JP2006171059A - 光反射鏡、その製造方法およびプロジェクター - Google Patents
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Abstract
【解決手段】強化繊維を8〜20質量%含有するプラスチック強化層50aと、このプラスチック強化層50aの表面に形成され強化繊維を5質量%以下含有するプラスチック光沢層50bとを含む基材50と、この基材50の前記プラスチック光沢層表面に被着させた反射膜52とを備えた光反射鏡である。前記基材50は、金型内に前記プラスチック強化層用およびプラスチック光沢層用の熱硬化性樹脂組成物のいずれかを一方を注入して前記プラスチック強化層またはプラスチック光沢層を成形後、他方の熱硬化性樹脂組成物を注入して光沢層50bまたは強化層50aを成形することによって得られる。
【選択図】図1
Description
(1)強化繊維を8〜20質量%含有するプラスチック強化層と、このプラスチック強化層の表面に形成され強化繊維を5質量%以下含有するプラスチック光沢層とを含む基材と、この基材の前記プラスチック光沢層表面に被着させた銀を含む反射膜とを備えたことを特徴とする光反射鏡。
(2)前記プラスチック光沢層は、前記プラスチック強化層よりも厚さが薄いことを特徴とする上記(1)に記載の光反射鏡。
(3)前記プラスチック強化層の強度が90MPa以上であることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載の光反射鏡。
(4)前記プラスチック光沢層の表面は、PV値が0.5μm以下で、かつ鋭角な突起のない、なめらかな面であることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれかに記載の光反射鏡。
(5)前記プラスチック強化層とプラスチック光沢層との線膨張係数の差が3×10-5/℃以内である上記(1)〜(4)のいずれかに記載の光反射鏡。
(6)前記プラスチック強化層は、不飽和ポリエステル樹脂7〜19質量%、熱可塑性樹脂6〜19質量%、無機充填剤50〜78質量%、強化繊維8〜20質量%および硬化剤0.1〜3質量%からなる強化層形成用の熱硬化性樹脂組成物を成形したものであることを特徴とする上記(1)〜(5)のいずれかに記載の光反射鏡。
(7)前記プラスチック光沢層は、不飽和ポリエステル樹脂7〜19質量%、熱可塑性樹脂6〜19質量%、無機充填剤70〜84質量%、強化繊維5質量%以下および硬化剤0.1〜3質量%からなる光沢層形成用の熱硬化性樹脂組成物を成形したものであることを特徴とする上記(1)〜(5)のいずれかに記載の光反射鏡。
(8)前記無機充填剤の平均粒径が0.1〜60μmである上記(6)または(7)に記載の光反射鏡。
(9)前記強化繊維は、繊維長が1〜3mmであり、径が5〜100μmである上記(6)または(7)のいずれかに記載の光反射鏡。
(10)前記銀を含む反射膜が、X線回折による(111)ピーク強度がその他のピーク強度の合計の20倍以上であることを特徴とする上記(1)に記載の光反射鏡。
(11)前記銀を含む反射膜の表面は、PV値が0.5μm以下で、かつ鋭角な突起のなり、なめらかな面であることを特徴とする上記(1)または(10)に記載の光反射鏡。
(12)前記銀の反射膜の厚みが100〜200nmであることを特徴とする上記(1)、(10)または(11)に記載の光反射鏡。
(13)前記反射膜と基材との間に密着性向上膜が介在していることを特徴とする上記(1)に記載の光反射鏡。
(14)前記密着性向上膜が、Cr、CrO、Cr2O3、Y2O3、LaTiO3、La2Ti3O8、SiO2、TiO2およびAl2O3からなる群より選ばれる少なくとも1種からなり、厚さが10〜200nmである誘電体層である上記(13)に記載の光反射鏡。
(15)前記反射膜の表面に、反射増加膜が形成されていることを特徴とする上記(1)に記載の光反射鏡。
(16)前記反射膜が、Y2O3、MgF2、LaTiO3、La2Ti3O8、SiO2、TiO2およびAl2O3からなる群より選ばれる化合物から形成される2層以上の透明誘電体層であることを特徴とする上記(15)に記載の光反射鏡。
(17)前記反射増加膜が、反射膜表面に少なくとも高屈折率の透明誘電体層と、低屈折率の透明誘電体層とを積層して形成されていることを特徴とする上記(15)または(16)に記載の光反射鏡。
(18)強化繊維を8〜20質量%含有するプラスチック強化層および強化繊維を5質量%以下含有するプラスチック光沢層を積層成形して基材を得る工程と、得られた基材のうちプラスチック光沢層の表面に銀を含む反射膜を形成する工程とを含む光反射鏡の製造方法。
(19)金型内に前記強化層用および光沢層用の熱硬化性樹脂組成物のいずれかを一方を注入して前記プラスチック強化層またはプラスチック光沢層を成形後、他方の熱硬化性樹脂組成物を注入してプラスチック光沢層またはプラスチック強化層を成形する上記(18)に記載の光反射鏡の製造方法。
(20)一方の熱硬化性樹脂組成物の成形後、前記金型内を脱気して、または脱気しながら、前記他方の熱硬化性樹脂組成物の成形が行われる上記(19)に記載の光反射鏡の製造方法。
(21)前記強化層および光沢層形成用の各熱硬化性樹脂組成物が、さらに離型剤を0.1〜3質量%含有していることを特徴とする上記(18)〜(20)のいずれかに記載の光反射鏡の製造方法。
(22)前記基材の表面に、銀を含む反射膜を形成するに先立って、前記基材の表面に密着性向上膜を形成することを特徴とする上記(18)に記載の反射鏡の製造方法。
(23)前記基材の表面に銀を含む反射膜を形成した後、反射膜の表面に反射増加膜を形成することを特徴とする上記(18)〜(22)のいずれかに記載の反射鏡の製造方法。
(24)前記反射増加膜が、2層以上の透明誘電体層からなる上記(23)に記載の反射鏡の製造方法。
(25)前記反射増加膜が、反射膜表面に少なくとも高屈折率の透明誘電体層と、低屈折率の透明誘電体層とを積層して形成されていることを特徴とする上記(23)または(24)に記載の反射鏡の製造方法。
(26)上記(1)〜(17)のいずれかに記載の光反射鏡を具備したことを特徴とするプロジェクター。
一つの金型の中に二つの別形状を加工しておく方法としては、上記のほかに、例えば(1)仕切り板を設けて強化層と光沢層のいずれか一方を成形後、油圧装置または電動機により仕切り板を外し他方の層を成形する、(2)例えば上型内に二つの形状がそれぞれ並設されており、いずれかの形状で強化層と光沢層のいずれか一方を成形後、型を開いて、下型または上型をスライドするかまたは回転させ、他方の形状にて一方の層の上に他方の層を成形するなどの方法も挙げられる。
従って、以上の点から、反射膜52は緻密で平坦であるため、光の散乱や吸収を抑制して高い反射率を実現していると考えられる。
また、チャンバ11内へのガス供給量は、薄膜形成初期に多く、その後は少なくするため、チャンバ11内に供給された不活性ガスの原子や分子が基材50に衝突することによる基材50の温度上昇を抑制することができる。
(2)光の入射角が10〜50°の範囲において反射率の変化量が0.5%以下と小さい。
(3)プラスチック基材等との密着性に優れる。
(4)密着性に優れることから、腐蝕が少なく耐久性が飛躍的に改善される。
A.液晶プロジェクタ装置用の反射鏡。
従来のアルミニウム反射層を用いた反射鏡のように、青色光、緑色光、赤色光(3原色光)にそれぞれ対応した3種類のものを作製する必要がなく、1種類の反射鏡で各色に対して高い反射率が得られる。
B.DLPプロジェクタ用のライトトンネル(角筒状の基体の内面に銀膜および透明誘電体層を形成した光学部品)。
C.天体望遠鏡、双眼鏡などの反射鏡。
D.各種光学装置のアルミニウム反射層を用いた反射鏡の代替品。
E.基材がプラスチックであるので、成形により表面に所定の凹凸が形成された異形プラスチック基材に反射膜を被覆した高反射異形ミラー等。
不飽和ポリエステル樹脂:日本ユピカ(株)製の商品名「ユピカ7123」
熱可塑性樹脂:日本ユピカ(株)製の商品名「A−25」
無機充填材:日東粉化工業(株)製の商品名「NS−200」
強化繊維:日本硝子繊維(株)製の商品名「RES03−BM5」
硬化剤(A):日本油脂(株)製の商品名「パーヘキサHC」
硬化剤(B):日本油脂(株)製の商品名「パーブチルZ」
離型剤:旭電化工業(株)製の商品名「エフコ・ケムZNS−P」
成形温度:165℃
形締圧力:150kgf/cm2
注入圧力:50kgf/cm2
硬化時間:3分
成形温度:165℃
形締圧力:150kgf/cm2
注入圧力:50kgf/cm2
硬化時間:3分
(i) 密着性向上膜51:Y2O3(厚さ40nm)
(ii) 反射膜52:銀Ag(厚さ100nm)
(iii) 第一透明誘電体層53:フッ化マグネシウムMgF2(厚さ73nm)
(iv) 第二透明誘電体層54:チタン酸ランタンLa2Ti3O8(厚さ60nm)
各膜(層)の作製条件は以下の通りである。
蒸発材料9:Y2O3(純度99%)
チャンバ11内への導入ガス:Arガスおよび酸素ガス
高周波電力供給電源5からの基材保持部2への印加電力:周波数13.56MHzで85mW/cm2(基材保持部2の単位面積当たりの印加電力)
直流印加電源6:陰極側を基材保持部2に接続し、陽極側をボート1に接続
直流印加電源6から基材保持部2への印加電圧:230V
チャンバ11:接地されていない電気的に浮遊状態
Y2O3層の形成速度:15Å/秒以下
(A)Y2O3層形成の初期段階(図3の期間T2)
チャンバ11内の真空度:2×10-2Paで一定
加熱電源3からボート1への通電電流:350A(T2終期)
(B)Y2O3層の形成段階(図3の期間T3)
チャンバ11内の真空度:2×10-2Paで一定
加熱電源3からボート1への通電電流:230A(T3終期)
かくして厚さ40nmのY2O3層を基材50表面に作製することができた。この薄膜作製の全期間を通じて基板50の表面温度は40℃未満に保持されていた。
加熱電源3からボート1への通電電流:230A(T3終期)
かくして厚さ40nmのLaTiO3層を基材50表面に作製することができた。この薄膜作製の全期間を通じて基板50の表面温度は40℃未満に保持されていた。
蒸発材料9:銀(純度99.9%)
チャンバ11内への導入ガス:アルゴンガス
高周波電力供給電源5からの基材保持部2への印加電力:周波数13.56MHzで85mW/cm2(基材保持部2の単位面積当たりの印加電力)
直流印加電源6:陰極側を基材保持部2に接続し、陽極側をボート1に接続
直流印加電源6から基材保持部2への印加電圧:230V
チャンバ11:接地されていない電気的に浮遊状態
反射膜の形成速度:5〜18Å/秒
(a)反射膜形成の初期段階(図3の期間T2)
チャンバ11内の真空度:2×10-2Paで一定
加熱電源3からボート1への通電電流:280A(T2終期)
(b)反射膜の形成段階(図3の期間T3)
チャンバ11内の真空度:2×10-2Paで一定
加熱電源3からボート1への通電電流:約210A(T3終期)
かくして厚さ110nmの反射膜をY2O3層の表面に作製することができた。この反射膜作製の全期間を通じて基板50の表面温度は、40℃で反応するサーモシールが僅かに反応したことから、40〜45℃程度に保持されていた。
蒸発材料9:フッ化マグネシウムMgF2(純度99.9%)
チャンバ11内への導入ガス:Arガス
高周波電力供給電源5からの基材保持部2への印加電力:周波数13.56MHzで85mW/cm2(基材保持部2の単位面積当たりの印加電力)
直流印加電源6:陰極側を基材保持部2に接続し、陽極側をボート1に接続
直流印加電源6から基材保持部2への印加電圧:230V
チャンバ11:接地されていない電気的に浮遊状態
MgF2層の形成速度:15Å/秒以下
(A)MgF2層形成の初期段階(図3の期間T2)
チャンバ11内の真空度:2×10-2Paで一定
加熱電源3からボート1への通電電流:350A(T2終期)
(B)MgF2層の形成段階(図3の期間T3)
チャンバ11内の真空度:2×10-2Paで一定
加熱電源3からボート1への通電電流:230A(T3終期)
かくして厚さ54nmのMgF2層を反射膜の表面に作製することができた。このMgF2層作製の全期間を通じて基板50の表面温度は、40℃以上で反応するサーモシールが反応しなかったことから40℃未満に保持されていた。
引き続き、
蒸発材料9:酸化イットリウムY2O3(純度99%)
チャンバ11内への導入ガス:Arガスおよび酸素ガス
高周波電力供給電源5からの基材保持部2への印加電力:周波数13.56MHzで85mW/cm2(基材保持部2の単位面積当たりの印加電力)
直流印加電源6:陰極側を基材保持部2に接続し、陽極側をボート1に接続
直流印加電源6から基材保持部2への印加電圧:230V
チャンバ11:接地されていない電気的に浮遊状態
Y2O3層の形成速度:15Å/秒以下
の条件で
(A)Y2O3層形成の初期段階(図3の期間T2)
チャンバ11内の真空度:2×10-2Paで一定
加熱電源3からボート1への通電電流:350A(T2終期)
(B)Y2O3層の形成段階(図3の期間T3)
チャンバ11内の真空度:2×10-2Paで一定
加熱電源3からボート1への通電電流:230A(T3終期)
かくして厚さ20nmのLaTiO3層を基材50表面に作製することができた。この薄膜作製の全期間を通じて基板50の表面温度は40℃未満に保持されていた。
前記2層に代えてLa2Ti3O8を使用した他は前記(I)と同様にして、Y2O3層の表面に厚さ50nmのLa2Ti3O8層を作製した。このLa2Ti3O8層作製の全期間を通じて基板50の表面温度は、40℃以上で反応するサーモシールが反応しなかったことから40℃未満に保持されていた。
1.強度試験
JIS K6911(1995)(曲げ強度試験)により、基材を構成する光沢層、強化層およびこれらの複合した基材の曲げ強度を測定した。その結果を表2に示す。
反射膜表面の表面状態およびPV値を非接触三次元輪郭測定機(三鷹光機(株)製の商品名「NH−3SP」)により測定した。その結果を図5に示す。図5は対物レンズの倍率100倍で測定された反射膜表面の三次元形状を示している。図5から、反射膜の表面は、鋭角な突起のない、なめらかな面であることがわかる。また、同図から測定される高さ(厚み)方向の最大値は0.21μm、最小値は−0.20μmであるので、PV値は約0.4μmとなる。
第一透明誘電体層53および第二透明誘電体層54を形成していない状態で、SEM(走査電子顕微鏡)にて5000倍の表面(斜め方向から観察した表面の写真)および断面を観察した。それらのSEM写真を図6および図7にそれぞれ示す。
X線回折装置(理学電気社製のRINT1400V型)を用い、X線出力50kV‐200mA、測定範囲2θ=10°〜100°、発光スリット−散乱スリット−受光スリット:1°−1°−0.3mmにて測定した。その結果、実施例の反射膜52は、(111)ピーク強度がその他のピーク強度の合計の約23倍であった。
(1)可視光領域での反射率測定
可視光領域(波長:約350〜750nm)での反射率を光度計((株)日立製作所製の分光光度計U−4000)にて測定した。その結果、反射率は98%であった。
基材として前記光沢層と同組成の成形材料のみを用いて成形した基材(以下、光沢基材という)と、前記強化層と同組成の成形材料のみを用いて成形した基材(以下、強化基材という)とを用いた他は、実施例と同様にして光反射鏡を作製した。この光反射鏡について、実施例と同様にして反射率およびPV値の評価試験を行なった。その結果を表3に示す。
Claims (26)
- 強化繊維を8〜20質量%含有するプラスチック強化層と、このプラスチック強化層の表面に形成され強化繊維を5質量%以下含有するプラスチック光沢層とを含む基材と、
この基材の前記プラスチック光沢層表面に被着させた銀を含む反射膜とを備えたことを特徴とする光反射鏡。 - 前記プラスチック光沢層は、前記プラスチック強化層よりも厚さが薄いことを特徴とする請求項1に記載の光反射鏡。
- 前記プラスチック強化層の強度が90MPa以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光反射鏡。
- 前記プラスチック光沢層の表面は、PV値が0.5μm以下で、かつ鋭角な突起のない、なめらかな面であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光反射鏡。
- 前記プラスチック強化層とプラスチック光沢層との線膨張係数の差が3×10-5/℃以内である請求項1〜4のいずれかに記載の光反射鏡。
- 前記プラスチック強化層は、不飽和ポリエステル樹脂7〜19質量%、熱可塑性樹脂6〜19質量%、無機充填剤50〜78質量%、強化繊維8〜20質量%および硬化剤0.1〜3質量%からなる強化層形成用の熱硬化性樹脂組成物を成形したものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光反射鏡。
- 前記プラスチック光沢層は、不飽和ポリエステル樹脂7〜19質量%、熱可塑性樹脂6〜19質量%、無機充填剤70〜84質量%、強化繊維5質量%以下および硬化剤0.1〜3質量%からなる光沢層形成用の熱硬化性樹脂組成物を成形したものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光反射鏡。
- 前記無機充填剤の平均粒径が0.1〜60μmである請求項6または7に記載の光反射鏡。
- 前記強化繊維は、繊維長が1〜3mmであり、径が5〜100μmである請求項6または7のいずれかに記載の光反射鏡。
- 前記銀を含む反射膜が、X線回折による(111)ピーク強度がその他のピーク強度の合計の20倍以上であることを特徴とする請求項1に記載の光反射鏡。
- 前記銀を含む反射膜の表面は、PV値が0.5μm以下で、かつ鋭角な突起のない、なめらかな面であることを特徴とする請求項1または10に記載の光反射鏡。
- 前記銀を含む反射膜の厚みが100〜200nmであることを特徴とする請求項1、10または11に記載の光反射鏡。
- 前記反射膜と基材との間に密着性向上膜が介在していることを特徴とする請求項1に記載の光反射鏡。
- 前記密着性向上膜が、Cr、CrO、Cr2O3、Y2O3、LaTiO3、La2Ti3O8、SiO2、TiO2およびAl2O3からなる群より選ばれる少なくとも1種からなり、厚さが10〜200nmである誘電体層である請求項13記載の光反射鏡。
- 前記反射膜の表面に反射増加膜が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光反射鏡。
- 前記反射増加膜が、Y2O3、MgF2、LaTiO3、La2Ti3O8、SiO2、TiO2およびAl2O3からなる群より選ばれる化合物から形成される2層以上の透明誘電体層であることを特徴とする請求項15に記載の光反射鏡。
- 前記反射増加膜が、反射膜表面に少なくとも高屈折率の透明誘電体層と、低屈折率の透明誘電体層とを積層して形成されていることを特徴とする請求項15または16に記載の光反射鏡。
- 強化繊維を8〜20質量%含有するプラスチック強化層および強化繊維を5質量%以下含有するプラスチック光沢層を積層成形して基材を得る工程と、得られた基材のうちプラスチック光沢層の表面に銀を含む反射膜を形成する工程とを含む光反射鏡の製造方法。
- 金型内に前記強化層用および光沢層用の熱硬化性樹脂組成物のいずれかを一方を注入して前記プラスチック強化層またはプラスチック光沢層を成形後、他方の熱硬化性樹脂組成物を注入してプラスチック光沢層またはプラスチック強化層を成形する請求項18に記載の光反射鏡の製造方法。
- 一方の熱硬化性樹脂組成物の成形後、前記金型内を脱気して、または脱気しながら、前記他方の熱硬化性樹脂組成物の成形が行われる請求項19記載の光反射鏡の製造方法。
- 前記強化層および光沢層形成用の各熱硬化性樹脂組成物が、さらに離型剤を0.1〜3質量%含有していることを特徴とする請求項18〜20のいずれかに記載の光反射鏡の製造方法。
- 前記基材の表面に、銀を含む反射膜を形成するに先立って、前記基材の表面に密着性向上膜を形成することを特徴とする請求項18に記載の反射鏡の製造方法。
- 前記基材の表面に銀を含む反射膜を形成した後、反射膜の表面に反射増加膜を形成することを特徴とする請求項18〜22のいずれかに記載の反射鏡の製造方法。
- 前記反射増加膜が、2層以上の透明誘電体層からなる請求項23に記載の反射鏡の製造方法。
- 前記反射増加膜が、反射膜表面に少なくとも高屈折率の透明誘電体層と、低屈折率の透明誘電体層とを積層して形成されていることを特徴とする請求項23または24に記載の反射鏡の製造方法。
- 請求項1〜17のいずれかに記載の光反射鏡を具備したことを特徴とするプロジェクター。
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