JP2006173193A - 処理装置および処理方法 - Google Patents

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Abstract


【課題】 フットプリントが小さく、低コストでありながら、一定の高い処理能力を備えた処理装置を提供する。
【解決手段】 処理装置の一実施形態である洗浄処理装置100は、ウエハが収容されたキャリアCを載置するキャリア載置部1と、ウエハを洗浄処理するチャンバ21と、キャリア載置部1とチャンバ21との間でウエハを搬送するウエハ搬送部3を有している。ウエハ搬送部3は、チャンバ21に複数のウエハを一括して搬入出するためのホルダー32a,32bと、ウエハWを1枚ずつ搬送する搬送ピック34a,34bと、搬送ピック34a,34bとホルダー32a,32bをそれぞれ係脱自在で、キャリアCとチャンバ21にアクセス自在なロボット31を具備している。ロボット31は、搬送ピック34a,34bとホルダー32a,32bとを交換して、キャリアCとチャンバ21との間でウエハを搬送する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体ウエハやフラットパネルディスプレイ(FPD)用ガラス基板等の被処理体に対して、洗浄処理、エッチング処理、超臨界流体処理等の処理流体による処理、熱処理等、所定の処理を行うための処理装置および処理方法に関する。
近時、半導体装置の製造分野においては、半導体ウエハの大径化によって、また処理能力の増大を目的として、半導体製造装置の大型化が進んでいる。しかしながら、半導体製造装置のフットプリントが大きくなると、半導体製造装置そのものの装置コストが高くなることや、半導体製造装置の大きさに見合った大きさのクリーンルームが必要となって設備コストが嵩む問題や、半導体製造装置の組立工場から製造現場への装置搬送に支障が生じるおそれがある等の問題が生じる。
そこで、半導体製造装置の開発においては、処理能力を高めながら、如何にして半導体製造装置のフットプリントの増大を抑えるかが重要な課題となっており、例えば、特許文献1には、半導体ウエハを収容したキャリアからウエハ搬送装置が半導体ウエハを取り出し、その半導体ウエハを回転自在なテーブルに装着して水平/鉛直の姿勢変換を行い、テーブルをチャンバ側にスライドさせて収容し、半導体ウエハの液処理を行う液処理装置が開示されている。
しかしながら、この特許文献1に開示された液処理装置では、キャリアと液処理チャンバとの間に半導体ウエハを搬送するために2種類の装置、つまりウエハ搬送装置と、テーブルの姿勢変換/スライド機構が設けられていることや、ウエハ搬送機構を複数のテーブルにアクセスするためにウエハ搬送機構が移動自在な構成となっており、ウエハ搬送機構を設置するために広いスペースが必要となっていることから、そのスペースをさらに縮小する余地があると考えられる。
また、この特許文献1に開示された液処理装置では、キャリアにおける半導体ウエハの収容状態を昇降自在に配置されたセンサによって調べる構成が開示されているが(特許文献1の図3および段落0015,0016)、このセンサ装置はキャリアにおける半導体ウエハの搬入出口に設置されているので、そのために占有するスペースが必要となり、これによってもフットプリントが大きくなる。
ところで、このような処理能力を向上させるための半導体製造装置開発方針とは逆に、近時、半導体装置の品種が増えるにつれて、多品種少量生産のために処理能力は高くなくてもよいからフットプリントが小さく、装置コストを低く抑えた半導体製造装置の需要が増えていることも事実である。
特開2002−16041号公報
本発明はかかる事情に鑑みてなされてものであり、フットプリントが小さく、低コストでありながら、一定の高い処理能力を備えた処理装置を提供することを目的とする。また本発明はこの処理装置による被処理体の処理方法を提供することを目的とする。
本発明の第1の観点によれば、被処理体に所定の処理を施す処理装置であって、
被処理体が収容されたキャリアを載置するためのキャリア載置部と、
被処理体に所定の処理を施すための処理部と、
前記処理部に対して被処理体を搬入出するホルダーと、
前記キャリアおよび前記ホルダーに対して被処理体を搬入出する搬送ピックと、
前記搬送ピックと前記ホルダーをそれぞれ係脱自在なロボットと、
を具備し、
前記ロボットは、前記搬送ピックと前記ホルダーとを交換して前記キャリア載置部に載置されたキャリアと前記処理部との間で被処理体を搬送することを特徴とする処理装置、が提供される。
この処理装置の好ましい形態としては、搬送ピックは1つの被処理体を保持し、また、ホルダーは複数の被処理体を保持する形態が挙げられる。この場合、処理部に搬入する被処理体の数を一定とするために、ホルダーに保持される被処理体の数に不足が生じた場合にその不足分を補う補填用の被処理体を収容する補填体収容部をさらに設けることが好ましい。これにより被処理体ごとの処理条件のばらつきを小さく抑えることができる。補填用の被処理体の搬送は、キャリアと補填体収容部との間およびホルダーと補填体収容部との間で、ロボットが搬送ピックを係合して行う構成とすることができる。
この処理装置においては、搬送ピックは不使用時にはピック載置部に載置され、ホルダーは処理部への搬送時、処理部からの搬送時および処理部への装着時を除いてホルダー載置部に載置される構成とすることが好ましい。この場合、搬送ピックまたはホルダーを係合または脱離させたロボットのピック載置部やホルダー載置部へのアクセスを確実なものとするために、ピック載置部には搬送ピックの載置位置を検出するピック位置確認センサを設け、ホルダー載置部にはホルダーの載置位置を検出するホルダー位置確認センサを設けて、ロボットは、このピック位置確認センサの検出信号に基づいて搬送ピックをピック載置部の一定位置で係脱し、ホルダー位置確認センサの検出信号に基づいてホルダーをホルダー載置部の一定位置で係脱するように構成することが好ましい。
本発明に係る処理装置には、被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドをさらに具備し、ロボットはこの検査用ハンドもまた係脱自在であり、この検査用ハンドを用いてキャリアにおける被処理体の収容状態の検査をも行うことができる構成とすることも好ましい。これにより、従来のようにキャリアにおける被処理体の収容状態を検査するためのセンサ装置を設ける必要がなく、その設置スペースを省くことができる。ロボットが検査用ハンドを係合した状態では、さらにホルダーにおける被処理体の保持状態の検査を行うことができる構成とすることがより好ましい。これにより、ホルダーにおける被処理体の収容状態を検査するためのセンサ装置を設ける必要もなくなる。検査用ハンドは、不使用時にはハンド載置部に載置される構成とすることが好ましく、この場合、検査用ハンドを係合または脱離させたロボットのハンド載置部へのアクセスを確実なものとするために、ハンド載置部に検査用ハンドの載置位置を検出するハンド位置確認センサを設けることが好ましい。
搬送ピックは2本備えていることが好ましく、その場合には、1本の搬送ピックをキャリアに収容された被処理体を搬出するために用い、他の1本の搬送ピックを処理部での処理が終了した被処理体を前記キャリアに搬入するために用いる。これにより処理前の被処理体に付着したパーティクル等が搬送ピックに転写され、さらに処理が終了した被処理体へ転写されることを防止することができる。
処理部は、ホルダーに保持された被処理体をその内部に収容するために被処理体を搬入出するための窓を有するチャンバと、チャンバに所定の処理流体を供給する流体供給機構と、ホルダーをチャンバに装着するためのクランプ機構とを備え、また、ホルダーは保持した被処理体がチャンバに収容された状態において窓を封止する封止部材を備えている構成とすることが好ましく、これにより窓を封止するための専用の蓋とその移動機構を設ける必要がなくなる。ホルダーがクランプ機構によってチャンバに装着された状態でロボットはホルダーを係脱するように構成すれば、ロボットは処理中に別の作業、例えば、キャリア載置部に複数のキャリアが載置された場合における被処理体の収容状態確認や被処理体の搬送等、を行うことができる。
本発明の第2の観点によれば、被処理体に所定の処理を施す処理装置であって、
被処理体が収容されたキャリアを載置するためのキャリア載置部と、
被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドと、
前記キャリア載置部に載置されたキャリアに対して被処理体を搬入出する搬送ピックと、
前記検査用ハンドと前記搬送ピックとをそれぞれ係脱自在なロボットと、
を具備し、
前記ロボットは、前記検査用ハンドを係合して前記キャリア載置部に載置されたキャリアにおける被処理体の収容状態を検査し、前記搬送ピックを係合して前記キャリア載置部に載置されたキャリアに対する被処理体の搬入出を行うことを特徴とする処理装置、が提供される。
本発明の第3の観点によれば、被処理体に所定の処理を施す処理装置であって、
被処理体が収容されたキャリアを載置するためのキャリア載置部と、
被処理体に所定の処理を施すための処理部と、
被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドと、
前記処理部に対して被処理体を搬入出するホルダーと、
前記検査用ハンドと前記ホルダーとをそれぞれ係脱自在なロボットと、
を具備し、
前記ロボットは、前記検査用ハンドを係合して前記キャリア載置部に載置されたキャリアおよび/または前記ホルダーにおける被処理体の収容状態を検査し、前記ホルダーを係合して前記処理部に被処理体の搬入出を行うことを特徴とする処理装置、が提供される。
これら第2,第3の観点に係る処理装置では、キャリアやホルダーにおける被処理体の収容状態を検査するためのセンサ装置を設ける必要がなく、その設置スペースを省くことができる。また、キャリアやホルダーにおける被処理体の収容状態を検査することにより、キャリアやホルダーからの被処理体の搬出を確実に行うことができるようになる。
本発明の第4の観点によれば、被処理体に所定の処理を施す処理装置であって、
被処理体が収容された第1キャリアと第2キャリアを載置するためのキャリア載置部と、
被処理体に所定の処理を施すための処理部と、
前記処理部に対して被処理体を搬入出する第1ホルダーおよび第2ホルダーと、
前記第1キャリアと前記第2キャリアから被処理体を搬出し、それぞれ前記第1ホルダーと前記第2ホルダーに搬入する第1搬送ピックと、
前記第1ホルダーと前記第2ホルダーから被処理体を搬出し、それぞれ前記第1キャリアと前記第2キャリアに搬入する第2搬送ピックと、
前記第1搬送ピック,前記第2搬送ピック,前記第1ホルダー,前記第2ホルダーをそれぞれ係脱自在な1台のロボットと、
前記第1キャリアに収容された被処理体と前記第2キャリアに収容された被処理体を、逐次前記処理部に搬送して処理するために、前記ロボットが前記第1搬送ピック、前記第2搬送ピック、前記第1ホルダー、前記第2ホルダーを適宜交換して被処理体を搬送するように、前記ロボットを制御するロボット制御部と、
を具備することを特徴とする処理装置、が提供される。
この第4の観点に係る処理装置では、処理部に搬入する被処理体の数を一定とするために、第1ホルダーに保持される被処理体の数に不足が生じた場合にその不足分を補う補填用の被処理体を収容する第1補填体収容部と、第2ホルダーに保持される被処理体の数に不足が生じた場合にその不足分を補う補填用の被処理体を収容する第2補填体収容部をさらに設けることが好ましい。
このような第4の観点に係る処理装置は、2個のキャリアに収容された被処理体を、順次、処理するために、フットプリントを小さくしながらも、ロボットの稼働効率が高く、これにより一定の高い処理能力を発揮することができ、スループットの高い構成となっている。また、被処理体の搬送に共通のロボットを使用しているので、部品も少なくて済む利点がある。
本発明の第5の観点によれば、上記第1の観点に係る処理装置による被処理体の処理方法、すなわち、被処理体に所定の処理を施す処理方法であって、
被処理体が収容されたキャリアを所定位置に載置する工程と、
被処理体を保持可能に構成された搬送ピックをロボットに係合させ、前記キャリアから被処理体を取り出し、複数の被処理体を収容するホルダーに前記キャリアから取り出した被処理体を収容する工程と、
所定数の被処理体が前記ホルダーに収容された後に、前記搬送ピックを前記ロボットから切り離す工程と、
前記ホルダーを前記ロボットに係合させ、被処理体に所定の処理を行う処理部に前記ホルダーを搬入する工程と、
前記ホルダーに保持された被処理体を処理する工程と、
所定の処理が終了した被処理体を保持したホルダーを前記処理部から搬出し、前記ホルダーを前記ロボットから切り離す工程と、
前記搬送ピックを前記ロボットに係合させ、前記ホルダーから被処理体を取り出して前記キャリアに収容する工程と、
を有することを特徴とする処理方法、が提供される。
このような処理方法においては、処理部において被処理体に処理が施されている間は、ロボットが他の作業を行うことができるように、ホルダーをロボットから切り離し、処理が終了した後に再びホルダーを前記ロボットに係合させることが好ましい。これによりロボットの稼働効率を高めることができる。
また、キャリアを所定位置に載置する工程の後であって、キャリアからホルダーに被処理体を搬送する工程の前に、さらに、被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドをロボットに係合させる工程と、この検査用ハンドを用いてキャリアにおける被処理体の収容状態を検査する工程と、検査用ハンドをロボットから切り離す工程と、を設けることで、キャリアからの被処理体の搬出を確実なものとすることができる。
さらに、所定の処理が終了した被処理体を保持したホルダーを処理部から搬出する工程の後、ホルダーから被処理体を取り出してキャリアに収容する工程の前に、さらに、被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドをロボットに係合させる工程と、この検査用ハンドを用いてホルダーにおける被処理体の収容状態を検査する工程と、検査の終了後に検査用ハンドをロボットから切り離す工程と、を設けることで、ホルダーからの被処理体の搬出を確実なものとすることができる。
本発明によれば、コンパクトで装置コストを低く抑え、しかも高い処理能力を有する処理装置が実現される。また、ロボットが1台で済むことから、従来のように複数のロボットに位置を覚えさせる必要がなく、制御が容易となる。
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。ここでは、被処理体としての半導体ウエハを洗浄する洗浄処理装置を例に挙げることとする。図1に洗浄処理装置100の概略構造を示す斜視図を、図2に洗浄処理装置100の概略構造を示す平面図を、それぞれ示す。
洗浄処理装置100は、ウエハWが収容されたキャリアCを載置するためのキャリア載置部1と、ウエハWに所定の洗浄液(例えばフッ酸水溶液やAPM薬液、純水等)を供給してウエハWを洗浄するチャンバ21を備え、チャンバ21において使用する各種洗浄液の貯留,送液,回収を行う洗浄処理部2と、キャリア載置部1とチャンバ21との間でウエハWの搬送を行うためのウエハ搬送部3と、洗浄処理装置100に備えられた各種電装品を駆動するための配電設備やスイッチングレギュレータ等を備えた電源制御部4と、を有している。
また洗浄処理装置100は、洗浄処理条件の設定(レシピ選択)や洗浄処理の開始/停止を行い、また洗浄処理の進行をモニタするための図示しない制御盤を備えている。この制御盤は、洗浄処理装置100の正面や側面に取り付けてもよいし、洗浄処理装置100から離れた位置に配置してもよい。
キャリアCには、複数(例えば、26枚)のウエハWが略水平姿勢で鉛直方向(Z方向)に一定の間隔(例えば、10mm間隔)で収容されている。キャリア載置部1には、2個のキャリアCをY方向に並べて載置する載置台11が設けられており、ウエハ搬送部3側の垂直パネルには、キャリアCの載置位置に合わせて、シャッタ12a,12bによってそれぞれ開閉自在なウエハ搬入出口13a,13bが形成されている。キャリアCに対するウエハWの搬入出はキャリアCの一側面を通して行われ、この搬入出面には係脱可能な蓋(図示せず)が取り付けられている。キャリアCは、この蓋がウエハ搬入出口13a,13bにフィットするように載置台11に載置される。
シャッタ12aにはキャリアCの蓋を把持する把持機構15が設けられている。把持機構15によってシャッタ12aがキャリアCの蓋を把持した状態で、シャッタ12aをウエハ搬送部3側に後退、降下させることにより、ウエハ搬入出口13aを開口することができるようになっている。シャッタ12bはシャッタ12aと同じ構造を有している。
ウエハ搬送部3の基台3aには、キャリアCとチャンバ21との間でウエハWを搬送するための1台の多関節構造を有する多機能ロボット31(以下「ロボット31」と記す)が配設されている。また、ウエハ搬送部3の天井部には、ウエハ搬送部3に清浄な空気をダウンフローするためのファンフィルタユニット(FFU)が装備されている。
さらに、ウエハ搬送部3は、チャンバ21に対して複数(例えば、キャリアCの収容枚数と同じ26枚)のウエハWを一括して搬入出するために所定間隔(例えば、3mm)で平行に保持する2のホルダー32a・32bと、各ホルダー32a,32bを載置するためのホルダー載置ステージ33a,33bと、キャリアCおよび各ホルダー32a,32bに対してウエハWを1枚ずつ搬入出するために1枚のウエハWを保持する2枚の搬送ピック34a,34bと、各搬送ピック34a,34bを載置するためのピック載置ステージ35a,35bと、キャリアCおよび各ホルダー32a,32bにおけるウエハWの収容状態(例えば、枚数、ウエハWの抜け、斜め挿入等の異常等)を検査するための検査用ハンド36a,36bと、各検査用ハンド36a,36bを載置するためのハンド載置ステージ37a,37bと、ホルダー32a,32bに収容するウエハWの数を調整するためのダミーウエハWが収容されたダミーウエハ収容部40と、を備えている。
なお、各ピック載置ステージ35a,35bは、図2に示す搬送ピック34a,34bのそれぞれ下に配置されており、各ハンド載置ステージ37a,37bは図2に示す検査用ハンド36a,36bのそれぞれ下に配置されているが、これらは図1および図2には図示されておらず、後に図5,6を参照しながら説明することとする。また、ホルダー載置ステージ33a,33bは、ウエハ搬送部3内のウエハ搬入出口13a・13bの上側に配設されているが、これも図1および図2には図示されておらず、後に図7を参照しながら説明することとする。
図3にロボット31の概略構造を示す斜視図を示す。このロボット31は、一般的に垂直多関節型6軸ロボットと呼ばれているものであり、図中の矢印A〜Aの回転動作を組み合わせることによって、人の手・腕に近い動きを行うことができる構造を有している。ロボット31の先端には、ホルダー32a,32b、搬送ピック34a,34b、検査用ハンド36a,36bを個々に係脱するための係脱部60が取り付けられており、ホルダー32a,32b、搬送ピック34a,34b、検査用ハンド36a,36bにはそれぞれ、ロボット31の係脱部60と対をなす係合部63(後に示す図5〜7参照)が設けられている。
図4に係脱部60と係合部63の概略構造とこれらの係脱状態を示す断面図を示す。係脱部60は、係合部63に設けられた係合凹部63a内に挿入される挿入凸部60aを有しており、その挿入凸部60aには係合凹部63a内に横設されたロックピン63bに係合する垂直方向に回転可能なロックカム60bが設けられている。このロックカム60bには中心方向に向かって延びる長孔60cが設けられ、この長孔60c内に回転および摺動自在に係合するピン60dが設けられている。また、係脱部60はエアシリンダ等の伸縮機構により動作するピストンロッド61aを備えており、ロックカム60bはピン60dを介してピストンロッド61aの先端部に連結されている。
ピストンロッド61aの基端には、その先端側よりも外径の長い鍔部61cが形成されており、ピストンロッド61aを収容する筒体61bの内端部とピストンロッド61aの鍔部61cとの間には、ロックカム60bの位置を安定させるためのスプリング60eが設けられている。また、ピストンロッド61aは、係脱部60の挿入凸部60aの基部側に露呈された近接センサ62が、係合部63と係脱部60の近接を確認した後に作動されるようになっている。
例えば、このように構成される係脱部60を備えたロボット31と、係合部63を備えた検査用ハンド36aとを係合させるには、最初に図4(a)に示すように、ピストンロッド61aを係脱部60の先端側に位置させてスプリング60eを縮ませ、係脱部60を係合部63側に移動させてもロックカム60bがロックピン63bに接触しない状態とする。続いて図4(b)に示すように、係合部63の係合凹部63a内に挿入凸部60aが挿入されるように、ロボット31を駆動する。そして、係合凹部63a内の所定位置まで挿入凸部60aが挿入されたことを近接センサ58の信号によって確認した後、次に図4(c)に示すように、スプリング60eが伸びるようにピストンロッド61aを後退させて、ロックカム60bを回転させてロックピン63bに係合させる。これにより、ロボット31と検査用ハンド36aとが係合された状態となる。これらの係合を解く順序は、これらを係合させた順序の逆を行えばよい。
検査用ハンド36a,36bは同じ構造を有し、ハンド載置ステージ37a,37bは同じ構造を有しているので、図5に検査用ハンド36aとハンド載置ステージ37aの概略構造を示す斜視図を示し、これらを例に説明する。検査用ハンド36aの基端部には上述した係合部63が設けられており、二股に分かれた先端部には発光素子39aと受光素子39bとからなるセンサ39が設けられている。また、検査用ハンド36aには、センサ39のオペレーションに関わるケーブル39cが付属しており、検査用ハンド36aをウエハ搬送部3内で移動させることによるケーブル39cの絡み等の発生を防止すべく、ハンド載置ステージ37aはウエハ搬入出口13aに近接した位置に設けられている(図1,図2参照)。
ロボット31がハンド載置ステージ37aにおいて確実に検査用ハンド36aを係脱するために、検査用ハンド36aは常にハンド載置ステージ37aの一定の位置に載置されなければならない。そのため、ハンド載置ステージ37aには、検査用ハンド36aの位置を確認するための位置確認センサ38aが設けられている。
この検査用ハンド36aによるキャリアCに収容されたウエハWの検査方法は、概略、次の通りである。すなわち、ロボット31は検査用ハンド36aを係合した状態で、例えば、検査用ハンド36aをキャリアCに収容された最下端のウエハWの僅かに下側に、その後に検査用ハンド36aを鉛直に(Z方向に)上昇させた際にウエハWに接触しないように、近接させる。発光素子39aを点灯させると、この状態では、発光素子39aと受光素子39bの間の光路には障害物がないために、受光素子39bから受光状態を示す信号が得られる。次に、検査用ハンド36aを一定の速度で下から上に向けてスキャンさせると、ウエハWの端部によって発光素子39aと受光素子39bの間の光路が遮られるために、キャリアCにおけるウエハWの収容状態が良好であれば、受光素子39bから受光状態と遮光状態とが一定の周期で現れる検出信号が得られ、この検出信号からウエハWの位置と数を確認することができる。
また、例えば、ウエハWに抜けがあった場合(ジャンプスロット)には受光状態の時間幅が長い信号部分が得られ、ウエハWが斜めに挿入されている場合には通常よりも遮光状態の時間幅が長い信号部分が得られる。勿論、このような検査用ハンド36aのスキャンは上から下に向かって行ってもよい。ジャンプスロットや斜め状態での収容等の収容異常が検出された場合には、警報(光、音、制御盤でのディスプレイ表示)を発令し、洗浄処理装置100のオペレータがこのような異常に対して、適宜、対処する構成とすることも好ましい。
洗浄処理装置100では、キャリアCにおけるウエハWの収容状態を検査するためのセンサ装置を各ウエハ搬入出口13a・13bの近くに固定して設けないために、その設置スペースを省くことができる。また、各ホルダー32a,32bにおけるウエハWの収容状態を検査するためのセンサ装置を設ける必要もなくなるので、装置コストを低く抑えることもできる。
搬送ピック34a,34bは同じ構造を有し、ピック載置ステージ35a,35bは同じ構造を有しているので、図6(a)に搬送ピック34aとピック載置ステージ35aの概略構造を示す斜視図を示し、これらを例に説明する。搬送ピック34aには、ウエハWを把持するために、例えば4個の把持ピン65a,65b,65c,65dが取り付けられている。これら把持ピン65a〜65dはそれぞれ、図6(b)の斜視図に示すように、円柱部材の長さ方向中心にその外径が上下端部よりも短くなるような絞り(くびれ)が形成された構造を有しており、この絞りの部分でウエハWを把持する。
把持ピン65a,65bは搬送ピック34aの本体に固定されており、把持ピン65c,65dはそれぞれ把持ピン65a,65bに対して図示しない移動機構により接近/後退できるように搬送ピック34aの本体に取り付けられている。把持ピン65a〜65dの高さは、搬送ピック34aをキャリアC内に収容されたウエハWどうしの隙間に挿入することができる厚みとする必要があるため、例えば、キャリアC内でウエハWどうしの間隔が10mmであり、搬送ピック34a本体の厚みが3mmの場合には、1.5〜2.0mmとすることが好ましい。
ロボット31がピック載置ステージ35aにおいて確実に搬送ピック34aを係脱するために、搬送ピック34aは常にピック載置ステージ35aの一定の位置に載置されなければならない。そのため、ピック載置ステージ35aには、搬送ピック34aの位置を確認するための位置確認センサ38bが設けられている。なお、搬送ピック34aをキャリアCに収容されたウエハWを搬出するために用い、搬送ピック34bをチャンバ21での処理が終了したウエハWをキャリアCに搬入するために用いると、洗浄処理前のウエハWに付着したパーティクル等が搬送ピックに転写され、これがさらに洗浄処理が終了したウエハWへ転写されることを防止することができる。
キャリアCからのウエハWの搬出方法には、以下に説明する第1の搬出方法と第2の搬出方法がある。第1の搬出方法では、まず搬送ピック34aをウエハWの下側に挿入し、次いで把持ピン65a〜65dの絞り部がウエハWの真横に位置するように、搬送ピック34aを上昇させる。このとき把持ピン65a〜65dがウエハWに接触しないように、把持ピン65c,65dを基部側(係合部63側)にスライドさせておく。続いて、把持ピン65a,65bの絞り部にウエハWの端面が当接するように、搬送ピック34aを基部側に少し引く。そして把持ピン65c,65dの絞り部にウエハWの端面が当接するように、把持ピン65c,65dをウエハW側にスライドさせる。こうして把持ピン65a〜65dにウエハWが把持されたら、ウエハWをキャリアC内に収容するためにキャリアCの内壁に設けられた棚とウエハWとが摺れないように、搬送ピック34aの高さを調整して、キャリアCから搬送ピック34aを引き出す。
一般的にウエハWは、その主面を上に(裏面を下に)向けてキャリアCに収容されているので、この第1の搬出方法では、ウエハWの裏面が搬送ピック34a本体に対面するように、ウエハWが搬送ピック34aに保持される。
キャリアCに収容されたウエハWを搬出する第2の搬出方法は、ロボット31が図3に示すロボット31の矢印A4による動きによって係合した搬送ピック34aを反転させることができるという特徴を利用する。すなわち、(1)把持ピン65a〜65dが搬送ピック34a本体の下側に位置するように搬送ピック34aを反転させ、(2)搬送ピック34aを取り出すウエハWの上側に挿入し、(3)把持ピン65a〜65dの絞り部がウエハWの真横に位置するように搬送ピック34aを降下させ、(4)把持ピン65a,65bの絞り部にウエハWの端面を当接させ、(5)把持ピン65c,65dの絞り部をウエハWの端面に当接させ、(6)搬送ピック34aをキャリアCから引き出す、という手順で行われる。この第2の搬出方法では、ウエハWの主面が搬送ピック34a本体に対面するように、ウエハWが搬送ピック34aに保持される。図6(c)に、この第2の搬出方法によってウエハWがキャリアCから搬出された状態を示す。
このような第1の搬出方法または第2の搬出方法の逆操作を行うことによって、洗浄処理が終了したウエハWをキャリアCに搬入することができるが、前述したように、キャリアC内ではウエハWはその主面が上を向くように収容する必要があるので、キャリアCへのウエハWの搬入方法は、キャリアCからのウエハWの搬出方法を考慮して決定する。
ホルダー32a,32bは同じ構造を有し、ホルダー載置ステージ33a,33bは同じ構造を有しているので、図7(a)にホルダー32aの概略構造を示す斜視図を示し、図7(b),(c)にホルダー載置ステージ33aの概略構造を示す側面図および裏面図を示し、これらを例に説明する。ホルダー32aは、ベースプレート66と、ベースプレート66上に起立して設けられた把持棒67a,67b,67c,67dと、ベースプレート66の裏面に設けられた係合部63と、を有している。
ベースプレート66の内側と把持棒67a〜67dには、PEEK等の耐食性に優れる材料が用いられ、ベースプレート66の外側には、ステンレス等の金属材料が好適に用いられる。各把持棒67a〜67dには、ウエハWの周縁を挟み込むための溝68が、隣接するウエハWどうしの隙間幅(面間隔)が例えば3mmとなるように、一定の間隔で形成されている。このようにホルダー32aにウエハWを狭い隙間幅で収容することで、チャンバ21(後に説明する)を小型化し、洗浄液の使用量を低減し、また洗浄処理装置100のフットプリントを小さくすることができる。
ホルダー載置ステージ33aには、ロボット31の係脱部60とホルダー32aの係合部63とが係合した状態で、ホルダー載置ステージ33aに対して搬入出できるように、係合部63の大きさに合わせた切り込み69が形成されている。また、ホルダー載置ステージ33aは、把持棒67a側が低く、ウエハWの搬入出側が高くなるように、水平面に対して所定角度(例えば、10度)傾斜して配設されている。これにより、ホルダー32aからのウエハWの落下を防止することができる。ホルダー載置ステージ33aにおけるホルダー32aの載置位置は、例えば、ホルダー載置ステージ33aに設けられたストッパ64によって、一定とされる。ピック載置ステージ35a等と同様に、ホルダー載置ステージ33aに、ホルダー32aの載置位置を決めるための位置確認センサを設けることも好ましい。
上述したようにホルダー32aにおけるウエハWの収容間隔が狭いために、ホルダー32aへのウエハWの搬入は、ベースプレート66側から逐次行う。そのためには、ウエハWを保持した搬送ピック34aのアクセスを搬送ピック34a本体の下側にウエハWが把持されている状態で行う必要がある。搬送ピック34aによってキャリアCからウエハWを搬出するために前述した第1の搬出方法を用いた場合には、キャリアCからウエハWが搬出された後に、ウエハWが搬送ピック34a本体の下側に位置するように、搬送ピック34aを反転させて、先に図6(c)に示した状態とする。
この状態で把持棒67a〜67dに形成された溝68にウエハWが把持されるように、把持棒67a〜67dの長手方向と垂直な方向から搬送ピック34aをホルダー32aにアクセスさせる。続いて、把持ピン65c,65dを搬送ピック34aの基部側(係合部63側)にスライドさせてウエハWと離間させ、把持ピン65a,65bがウエハWと離間するように搬送ピック34aをストッパ64側にスライドさせ、搬送ピック34aを上昇させてホルダー32aから待避させる。これによりウエハWがホルダー32aに保持される。
キャリアCに実際に収容されているウエハWの枚数がキャリアCに収容できる定数に達していない場合に、ベースプレート66側から逐次ウエハWが収容されたホルダー32aをチャンバ21に収容すると、把持棒67a〜67dの先端側にウエハWどうしの隙間よりも広い空間ができるため、ベースプレート66側のウエハWと把持棒67a〜67dの先端側のウエハWとで洗浄状態に差が生ずるおそれがある。そこで、常にホルダー32aに収容されるウエハWの数が一定となるように、不足した数のダミーウエハWがダミーウエハ収容部40からホルダー32aに搬入される。
このダミーウエハ収容部40は、例えば、キャリアCと同じ構造とすることができる。ダミーウエハ収容部40へのダミーウエハWの収容は、ダミーウエハWが収容されたキャリアCを載置台11に載置し、そのキャリアCからダミーウエハ収容部40へウエハWを搬送するように、制御盤から指令を与えることによって行われる。図1ではダミーウエハ収容部40を基台3a上に設けたが、これに限定されるものでなく、ロボット31の稼働範囲内であれば、例えば、ホルダー載置ステージ33a等と同様に、ウエハ搬送部3内の上側に設けてもよい。
ホルダー載置ステージ33a,33bとチャンバ21との間でのウエハWの搬送は、ホルダー32a,32bを個々に係合したロボット31により行われる。洗浄処理装置100では、キャリアCとチャンバ21との間のウエハWの搬送を1台のロボット31で行うために、ウエハ搬送部3のフットプリントを小さくすることができる。
図8に、ホルダー32aをチャンバ21に装着した状態を示す断面図を示す。なお、この図8には、チャンバ21内への各種洗浄液の供給形態を簡略して併記している。チャンバ21のウエハ搬送部3側には、把持棒67a〜67dに把持されたウエハWを搬入出するための窓21aが形成されている。ペースプレート66には段差が設けられており、把持棒67a〜67dが取り付けられている上段部分66aは、チャンバ21の内部に挿入される。
一方、下段部分66bは窓21aの内側に挿入することはできず、上段部分66aとの段差面にはOリング22が配設されている。また、ベースプレート66の下段部分66bの側面には、係合部63が設けられている面の直径がOリング22が設けられている面の直径よりも短くなるように、傾斜が設けられている。そして、把持棒67a〜67dに把持されたウエハWをチャンバ21内に挿入した状態において、ベースプレート66の下段部分66bの側面を囲うように、チャンバ21にエアグリップリング23が設けられている。
チャンバ21に対する各ホルダー32aの脱着はエアグリップリング23を膨張させていない状態で行われる。ロボット31がホルダー32aをチャンバ21側に所定の力で押し当てた状態でエアグリップリング23を膨張させると、ベースプレート66の下段部分66bの側面の傾斜に起因して、ベースプレート66がチャンバ21側に押し込まれ、Oリング22がチャンバ21の壁面に密着して窓21aが閉塞され、かつ、ホルダー32aがチャンバ21に装着された状態となる。このような状態となった後に、ロボット31は係脱部60(図8には示さず)と係合部63との係合を解くことができる。なお、図8ではエアグリップリング23を膨張させていない状態を示している。
洗浄処理装置100では、チャンバ21の窓21aを封止するための専用の蓋とその移動機構を設ける必要がないために、装置構造がシンプルになる。また、エアグリップリング23によってホルダー32aがチャンバ21に装着された状態では、ロボット31はフリーになるので、その間にキャリアCにおけるウエハWの収容状態確認や、キャリアCからの別のホルダー32bへのウエハWの搬送等の作業を行うことができるようになる。
チャンバ21による洗浄処理は、例えば、主にチャンバ21に収容されたウエハWよりも下の位置からチャンバ21内に洗浄液を供給し(図8に示す「主供給」)、これと同時にチャンバ21内における洗浄液の流れを調整するためにチャンバ21の上下方向の中間部からも適量の洗浄液を供給し(図8に示す「副供給」および「補正供給」)、チャンバ21内が常に一定量の洗浄液で満たされた状態を維持しながら、チャンバ21の上部から洗浄液をオーバーフローさせることによって行われる。チャンバ21からオーバーフローした洗浄液は、濾過後に再びチャンバ21に供給することができる。所定の洗浄液による洗浄処理が終了したら、チャンバ21への洗浄液供給を停止して、チャンバ21の下部からチャンバ21内の洗浄液を排出する。
なお、チャンバ21内の上端には、窒素ガス等のガスを一定量溜めるためのガススペース24が設けられており、チャンバ21内で圧力変動を吸収して、チャンバ21からの液漏れの発生等が防止されるようになっている。
次に、洗浄処理装置100によるウエハWの洗浄処理工程について、図9および図10に示すフローチャートを参照しながら説明する。最初に、載置台11にウエハ搬入出口13aと対面するようにキャリアC(以下「キャリアC1」と記す)を載置する(ステップ1)。続いてキャリアC1を開口させるために、シャッタ12aにキャリアC1の蓋を把持させて、シャッタ12aをウエハ搬送部3側に引き込み、降下させる(ステップ2)。
ロボット31をハンド載置ステージ37aにアクセスさせて検査用ハンド36aを係合させ(ステップ3)、キャリアC1におけるウエハWの収容状態を先に説明した検査方法にしたがって調べる(ステップ4)。ここでは、26枚のウエハWが異常なく収容されていたとする。この検査が終了したら、ロボット31を再びハンド載置ステージ37aにアクセスさせて検査用ハンド36aの係合を解き、検査用ハンド36aをハンド載置ステージ37aの所定位置に載置する(ステップ5)。
続いて、ロボット31をピック載置ステージ35aにアクセスさせて搬送ピック34aを係合させ(ステップ6)、先に説明した第1の搬出方法または第2の搬出方法にしたがってキャリアC1からウエハWを搬出し、先に説明したホルダー32aへの搬入方法にしたがって搬出したウエハWをホルダー32aに収容する(ステップ7)。
そして、キャリアC1からホルダー32aへのウエハWの搬送が終了したら、ロボット31を再びピック載置ステージ35aにアクセスさせて搬送ピック34aの係合を解き、搬送ピック34aをピック載置ステージ35aの所定位置に載置する(ステップ8)。次いで、ロボット31を再びハンド載置ステージ37aにアクセスさせて検査用ハンド36aを係合させ(ステップ9)、ホルダー32aにおけるウエハWの収容状態を調べる(ステップ10)。なお、このステップ9,10は省略してもよい。
続いてロボット31をホルダー載置ステージ33aにアクセスさせてホルダー32aを係合させ(ステップ11)、ホルダー32aをホルダー載置ステージ33aから搬出し、縦姿勢(図7(a)に示す姿勢)に変換してチャンバ21にアクセスさせ、エアグリップリング23が動作してホルダー32aがチャンバ21に装着された後に、ホルダー32aの係合を解く(ステップ12)。このステップ12が終了したら、チャンバ21では収容されたウエハWの洗浄処理を開始する(ステップ13)。
このようにしてステップ1〜ステップ12の操作が行われている間に、ウエハ搬入出口13bと対面するように別のキャリアC(以下「キャリアC2」と記す)を載置台11に載置し、キャリアC2を開口させておく(ステップ14)。そして、前述したステップ3〜ステップ11に倣って、キャリアC2におけるウエハWの収容状態の検査、キャリアC2に収容されたウエハWのホルダー32bへの搬送を行う(ステップ15)。なお、ここでは、ステップ15が終了する前にチャンバ21でのステップ13の洗浄処理が終了していても、ステップ15の処理が優先して行われることとする。
チャンバ21でのキャリアC1に係るウエハWの洗浄処理が終了したら、ロボット31をチャンバ21に装着されたホルダー32aにアクセスさせてこれを係合させ(ステップ16)、エアグリップリング23によるホルダー32aの保持が解除された後に、ホルダー32aをチャンバ21からホルダー載置ステージ33aへと搬送する(ステップ17)。そして、ロボット31とホルダー32aとの係合を解いた後に、ステップ11〜13に倣って、ロボット31をホルダー載置ステージ33bにアクセスさせてホルダー32bを係合させ、チャンバ21へ装着し、洗浄処理を開始する(ステップ18)。
ステップ18の洗浄処理が始まった時点で、ロボット31はフリーになっているので、ロボット31をピック載置ステージ35bにアクセスさせて搬送ピック34bを係合させ、ホルダー32aからキャリアC1へウエハWを搬送する(ステップ19)。キャリアC1にウエハWが収容されたらシャッタ12aによりウエハ搬入出口13aを閉じ、シャッタ12aによるキャリアC1の蓋の把持を解除して、キャリアC1を次の処理工程を行う装置等へと搬送する(ステップ20)。
なお、ホルダー32aから洗浄処理が終了したウエハWを搬出する前に、ホルダー32aにおけるウエハWの収容状態を検査用ハンド36aを用いて検査することも好ましい。この検査により、例えば、洗浄処理中におけるウエハWの破損等の有無を確認することができる。また、ステップ18の終了後に新たなキャリアCがウエハ搬入出口13aと対面するように載置された場合には、前述したステップ2〜8にしたがって、そのキャリアCに収容されたウエハWをホルダー32aに搬送し、さらにステップ9,10にしたがってホルダー32aに収容されたウエハWの検査を行ってもよい。
キャリアC2に係るウエハWの洗浄処理が終了したら、ステップ16,17,19,20に倣って、ロボット31にチャンバ21に装着されたホルダー32bを係合させ、エアグリップリング23によるホルダー32bの保持が解除された後に、ホルダー32bをチャンバ21からホルダー載置ステージ33bへと搬送し、ロボット31とホルダー32bとの係合を解き、ロボット31に搬送ピック34bを係合させてホルダー32bからキャリアC2へウエハWを搬送し、シャッタ12bによりウエハ搬入出口13bを閉じ、シャッタ12bによるキャリアC2の蓋の把持を解除して、キャリアC2を次の処理工程を行う装置等へと搬送する(ステップ21)。
以降、上述した一連の処理が載置台11にキャリアCが搬入され次第、逐次行われるが、ウエハWの搬送順序は、チャンバ21の稼働状況を踏まえて好ましくはスループットが向上するように、変更することができる。このように、洗浄処理装置100では、ロボット31の稼動率が高く、これによって一定の高いスループットを実現することができる。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明はこのような形態に限定されるものではない。例えば、キャリア載置部1には2個のキャリアCを載置できる構成としたが、キャリアCの載置数は、ロボット31の可動範囲の広さによって決定されるものであり、本発明は、3個以上のキャリアCを載置することができる構成へ変更することを妨げない。
また、より多くのキャリアCを載置する構成とした場合、スループットを向上させる観点からはチャンバの数を増やすことが望まれるが、その場合にはフットプリントが大きくなるので、フットプリントとスループットのバランスを考慮して、構成を決定すればよい。
検査用ハンド36a,36bには、ケーブル39cが付属した構成を示したが、センサ39をバッテリー駆動させ、かつ、センサ検出信号を電波等に変換して制御部へ送る構成へ変更すると、ケーブル39cが不要となるので、その場合には、1本の検査用ハンドで2カ所に載置されたキャリアCおよび各ホルダー34a,34bの収容状態を検査することができる構成を実現することができる。
洗浄処理装置100では、検査用ハンド36a,36bと搬送ピック34a,34bをそれぞれ水平に載置する構成としたが、これに限定されず、図11の垂直断面図に示すように、これらを縦姿勢で収容することができるポケット91a(検査用ハンド36a,36b用),91b(搬送ピック34a,34b用)を設けた構成としてもよい。この場合、ウエハ搬送部のフットプリントをさらに小さくすることができる。
ホルダー32a,32bとしては、ベースプレート66側からウエハWの搬入を行い、ウエハWの搬出を把持棒67a〜67dの先端側から行うものを示したが、ホルダー32a,32bの構造は、これに限定されるものではない。例えば、把持棒67a〜67dに形成される溝68のうちでベースプレート66に最も近い溝の位置を、その溝に把持されるウエハWとベースプレート66と間に形成される隙間に搬送ピック34a,34bが十分にアクセスできる位置に設定したホルダーでは、ホルダーへのウエハWの搬入をベースプレート66側からも把持棒67a〜67dの先端側からも行うことができ、また、ホルダーからのウエハWの搬出をベースプレート66側からも把持棒67a〜67dの先端側からも行うことができる。
但し、このようなホルダーを用いようとすると、チャンバを相応に大型化する必要が生ずる。また、このホルダーでは、ウエハW間の隙間幅とウエハWとベースプレート66との間の隙間幅とが異なるので、最もベースプレート66側に把持されたウエハWの洗浄後の状態が他のウエハWの洗浄後の状態と実質的に変わらない場合に用いることができる。
また、搬送ピックとして1枚の半導体ウエハを搬送するものを取り上げたが、処理時のピッチ(洗浄処理装置100の場合、ホルダー32a・32bにおけるウエハ間隔)に余裕のある場合には、搬送ピックは必ずしも1枚を保持するものでなくともよい。さらに、上記説明においては、被処理体として半導体ウエハを取り上げたが、これに限定されるものではなく、その他の被処理体、例えば、フラットパネルディスプレイ(FDP)用のガラス基板、各種セラミックス基板、樹脂基板等であってもよく、さらに被処理体は基板に限定されるものでもない。
本発明は、半導体装置やFDP等の製造のための各種基板の洗浄処理装置やエッチング処理装置、超臨界流体処理装置に好適であり、さらに熱処理装置等にも適用することができる。
洗浄処理装置の概略構造を示す斜視図。 洗浄処理装置の概略構造を示す平面図。 ロボットの概略構造を示す斜視図。 係脱部と係合部の概略構造とこれらの係脱状態を示す断面図。 検査用ハンドとハンド載置ステージの概略構造を示す斜視図。 搬送ピックとピック載置ステージの概略構造を示す斜視図と、把持ピンの概略構造を示す斜視図と、ウエハを下側で保持した状態を示す斜視図。 ホルダーの概略構造を示す斜視図と、ホルダー載置ステージの概略構造を示す側面図と、裏面図。 ホルダーをチャンバに装着した状態を示す断面図。 洗浄処理装置によるウエハの洗浄工程を示すフローチャート。 洗浄処理装置によるウエハの洗浄工程を示すフローチャート。 検査用ハンドと搬送ピックの別の配設形態を示す断面図。
符号の説明
1;キャリア載置部
2;洗浄処理部
3;ウエハ搬送部
11;載置台
21;チャンバ
23;エアグリップリング
31;ロボット
32a・32b;ホルダー
34a・34b;搬送ピック
36a・36b;検査用ハンド
40;ダミーウエハ収容部
60;係脱部
63;係合部
65a〜65d;把持ピン
67a〜67d;把持棒
91a・91b;ポケット
100;洗浄処理装置

Claims (19)

  1. 被処理体に所定の処理を施す処理装置であって、
    被処理体が収容されたキャリアを載置するためのキャリア載置部と、
    被処理体に所定の処理を施すための処理部と、
    前記処理部に対して被処理体を搬入出するホルダーと、
    前記キャリアおよび前記ホルダーに対して被処理体を搬入出する搬送ピックと、
    前記搬送ピックと前記ホルダーをそれぞれ係脱自在なロボットと、
    を具備し、
    前記ロボットは、前記搬送ピックと前記ホルダーとを交換して前記キャリア載置部に載置されたキャリアと前記処理部との間で被処理体を搬送することを特徴とする処理装置。
  2. 前記搬送ピックは、1つの被処理体を保持することを特徴とする請求項1に記載の処理装置。
  3. 前記ホルダーは、複数の被処理体を保持することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の処理装置。
  4. 前記処理部に搬入する被処理体の数を一定とするために、前記ホルダーに保持される被処理体の数に不足が生じた場合にその不足分を補う補填用の被処理体を収容する補填体収容部をさらに具備することを特徴とする請求項3に記載の処理装置。
  5. 前記ロボットは前記搬送ピックを係合して、前記キャリア載置部に載置されたキャリアと前記補填体収容部との間および前記ホルダーと前記補填体収容部との間で前記補填用の被処理体を搬送することを特徴とする請求項4に記載の処理装置。
  6. 前記搬送ピックを載置するためのピック載置部と、
    前記ホルダーを載置するためのホルダー載置部と、
    前記ピック載置部における前記搬送ピックの載置位置を検出するピック位置確認センサと、
    前記ホルダー載置部における前記ホルダーの載置位置を検出するホルダー位置確認センサと、
    をさらに具備し、
    前記ロボットは、前記ピック位置確認センサの検出信号に基づいて前記搬送ピックを前記ピック載置部の一定位置で係脱し、前記ホルダー位置確認センサの検出信号に基づいて前記ホルダーを前記ホルダー載置部の一定位置で係脱することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の処理装置。
  7. 被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドをさらに具備し、
    前記ロボットは、さらに前記検査用ハンドを係脱自在であり、前記検査用ハンドを係合して前記キャリアにおける被処理体の収容状態の検査を行うことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の処理装置。
  8. 前記ロボットは前記検査用ハンドを係合して、さらに前記ホルダーにおける被処理体の収容状態の検査を行うことを特徴とする請求項7に記載の処理装置。
  9. 前記検査用ハンドを載置するためのハンド載置部と、
    前記ハンド載置部における前記検査用ハンドの載置位置を検出するハンド位置確認センサと、
    をさらに具備し、
    前記ロボットは、前記ハンド位置確認センサの検出信号に基づいて前記検査用ハンドを前記ハンド載置部の一定位置で係脱することを特徴とする請求項7または請求項8に記載の処理装置。
  10. 前記搬送ピックを2本備え、
    1本の搬送ピックは前記キャリアに収容された被処理体を搬出するために用いられ、残る1本の搬送ピックは前記処理部での処理が終了した被処理体を前記キャリアに搬入するために用いられることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の処理装置。
  11. 前記処理部は、前記ホルダーに保持された被処理体をその内部に収容するために前記被処理体を搬入出するための窓を有するチャンバと、前記チャンバに所定の処理流体を供給する流体供給機構と、前記ホルダーを前記チャンバに装着するためのクランプ機構と、を備え、
    前記ホルダーは、前記ホルダーに保持された被処理体が前記チャンバに収容された状態において前記窓を封止する封止部材を備え、
    前記ホルダーが前記クランプ機構によって前記チャンバに装着された状態で、前記ロボットは前記ホルダーを係脱することを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の処理装置。
  12. 被処理体に所定の処理を施す処理装置であって、
    被処理体が収容されたキャリアを載置するためのキャリア載置部と、
    被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドと、
    前記キャリア載置部に載置されたキャリアに対して被処理体を搬入出する搬送ピックと、
    前記検査用ハンドと前記搬送ピックとをそれぞれ係脱自在なロボットと、
    を具備し、
    前記ロボットは、前記検査用ハンドを係合して前記キャリア載置部に載置されたキャリアにおける被処理体の収容状態を検査し、前記搬送ピックを係合して前記キャリア載置部に載置されたキャリアに対する被処理体の搬入出を行うことを特徴とする処理装置。
  13. 被処理体に所定の処理を施す処理装置であって、
    被処理体が収容されたキャリアを載置するためのキャリア載置部と、
    被処理体に所定の処理を施すための処理部と、
    被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドと、
    前記処理部に対して被処理体を搬入出するホルダーと、
    前記検査用ハンドと前記ホルダーとをそれぞれ係脱自在なロボットと、
    を具備し、
    前記ロボットは、前記検査用ハンドを係合して前記キャリア載置部に載置されたキャリアおよび/または前記ホルダーにおける被処理体の収容状態を検査し、前記ホルダーを係合して前記処理部に被処理体の搬入出を行うことを特徴とする処理装置。
  14. 被処理体に所定の処理を施す処理装置であって、
    被処理体が収容された第1キャリアと第2キャリアを載置するためのキャリア載置部と、
    被処理体に所定の処理を施すための処理部と、
    前記処理部に対して被処理体を搬入出する第1ホルダーおよび第2ホルダーと、
    前記第1キャリアと前記第2キャリアから被処理体を搬出し、それぞれ前記第1ホルダーと前記第2ホルダーに搬入する第1搬送ピックと、
    前記第1ホルダーと前記第2ホルダーから被処理体を搬出し、それぞれ前記第1キャリアと前記第2キャリアに搬入する第2搬送ピックと、
    前記第1搬送ピック,前記第2搬送ピック,前記第1ホルダー,前記第2ホルダーをそれぞれ係脱自在な1台のロボットと、
    前記第1キャリアに収容された被処理体と前記第2キャリアに収容された被処理体を、逐次前記処理部に搬送して処理するために、前記ロボットが前記第1搬送ピック、前記第2搬送ピック、前記第1ホルダー、前記第2ホルダーを適宜交換して被処理体を搬送するように、前記ロボットを制御するロボット制御部と、
    を具備することを特徴とする処理装置。
  15. 前記処理部に搬入する被処理体の数を一定とするために、前記第1ホルダーに保持される被処理体の数に不足が生じた場合にその不足分を補う補填用の被処理体を収容する第1補填体収容部と、前記第2ホルダーに保持される被処理体の数に不足が生じた場合にその不足分を補う補填用の被処理体を収容する第2補填体収容部と、をさらに具備することを特徴とする請求項14に記載の処理装置。
  16. 被処理体に所定の処理を施す処理方法であって、
    被処理体が収容されたキャリアを所定位置に載置する工程と、
    被処理体を保持可能に構成された搬送ピックをロボットに係合させ、前記キャリアから被処理体を取り出し、複数の被処理体を収容するホルダーに前記キャリアから取り出した被処理体を収容する工程と、
    所定数の被処理体が前記ホルダーに収容された後に、前記搬送ピックを前記ロボットから切り離す工程と、
    前記ホルダーを前記ロボットに係合させ、被処理体に所定の処理を行う処理部に前記ホルダーを搬入する工程と、
    前記ホルダーに保持された被処理体を処理する工程と、
    所定の処理が終了した被処理体を保持したホルダーを前記処理部から搬出し、前記ホルダーを前記ロボットから切り離す工程と、
    前記搬送ピックを前記ロボットに係合させ、前記ホルダーから被処理体を取り出して前記キャリアに収容する工程と、
    を有することを特徴とする処理方法。
  17. 前記処理部において被処理体に処理が施されている間は、前記ホルダーを前記ロボットから切り離した状態とし、所定の処理が終了した後に再び前記ホルダーを前記ロボットに係合させることを特徴とする請求項16に記載の処理方法。
  18. 前記キャリアを所定位置に載置する工程の後、前記キャリアから前記ホルダーに被処理体を搬送する工程の前に、さらに、
    被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドを前記ロボットに係合させる工程と、
    前記検査用ハンドを用いて前記キャリアにおける被処理体の収容状態を検査する工程と、
    その検査の終了後に前記検査用ハンドを前記ロボットから切り離す工程と、
    を有することを特徴とする請求項16または請求項17に記載の処理方法。
  19. 前記所定の処理が終了した被処理体を保持したホルダーを前記処理部から搬出する工程の後、前記ホルダーから被処理体を取り出して前記キャリアに収容する工程の前に、さらに、
    被処理体を認識するセンサを備えた検査用ハンドを前記ロボットに係合させる工程と、
    前記検査用ハンドを用いて前記ホルダーにおける被処理体の収容状態を検査する工程と、
    その検査の終了後に前記検査用ハンドを前記ロボットから切り離す工程と、
    を有することを特徴とする請求項16から請求項18のいずれか1項に記載の処理方法。
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