JP2006156984A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006156984A5
JP2006156984A5 JP2005313837A JP2005313837A JP2006156984A5 JP 2006156984 A5 JP2006156984 A5 JP 2006156984A5 JP 2005313837 A JP2005313837 A JP 2005313837A JP 2005313837 A JP2005313837 A JP 2005313837A JP 2006156984 A5 JP2006156984 A5 JP 2006156984A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
laser beam
lens
homogenizer
irradiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005313837A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5116232B2 (ja
JP2006156984A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005313837A priority Critical patent/JP5116232B2/ja
Priority claimed from JP2005313837A external-priority patent/JP5116232B2/ja
Publication of JP2006156984A publication Critical patent/JP2006156984A/ja
Publication of JP2006156984A5 publication Critical patent/JP2006156984A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5116232B2 publication Critical patent/JP5116232B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2005313837A 2004-10-29 2005-10-28 レーザ照射装置およびレーザ照射方法 Expired - Fee Related JP5116232B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005313837A JP5116232B2 (ja) 2004-10-29 2005-10-28 レーザ照射装置およびレーザ照射方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004317057 2004-10-29
JP2004317057 2004-10-29
JP2005313837A JP5116232B2 (ja) 2004-10-29 2005-10-28 レーザ照射装置およびレーザ照射方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006156984A JP2006156984A (ja) 2006-06-15
JP2006156984A5 true JP2006156984A5 (de) 2008-11-20
JP5116232B2 JP5116232B2 (ja) 2013-01-09

Family

ID=36634820

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005313837A Expired - Fee Related JP5116232B2 (ja) 2004-10-29 2005-10-28 レーザ照射装置およびレーザ照射方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5116232B2 (de)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101301282B1 (ko) 2006-12-29 2013-08-27 엘지디스플레이 주식회사 비정질 실리콘 결정화용 레이저 조사 장치
JP5437079B2 (ja) * 2008-01-07 2014-03-12 株式会社Ihi レーザアニール方法及び装置
US8014427B1 (en) 2010-05-11 2011-09-06 Ultratech, Inc. Line imaging systems and methods for laser annealing
JP5148730B2 (ja) * 2011-05-18 2013-02-20 昭和オプトロニクス株式会社 ファイバ転送レーザ光学系
KR20180021926A (ko) 2013-12-02 2018-03-05 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시 장치 및 그 제조방법
DE102022125106A1 (de) 2022-09-29 2024-04-04 Trumpf Laser Gmbh Optische Anordnung für eine Laserbearbeitungsanlage

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001156017A (ja) * 1999-11-29 2001-06-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー装置及びレーザー光を用いた熱処理方法並びに半導体装置の作製方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10337096B2 (en) Method for manufacturing deposition mask and deposition mask
TWI520805B (zh) 用於滾筒表面之雷射處理的方法和設備
JP2006156984A5 (de)
WO2017016362A1 (zh) 一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统
JP2012074727A5 (de)
JP6779313B2 (ja) レーザ光学装置およびヘッド
JP2007047332A (ja) 波長変換光学系、レーザ光源、露光装置、被検物検査装置、及び高分子結晶の加工装置
JP2011501872A (ja) 線状のビーム断面を有するレーザビームを生成するための方法及び構成
JP2016001308A5 (ja) 露光装置、およびデバイス製造方法
TWI463270B (zh) 雷射曝光裝置
JP2006309207A5 (de)
JP6533644B2 (ja) ビーム整形マスク、レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2005028428A (ja) レーザ加工装置
KR20200022189A (ko) 금속 마스크 생산 장치
JPH01286478A (ja) ビーム均一化光学系おゆび製造法
JP2006339630A5 (de)
JP2006110587A (ja) レーザー干渉加工方法および装置
JP2007072371A (ja) 露光装置
JP3736791B2 (ja) レーザ加工方法
JPH1197340A (ja) 露光光学系、光加工装置、露光装置及び光結合装置
JP2003088966A5 (ja) レーザマーキング装置,及び2次元コード印字方法
TW201736030A (zh) 玻璃基板之製造方法、於玻璃基板形成孔之方法、及於玻璃基板形成孔之裝置
JP2000102889A (ja) レーザ加工装置
JP5141648B2 (ja) プロキシミティ露光装置及びこのプロキシミティ露光装置を用いた露光方法
JP2007214554A5 (de)