it is possible to prevent the adhesive remaining.

本発明の第5の態様は、第1〜4の何れかの態様において、前記ノズルプレート用ウェハの少なくとも前記ノズル面に、蒸着法により撥水撥油性を有する材料からなる蒸着膜を形成する蒸着工程をさらに具備し、前記封止工程では前記封止テープを前記蒸着膜上に貼り付け、且つ前記剥離工程では、前記封止テープと共に前記蒸着層の一部を剥離することで撥水撥油膜を形成することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法にある。
かかる第5の態様では、緻密な膜からなる撥水撥油膜を比較的容易且つ良好に形成することができる。
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, vapor deposition is performed by forming a vapor deposition film made of a material having water and oil repellency by a vapor deposition method on at least the nozzle surface of the nozzle plate wafer. A water repellent and oil repellent film by further attaching a sealing tape on the vapor deposition film in the sealing step, and peeling off a part of the vapor deposition layer together with the sealing tape in the peeling step. In the method of manufacturing a liquid jet head, the method of forming a liquid jet head is provided.
In the fifth aspect, a water / oil repellent film made of a dense film can be formed relatively easily and satisfactorily.

本発明の第6の態様は、第5の態様において、前記封止工程の前に、前記蒸着膜に紫外線を照射する紫外線照射工程をさらに具備することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法にある。
かかる第6の態様では、蒸着膜内結合力が増加するため、強固な撥水撥油膜を比較的厚く且つ均一な厚さで形成することができる。
According to a sixth aspect of the present invention, in the liquid jet head manufacturing method according to the fifth aspect, the method further includes an ultraviolet irradiation step of irradiating the deposited film with ultraviolet rays before the sealing step. is there.
In the sixth aspect, since the bonding force in the vapor deposition film increases, a strong water / oil repellent film can be formed with a relatively thick and uniform thickness.

本発明の第7の態様は、第1〜6の何れかの態様の製造方法によって製造されたことを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる第7の態様では、良好な吐出特性が安定して得られる液体噴射ヘッドを実現することができる。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a liquid ejecting head manufactured by the manufacturing method according to any one of the first to sixth aspects.
In the seventh aspect, it is possible to realize a liquid jet head that can stably obtain good ejection characteristics.

以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
図1は、液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略斜視図であり、図2は、その断面図である。図示したインクジェット式記録ヘッドは、いわゆる静電駆動方式のヘッドであり、キャビティ基板10と、このキャビティ基板10の両面にそれぞれ接合されるノズルプレート20及び電極基板30とで構成されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.
FIG. 1 is a schematic perspective view of an ink jet recording head which is an example of a liquid ejecting head, and FIG. 2 is a cross-sectional view thereof. The illustrated ink jet recording head is a so-called electrostatic drive head, and includes a cavity substrate 10, and a nozzle plate 20 and an electrode substrate 30 respectively bonded to both surfaces of the cavity substrate 10.

キャビティ基板10は、例えば、面方位(100)又は(110)のシリコン単結晶基板からなり、その一方面側に開口する圧力室(キャビティ)11がその幅方向に複数並設されている。また、本実施形態では、図2に示すように、キャビティ基板10には、複数の圧力室11が並設された列が2列形成されている。さらに、キャビティ基板10には、各列の圧力室11に共通するインク室となる共通インク室12が形成されており、この共通インク室12は、後述するインク供給路を介して各圧力室11に連通されている。また、共通インク室12の底壁には、共通インク室12にインクを供給するためのインク供給孔13が形成されている。また、キャビティ基板10には、共通インク室12の外側に、後述する個別電極に接続される個別端子部を露出させるための貫通孔14が形成されている。   The cavity substrate 10 is made of, for example, a silicon single crystal substrate having a plane orientation (100) or (110), and a plurality of pressure chambers (cavities) 11 opened on one surface side thereof are arranged in parallel in the width direction. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the cavity substrate 10 is formed with two rows in which a plurality of pressure chambers 11 are arranged in parallel. Further, the cavity substrate 10 is formed with a common ink chamber 12 serving as an ink chamber common to the pressure chambers 11 of each row. The common ink chamber 12 is connected to each pressure chamber 11 via an ink supply path described later. It is communicated to. An ink supply hole 13 for supplying ink to the common ink chamber 12 is formed in the bottom wall of the common ink chamber 12. The cavity substrate 10 is formed with a through hole 14 on the outside of the common ink chamber 12 for exposing an individual terminal portion connected to an individual electrode described later.

なお、各圧力室11の底壁は、圧力室11内に圧力変化を生じさせるための振動板15として機能し、且つこの振動板15を変位させる静電気力を発生させるための共通電極としての役割を兼ねている。そして、キャビティ基板10の貫通孔14近傍には、ノズルプレート20の後述する露出孔内に露出されて図示しない駆動配線が接続される共通端子部16が形成されている。   Note that the bottom wall of each pressure chamber 11 functions as a diaphragm 15 for causing a pressure change in the pressure chamber 11 and serves as a common electrode for generating an electrostatic force that displaces the diaphragm 15. Doubles as In the vicinity of the through hole 14 of the cavity substrate 10, a common terminal portion 16 is formed which is exposed in an exposure hole (described later) of the nozzle plate 20 and connected to a drive wiring (not shown).

ノズルプレート20は、キャビティ基板10と同様に、面方位(100)又は(110)のシリコン単結晶基板からなり、各圧力室11に連通する複数のノズル21が形成されている。そして、このノズルプレート20は、キャビティ基板10の開口面側に接合され、圧力室11及び共通インク室12の一方の面を形成している。また、ノズルプレート20のキャビティ基板10とは反対側の面には、ノズル21に対応する領域に亘って厚さ方向の一部を除去したノズル段差部22が形成されている。   Similarly to the cavity substrate 10, the nozzle plate 20 is made of a silicon single crystal substrate having a plane orientation (100) or (110), and a plurality of nozzles 21 communicating with the pressure chambers 11 are formed. The nozzle plate 20 is bonded to the opening surface side of the cavity substrate 10 to form one surface of the pressure chamber 11 and the common ink chamber 12. A nozzle step portion 22 is formed on the surface of the nozzle plate 20 opposite to the cavity substrate 10 by removing a part in the thickness direction over a region corresponding to the nozzle 21.

ここで、各ノズル21は、インク滴が吐出される側に設けられてノズル段差部22内に開口する略円形の小径部21aと、小径部21aよりも大きい径を有し小径部21aと圧力室11とを連通する大径部21bとからなる。そして、全てのノズル21(小径部21a)は、このノズル段差部22内に開口しており、本実施形態では、このノズル段差部22内のノズルプレート20の表面がノズル面となる。   Here, each nozzle 21 is provided on the ink droplet ejection side and has a substantially circular small-diameter portion 21a that opens into the nozzle step portion 22, and has a diameter larger than that of the small-diameter portion 21a. The large-diameter portion 21 b communicates with the chamber 11. All the nozzles 21 (small-diameter portions 21a) are opened in the nozzle step portion 22, and in this embodiment, the surface of the nozzle plate 20 in the nozzle step portion 22 is a nozzle surface.

また、このノズルプレート20のキャビティ基板10との接合面には、圧力室11と共通インク室12との境界に対応する領域に、これら各圧力室11と共通インク室12とを連通するインク供給路23が形成されている。また、ノズルプレート20には、共通インク室12の外側に対応する位置に、キャビティ基板10の貫通孔14に連通し、後述する個別端子部と共に共通端子部16を露出させる露出孔24が形成されている。   In addition, on the joint surface of the nozzle plate 20 with the cavity substrate 10, an ink supply that communicates each of the pressure chambers 11 and the common ink chamber 12 with a region corresponding to the boundary between the pressure chamber 11 and the common ink chamber 12. A path 23 is formed. The nozzle plate 20 is formed with an exposure hole 24 that communicates with the through hole 14 of the cavity substrate 10 at a position corresponding to the outside of the common ink chamber 12 and exposes the common terminal portion 16 together with the individual terminal portion described later. ing.

このノズルプレート20の表面、本実施形態では、ノズル段差部22内には、例えば、フッ素含有シランカップリング化合物等からなる撥水撥油性材料からなる撥水撥油膜25が形成されている。これにより、ノズルプレート20の表面(ノズル面)へのインク滴の付着を抑えている。   A water / oil repellent film 25 made of a water / oil repellent material made of, for example, a fluorine-containing silane coupling compound is formed on the surface of the nozzle plate 20, in this embodiment, in the nozzle step portion 22. Thereby, adhesion of ink droplets to the surface (nozzle surface) of the nozzle plate 20 is suppressed.

一方、電極基板30は、シリコン単結晶基板に近い熱膨張率を有する、例えば、ホウ珪酸ガラス等のガラス基板からなり、キャビティ基板10の振動板15側の面に接合されている。この電極基板30の振動板15に対向する領域には、各圧力室11に対応して凹部31が形成されている。また、電極基板30には、キャビティ基板10のインク供給孔13に対応する位置には、このインク供給孔13に連通するインク導入孔32が形成されている。そして、図示しないインクタンクからこのインク導入孔32及びインク供給孔13を介して共通インク室12にインクが充填されるようになっている。   On the other hand, the electrode substrate 30 is made of a glass substrate such as borosilicate glass having a thermal expansion coefficient close to that of a silicon single crystal substrate, and is bonded to the surface of the cavity substrate 10 on the vibration plate 15 side. In the region of the electrode substrate 30 facing the diaphragm 15, a recess 31 is formed corresponding to each pressure chamber 11. In addition, an ink introduction hole 32 communicating with the ink supply hole 13 is formed in the electrode substrate 30 at a position corresponding to the ink supply hole 13 of the cavity substrate 10. The common ink chamber 12 is filled with ink from an ink tank (not shown) through the ink introduction hole 32 and the ink supply hole 13.

また、各凹部31には、振動板15を変位させる静電気力を発生させるための個別電極33が、振動板15との間に所定の間隔を確保した状態でそれぞれ配置されている。また、凹部31内には、キャビティ基板10の貫通孔14に対向する領域に、図示しない駆動配線が接続される個別端子部34が形成されており、この個別端子部34と各個別電極33とはリード電極35によって接続されている。なお、図示しないが、これら各個別電極33及びリード電極35は絶縁膜によって封止され、また個別端子部34と共通端子部16との間には、接続配線を介して駆動電圧パルスを印加するための発振回路が接続されている。   In addition, individual electrodes 33 for generating an electrostatic force that displaces the diaphragm 15 are disposed in the respective recesses 31 in a state in which a predetermined interval is secured between the individual electrodes 33. In the recess 31, an individual terminal portion 34 to which a drive wiring (not shown) is connected is formed in a region facing the through hole 14 of the cavity substrate 10, and the individual terminal portion 34 and each individual electrode 33 are connected to each other. Are connected by a lead electrode 35. Although not shown, each individual electrode 33 and the lead electrode 35 are sealed with an insulating film, and a drive voltage pulse is applied between the individual terminal portion 34 and the common terminal portion 16 via a connection wiring. For this purpose, an oscillation circuit is connected.

そして、このようなインクジェット式記録ヘッドでは、発振回路によって個別電極33と振動板15(キャビティ基板10)との間に駆動電圧を印加すると、これら個別電極33と振動板15との隙間に発生する静電気力によって振動板15が個別電極33側に撓み変形して、圧力室11の容積が拡大し、駆動電圧の印加を解除すると、振動板15が元の状態に復帰し、圧力室11の容積が収縮する。そして、このとき発生する圧力室11内の圧力変化によって、圧力室11内のインクの一部が、ノズル21からインク滴として吐出される。   In such an ink jet recording head, when a driving voltage is applied between the individual electrode 33 and the diaphragm 15 (cavity substrate 10) by the oscillation circuit, the ink jet recording head is generated in a gap between the individual electrode 33 and the diaphragm 15. When the diaphragm 15 is bent and deformed by the electrostatic force toward the individual electrode 33 side, the volume of the pressure chamber 11 is expanded and the application of the drive voltage is released, the diaphragm 15 returns to the original state, and the volume of the pressure chamber 11 is increased. Contracts. Then, due to the pressure change in the pressure chamber 11 generated at this time, a part of the ink in the pressure chamber 11 is ejected as an ink droplet from the nozzle 21.

以下、このようなインクジェット式記録ヘッドの製造方法を、図3〜図7を参照して説明する。まず、図3(a)に示すように、上述した複数のノズルプレート20が一体的に形成されたノズルプレート用ウェハ200と、複数のキャビティ基板10が一体的に形成されたキャビティ基板用ウェハ100と、複数の電極基板30が一体的に形成された電極基板用ウェハ300とをそれぞれ用意し、キャビティ基板用ウェハ100の両面に、ノズルプレート用ウェハ200と電極基板用ウェハ300とをそれぞれ接合してウェハ積層体400を形成する。   Hereinafter, a method for manufacturing such an ink jet recording head will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 3A, the nozzle plate wafer 200 in which the plurality of nozzle plates 20 are integrally formed and the cavity substrate wafer 100 in which the plurality of cavity substrates 10 are integrally formed. And an electrode substrate wafer 300 in which a plurality of electrode substrates 30 are integrally formed, and the nozzle plate wafer 200 and the electrode substrate wafer 300 are bonded to both surfaces of the cavity substrate wafer 100, respectively. Thus, the wafer laminate 400 is formed.

次に、図3(b)に示すように、ノズルプレート用ウェハ200のノズル面、本実施形態では、ノズル段差部22内に撥水撥油膜25となる蒸着膜205を形成する。例えば、本実施形態では、撥水撥油材料として、フッ素含有シランカップリング化合物を真空蒸着することによって蒸着膜205を形成している。なお、このような蒸着膜205を形成する前に、ノズルプレート用ウェハ200の表面をUV洗浄するようにしてもよい。   Next, as shown in FIG. 3B, a vapor deposition film 205 to be a water / oil repellent film 25 is formed on the nozzle surface of the nozzle plate wafer 200, in this embodiment, the nozzle step portion 22. For example, in this embodiment, the vapor deposition film 205 is formed by vacuum-depositing a fluorine-containing silane coupling compound as a water / oil repellent material. Note that the surface of the nozzle plate wafer 200 may be UV-cleaned before the deposition film 205 is formed.

次に、本実施形態では、このように形成した蒸着膜205に紫外線を照射する工程を実施している。これにより、蒸着膜205の緻密な膜の厚さを増加させることができる。すなわち、ノズルプレート用ウェハ200上に、真空蒸着法によって形成した蒸着膜205は、その下層部はノズルプレート用ウェハ(シリコンウェハ)200と共有結合して緻密な膜となっているが、上層部は分子間結合力による結合力で保持された疎な膜となっている。そして、このような蒸着膜205に紫外線を照射すると、膜内結合力が高まり実質的に緻密な膜の厚さが増加し、且つ緻密な膜の厚さが下層部から上層部までの全体に亘って略均一化される。これにより、詳しくは後述するが、ノズルプレート20の表面に撥水撥油膜25を良好に形成することができる。   Next, in the present embodiment, a process of irradiating the deposited film 205 thus formed with ultraviolet rays is performed. Thereby, the thickness of the dense film of the vapor deposition film 205 can be increased. That is, the deposited film 205 formed on the nozzle plate wafer 200 by the vacuum deposition method is a dense film in which the lower layer portion is covalently bonded to the nozzle plate wafer (silicon wafer) 200, but the upper layer portion. Is a sparse film that is held by the bonding force due to intermolecular bonding force. When such a deposited film 205 is irradiated with ultraviolet rays, the in-film bonding force is increased and the thickness of the dense film is increased, and the thickness of the dense film is increased from the lower layer to the upper layer. It is made substantially uniform throughout. Thereby, as will be described in detail later, the water / oil repellent film 25 can be satisfactorily formed on the surface of the nozzle plate 20.

次に、図4(a)に示すように、ノズル段差部22の幅となるように、所定の粘着剤からなる粘着層51を有する封止テープ50を切り出して用意し、この封止テープ50をノズル段差部22内の蒸着膜205上に貼り付けてノズル21を封止する。ここで、蒸着膜205を単に真空蒸着のみによって形成した場合には、封止テープ50の上から、ウェハ積層体400に直接触れる接触式の押圧工具を用いてある程度力を入れて擦りつけ、蒸着膜205が封止テープ50の粘着層51内に入りこむように、また完全に密着するようにする必要がある。後述する封止テープ50を剥離する工程で、蒸着膜205の疎な膜を確実に剥離させるためである。そして、このように封止テープ50を擦りつけようとすると、このときの負荷によりウェハ積層体400、特にノズルプレート用ウェハ200やキャビティ基板用ウェハ100に割れが発生してしまう。しかしながら、本実施形態では、上述したように、蒸着膜205に紫外線を照射する工程を実施しているため、このような封止テープ50を擦りつける必要はない。したがって、ウェハ積層体400の割れを防止することができ、歩留まりが著しく向上する。   Next, as shown in FIG. 4A, a sealing tape 50 having an adhesive layer 51 made of a predetermined adhesive is cut out and prepared so as to have the width of the nozzle step portion 22. Is stuck on the vapor deposition film 205 in the nozzle step portion 22 to seal the nozzle 21. Here, when the vapor deposition film 205 is formed only by vacuum vapor deposition, it is rubbed with a certain amount of force using a contact-type pressing tool that directly contacts the wafer laminate 400 from above the sealing tape 50, and vapor deposition. It is necessary to make the film 205 penetrate into the adhesive layer 51 of the sealing tape 50 and to be completely adhered. This is because the sparse film of the deposited film 205 is surely peeled off in the step of peeling the sealing tape 50 described later. When the sealing tape 50 is rubbed in this way, the load at this time causes cracks in the wafer laminate 400, particularly the nozzle plate wafer 200 and the cavity substrate wafer 100. However, in this embodiment, since the process of irradiating the deposited film 205 with ultraviolet rays is performed as described above, there is no need to rub such a sealing tape 50. Therefore, cracking of the wafer laminate 400 can be prevented, and the yield is significantly improved.

なお、本実施形態では、封止テープ50として、嫌気性の粘着剤、例えば、紫外線硬化型の粘着剤からなる粘着層51を有するダイシングテープ、すなわち、一般的に使用されている紫外線剥離型のダイシングテープを採用している。この紫外線剥離型のダイシングテープは、基材の厚さが約100μmであり、粘着層の厚さが約25μmとなっている。   In this embodiment, as the sealing tape 50, an anaerobic adhesive, for example, a dicing tape having an adhesive layer 51 made of an ultraviolet curable adhesive, that is, an ultraviolet peeling type that is generally used. Dicing tape is used. This ultraviolet peeling type dicing tape has a base material thickness of about 100 μm and an adhesive layer thickness of about 25 μm.

次に、図5に示すように、圧力室11内の空気を窒素(N)と置換した状態で、ノズル21に対応する領域に紫外線を照射して、少なくともノズル21に対応する領域の粘着層51a、本実施形態では、ノズル21に対応する領域の粘着層51aのみを硬化させる。具体的には、ステンレス鋼(SUS)等で形成されたマスク材60をウェハ積層体400(ノズルプレート用ウェハ200)上に固定し、ノズルプレート用ウェハ200の各ノズル21に対応する領域のみを露出させる。一方、電極基板用ウェハ300の各インク導入孔32から圧力室11内を真空吸引した後、窒素(N)を送り込み、圧力室11内を酸素(O)が存在しない状態に保持する。そして、この状態で、封止テープ50に紫外線を所定時間、本実施形態では、数秒間照射する。これにより、ノズル21に対応する領域の粘着層51aのみが完全に硬化される。すなわち、封止テープ50の粘着層51は、上述したように嫌気性の粘着剤からなるため、紫外線を照射する際に、圧力室11内に窒素を充填し、ノズル21に対応する領域の粘着層51aが酸素に触れない状態とすることで、この粘着層51aは確実に硬化される。なお、圧力室11内に空気(酸素)が存在する状態で封止テープ50に紫外線を照射しても、粘着層51aは完全には硬化されない。 Next, as shown in FIG. 5, in a state where the air in the pressure chamber 11 is replaced with nitrogen (N 2 ), the region corresponding to the nozzle 21 is irradiated with ultraviolet rays to at least adhere to the region corresponding to the nozzle 21. In the present embodiment, only the adhesive layer 51a in the region corresponding to the nozzle 21 is cured. Specifically, the mask material 60 formed of stainless steel (SUS) or the like is fixed on the wafer laminate 400 (nozzle plate wafer 200), and only the regions corresponding to the nozzles 21 of the nozzle plate wafer 200 are provided. Expose. On the other hand, after the inside of the pressure chamber 11 is vacuum-sucked from each ink introduction hole 32 of the electrode substrate wafer 300, nitrogen (N 2 ) is sent in and the inside of the pressure chamber 11 is maintained in a state where oxygen (O 2 ) is not present. In this state, the sealing tape 50 is irradiated with ultraviolet rays for a predetermined time, in this embodiment, for several seconds. Thereby, only the adhesive layer 51a in the region corresponding to the nozzle 21 is completely cured. That is, since the adhesive layer 51 of the sealing tape 50 is made of an anaerobic adhesive as described above, the pressure chamber 11 is filled with nitrogen when irradiated with ultraviolet rays, and the region corresponding to the nozzle 21 is adhered. By making the layer 51a not in contact with oxygen, the adhesive layer 51a is reliably cured. Even if the sealing tape 50 is irradiated with ultraviolet rays in the presence of air (oxygen) in the pressure chamber 11, the adhesive layer 51a is not completely cured.

また、封止テープ50への紫外線の照射時間は、粘着剤の種類、粘着層51の厚さ等を考慮して適宜決定されればよいが、あまり長い時間照射すると、マスク材60で覆われている領域の粘着層51も硬化されてしまう。このため、紫外線の照射時間はできるだけ短くするのが望ましい。   Further, the irradiation time of the ultraviolet rays to the sealing tape 50 may be appropriately determined in consideration of the type of the adhesive, the thickness of the adhesive layer 51, and the like, but if it is irradiated for a very long time, it is covered with the mask material 60. The pressure-sensitive adhesive layer 51 in the area is also cured. For this reason, it is desirable to make the irradiation time of ultraviolet rays as short as possible.

次に、図4(b)に示すように、ノズルプレート用ウェハ200の大きさとなるように切り出した粘着層71を有するダイシングテープ70を用意し、このダイシングテープ70をウェハ積層体400の両面に貼り付ける。すなわち、封止テープ50の上からウェハ積層体400の表面(ノズルプレート用ウェハ200の表面)にダイシングテープ70を貼り付け、また同様に、ウェハ積層体400の裏面(電極基板用ウェハ300の表面)にもダイシングテープ70を貼り付ける。なお、ここで使用されるダイシングテープ70としては、封止テープ50と同様に、一般的に使用されている紫外線剥離型のダイシングテープを採用している。   Next, as shown in FIG. 4B, a dicing tape 70 having an adhesive layer 71 cut out so as to be the size of the nozzle plate wafer 200 is prepared, and the dicing tape 70 is provided on both surfaces of the wafer laminate 400. paste. That is, the dicing tape 70 is attached to the surface of the wafer laminate 400 (the surface of the nozzle plate wafer 200) from the top of the sealing tape 50, and similarly, the back surface of the wafer laminate 400 (the surface of the electrode substrate wafer 300). ) Is also affixed with the dicing tape 70. In addition, as the dicing tape 70 used here, the ultraviolet peeling type dicing tape generally used is adopted like the sealing tape 50.

そして、このように封止テープ50及びダイシングテープ70を貼り付けた状態でウェハ積層体400を、例えば、図6に一点鎖線で示す切断ラインに沿って切断することにより、個々のインクジェット式記録ヘッドを切り出す(図1等参照)。なお、切り出されたインクジェット式記録ヘッドは、ノズル段差部22に封止テープ50が貼り付けられると共に、表面にはダイシングテープ70が貼り付けられた状態である。   Then, with the sealing tape 50 and the dicing tape 70 attached in this way, the wafer laminated body 400 is cut along, for example, a cutting line indicated by a one-dot chain line in FIG. Is cut out (see FIG. 1 and the like). The cut out inkjet recording head is in a state in which the sealing tape 50 is attached to the nozzle step portion 22 and the dicing tape 70 is attached to the surface.

ここで、上述したように、この分離工程の前に、本実施形態では、封止テープ50の粘着層51を硬化させるようにしているが、粘着層51の全てを硬化させるのではなく、ノズル21に対応する領域の粘着層51aのみを硬化させている。したがって、ウェハ積層体400を分離する際に、切断部分の封止テープ50が剥がれて、ノズル21内に切削水等が侵入することはない。すなわち、切断部分の封止テープ50の粘着層51は硬化されることなく所定の粘着力が保持されているため、ウェハ積層体400の切断時に封止テープ50が剥がれることはない。   Here, as described above, in this embodiment, the adhesive layer 51 of the sealing tape 50 is cured before the separation step, but the entire adhesive layer 51 is not cured, but the nozzle. Only the adhesive layer 51a in the region corresponding to 21 is cured. Therefore, when the wafer laminate 400 is separated, the sealing tape 50 at the cut portion is not peeled off, and cutting water or the like does not enter the nozzle 21. That is, since the adhesive layer 51 of the sealing tape 50 at the cut portion is not cured and maintains a predetermined adhesive force, the sealing tape 50 is not peeled off when the wafer laminate 400 is cut.

その後、切り出されたインクジェット式記録ヘッドの表面に貼り付けられているダイシングテープ70に、紫外線を照射してダイシングテープ70の粘着力を低下させる。その後、インクジェット式記録ヘッドから、このダイシングテープ70及び封止テープ50を剥離する。このとき、上述したように、封止テープ50の少なくともノズル21に対応する領域の粘着層51aは完全に硬化されているため、粘着層51(粘着剤)はノズルプレート20上に残ることなく剥離される。少なくともノズル21の内部や、開口縁部等に粘着層51(粘着剤)が残ることがない。よって、このような粘着剤残りに起因するインク滴の飛行曲がりを防止することができ、印刷品質を向上することができる。また、製品の品質が安定し、歩留まりが著しく向上するため、製造コストが大幅に低減される。そして、ノズルを高密度に配列している場合には、微小なインク滴の飛行曲がりが印刷品質に大きく影響するため、このような製造方法は特に効果的である。   Thereafter, the dicing tape 70 affixed to the surface of the cut out ink jet recording head is irradiated with ultraviolet rays to reduce the adhesive strength of the dicing tape 70. Thereafter, the dicing tape 70 and the sealing tape 50 are peeled off from the ink jet recording head. At this time, as described above, since the adhesive layer 51a in the region corresponding to at least the nozzle 21 of the sealing tape 50 is completely cured, the adhesive layer 51 (adhesive) is peeled off without remaining on the nozzle plate 20. Is done. The adhesive layer 51 (adhesive) does not remain at least in the nozzle 21 or at the opening edge. Therefore, it is possible to prevent the flying bend of the ink droplets due to such a pressure-sensitive adhesive residue, and it is possible to improve the printing quality. In addition, since the product quality is stable and the yield is remarkably improved, the manufacturing cost is greatly reduced. In the case where the nozzles are arranged at high density, such a manufacturing method is particularly effective since the flying curve of minute ink droplets greatly affects the print quality.

また、このように封止テープ50を剥離する際には、図7に示すように、封止テープ50と共に蒸着膜205の一部が剥離され、これにより所定厚さの撥水撥油膜25が形成される。すなわち、封止テープ50をノズルプレート20から剥離すると、このノズルプレート20に約50nmの厚さで形成されていた蒸着膜205は、ノズルプレート20の表面に密着性の高い緻密な膜を残しながら、疎な膜が分離されて封止テープ50と共に剥離される。この結果、ノズルプレート20の表面に、緻密な膜である撥水撥油膜25が形成される。そして、本実施形態では、上述したように蒸着膜205に紫外線を照射することで、蒸着膜内結合力が増加及び均一化されるため、撥水撥油膜25を比較的厚く且つ均一な厚さで良好に形成することができる。   Further, when the sealing tape 50 is peeled in this way, as shown in FIG. 7, a part of the vapor deposition film 205 is peeled off together with the sealing tape 50, whereby the water / oil repellent film 25 having a predetermined thickness is formed. It is formed. That is, when the sealing tape 50 is peeled from the nozzle plate 20, the vapor deposition film 205 formed on the nozzle plate 20 with a thickness of about 50 nm leaves a dense film with high adhesion on the surface of the nozzle plate 20. The sparse film is separated and peeled off with the sealing tape 50. As a result, a water / oil repellent film 25 which is a dense film is formed on the surface of the nozzle plate 20. In the present embodiment, as described above, by irradiating the vapor deposition film 205 with ultraviolet rays, the bonding force in the vapor deposition film is increased and uniformed. Therefore, the water / oil repellent film 25 is relatively thick and has a uniform thickness. Can be formed satisfactorily.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、勿論、本発明は、このような実施形態に限定されるものではない。例えば、本実施形態では、封止テープ50の粘着層51を硬化させる硬化工程を、封止テープ50を貼り付けた直後に実施するようにしたが、これに限定されず、封止テープを剥離する前であれば、何れのタイミングで行うようにしてもよい。例えば、ウェハ積層体400を分離後、インクジェット式記録ヘッドの裏面側、すなわち、電極基板30表面のダイシングテープ70を剥離した後に実施するようにしてもよい。何れのタイミングで行ったとしても、ノズルプレート20上に封止テープ50の粘着層51(粘着剤)を残すことなく、封止テープ50を確実に剥離させることができる。なお、このようにウェハ積層体400を分離後に、封止テープ50の粘着層51を硬化させる硬化工程を実施する場合には、ノズル21に対応する領域の粘着層51aのみを硬化させる必要はなく、封止テープ50全体の粘着層51を硬化させればよい。   As mentioned above, although one embodiment of the present invention was described, of course, the present invention is not limited to such an embodiment. For example, in the present embodiment, the curing process for curing the adhesive layer 51 of the sealing tape 50 is performed immediately after the sealing tape 50 is attached, but the present invention is not limited to this, and the sealing tape is peeled off. If it is before, it may be performed at any timing. For example, the separation may be performed after the wafer laminate 400 is separated and the dicing tape 70 on the back side of the ink jet recording head, that is, the surface of the electrode substrate 30 is peeled off. Regardless of the timing, the sealing tape 50 can be reliably peeled without leaving the adhesive layer 51 (adhesive) of the sealing tape 50 on the nozzle plate 20. In addition, when performing the hardening process which hardens the adhesion layer 51 of the sealing tape 50 after separating the wafer laminated body 400 in this way, it is not necessary to cure only the adhesion layer 51a in the region corresponding to the nozzle 21. What is necessary is just to harden the adhesion layer 51 of the sealing tape 50 whole.

さらに、本実施形態では、静電駆動方式のインクジェット式記録ヘッドを一例として本発明を説明したが、本発明はこれに限定されず、例えば、圧電素子の変位によってインク滴を吐出させる方式、あるいは、発熱素子等によってインクを加熱することでインク滴を吐出させる方式等、あらゆる方式のインクジェット式記録ヘッドに採用することができる。また、勿論、本発明は、インク滴を吐出するインクジェット式記録ヘッドだけでなく、他のあらゆる液滴を吐出する液体噴射ヘッドにも採用することができる。他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、液晶ディスプレー等のカラーフィルタの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ELディスプレー、FED(面発光ディスプレー)等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオチップ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられる。   Furthermore, in the present embodiment, the present invention has been described by taking an electrostatic drive type ink jet recording head as an example, but the present invention is not limited to this, for example, a method of ejecting ink droplets by displacement of a piezoelectric element, or In addition, the ink jet recording head of any system can be employed, such as a system in which ink droplets are ejected by heating ink with a heating element or the like. Of course, the present invention can be applied not only to an ink jet recording head that ejects ink droplets but also to a liquid ejecting head that ejects all other droplets. Other liquid ejecting heads include, for example, color material ejecting heads used for manufacturing color filters such as liquid crystal displays, electrode material ejecting heads used for forming electrodes such as organic EL displays and FEDs (surface emitting displays), and biochips. Examples thereof include a bio-organic matter ejecting head used for manufacturing.

一実施形態に係る記録ヘッドの概略斜視図である。1 is a schematic perspective view of a recording head according to an embodiment. 一実施形態に係る記録ヘッドの断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a recording head according to an embodiment. 一実施形態に係る記録ヘッドの製造工程を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the manufacturing process of the recording head which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る記録ヘッドの製造工程を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the manufacturing process of the recording head which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the recording head which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る記録ヘッドの製造工程を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view illustrating a manufacturing process of a recording head according to an embodiment. 一実施形態に係る記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the recording head which concerns on one Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10 キャビティ基板、 11 圧力室、 12 共通インク室、 13 インク供給孔、 14 貫通孔、 15 振動板、 16 共通端子部、 20 ノズルプレート、 21 ノズル、 22 ノズル段差部、 23 インク供給路、 24 露出孔、 25 撥水撥油膜、 30 電極基板、 31 凹部、 32 インク導入孔、 33 個別電極、 34 個別端子部、 35 リード電極、 50 封止テープ、 51 粘着層、 60 マスク材、 70 ダイシングテープ、 100 キャビティ基板用ウェハ、 200 ノズルプレート用ウェハ、 205 蒸着膜、 300 電極基板用ウェハ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Cavity substrate, 11 Pressure chamber, 12 Common ink chamber, 13 Ink supply hole, 14 Through hole, 15 Diaphragm, 16 Common terminal part, 20 Nozzle plate, 21 Nozzle, 22 Nozzle step part, 23 Ink supply path, 24 Exposure Hole, 25 water and oil repellent film, 30 electrode substrate, 31 recess, 32 ink introduction hole, 33 individual electrode, 34 individual terminal part, 35 lead electrode, 50 sealing tape, 51 adhesive layer, 60 mask material, 70 dicing tape, 100 wafer for cavity substrate, 200 wafer for nozzle plate, 205 vapor deposition film, 300 wafer for electrode substrate

Claims (7)

複数のノズルが形成されたノズルプレート用ウェハと、前記ノズルに連通する圧力室が形成されたキャビティ基板用ウェハとを少なくとも積層したウェハ積層体を形成する積層工程と、前記ノズルが開口するノズル面に嫌気性の粘着剤からなる粘着層を有する封止テープを貼り付けて当該ノズルを封止する封止工程と、前記ウェハ積層体を所定の大きさに分離する分離工程と、前記封止テープを剥離する剥離工程とを少なくとも具備し、且つ前記剥離工程の前に、前記圧力室内の空気を窒素と置換した状態で、少なくとも前記ノズルに対応する領域の前記粘着層を硬化させる硬化工程を具備することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 A laminating step for forming a wafer laminate in which a nozzle plate wafer having a plurality of nozzles and a cavity substrate wafer having pressure chambers communicating with the nozzles are laminated, and a nozzle surface on which the nozzles open A sealing step of sticking a sealing tape having an adhesive layer made of an anaerobic adhesive to seal the nozzle, a separation step of separating the wafer laminate into a predetermined size, and the sealing tape And a curing step for curing at least the adhesive layer in a region corresponding to the nozzle in a state where the air in the pressure chamber is replaced with nitrogen before the peeling step. A method of manufacturing a liquid ejecting head. 請求項1において、前記封止テープの前記粘着層が紫外線硬化型の粘着剤からなり、前記硬化工程では、前記封止テープに紫外線を照射することで前記粘着層を硬化させることを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 2. The adhesive layer according to claim 1, wherein the adhesive layer of the sealing tape is made of an ultraviolet curable adhesive, and in the curing step, the adhesive layer is cured by irradiating the sealing tape with ultraviolet rays. A method for manufacturing a liquid jet head. 請求項1又は2において、前記硬化工程を前記分離工程の前に実施し且つ当該硬化工程では、前記ノズルに対応する領域のみの前記粘着層を硬化させることを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 3. The method of manufacturing a liquid jet head according to claim 1, wherein the curing step is performed before the separation step, and the adhesive layer is cured only in a region corresponding to the nozzle in the curing step. . 請求項1又は2において、前記硬化工程が前記分離工程の後に実施し且つ当該硬化工程では、前記封止テープ全面の前記粘着層を硬化させることを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 3. The method of manufacturing a liquid jet head according to claim 1, wherein the curing step is performed after the separation step, and in the curing step, the adhesive layer on the entire surface of the sealing tape is cured. 請求項1〜4の何れかにおいて、前記ノズルプレート用ウェハの少なくとも前記ノズル面に、蒸着法により撥水撥油性を有する材料からなる蒸着膜を形成する蒸着工程をさらに具備し、前記封止工程では前記封止テープを前記蒸着膜上に貼り付け、且つ前記剥離工程では、前記封止テープと共に前記蒸着層の一部を剥離することで撥水撥油膜を形成することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 5. The sealing step according to claim 1, further comprising a vapor deposition step of forming a vapor deposition film made of a material having water and oil repellency by a vapor deposition method on at least the nozzle surface of the nozzle plate wafer. The liquid jet is characterized in that the sealing tape is attached onto the vapor deposition film, and in the peeling step, a part of the vapor deposition layer is peeled off together with the sealing tape to form a water / oil repellent film. Manufacturing method of the head. 請求項5において、前記封止工程の前に、前記蒸着膜に紫外線を照射する紫外線照射工程をさらに具備することを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。 6. The method of manufacturing a liquid jet head according to claim 5, further comprising an ultraviolet irradiation step of irradiating the deposited film with ultraviolet rays before the sealing step. 請求項1〜6の何れかの製造方法によって製造されたことを特徴とする液体噴射ヘッド。
A liquid jet head manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
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