JP2006156978A - 半導体装置の製造システムおよび製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハを切断して多数のICチップを得るダイシング工程3と、得られたICチップを基板上に載置するダイボンディング工程4と、基板に載置されたICチップと基板とを電気的に接続するワイヤボンディング工程5と、電気的に接続されたICチップの樹脂封止を行う封止工程6とを備え、且つ上記ダイシング工程、ダイボンディング工程およびワイヤボンディング工程の後に、ICチップの内部を非破壊にて検査する第1〜第3非破壊検査工程11〜13を設けるとともに、これら非破壊検査工程にて欠陥が検出された場合に、その欠陥の度合いに応じて、それぞれ後工程での実装条件を変更するようにしたものである。
【選択図】図1
Description
すなわち、従来のICチップにおける設計ルール、例えばゲート長などは130nm(ナノメートル)程度であり、ICチップの構成材料である絶縁層の機械的強度が十分に強いため、ボンディング工程での加圧作業により、内部に欠陥が発生するといった心配がなかった。
ICチップの基板への少なくとも実装工程の後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査する非破壊検査工程を設けたものである。
ICチップの基板への少なくともボンディング工程の後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査する非破壊検査工程を設けたものである。
ICチップの基板への少なくともボンディング工程の後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査する非破壊検査工程を設けるとともに、
当該非破壊検査工程にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、後工程における実装条件を変更するようにしたものである。
ウエハを切断してICチップを得るダイシング工程の後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査する非破壊検査工程を設けるとともに、
当該非破壊検査工程の後に、ICチップを基板上に実装するワイヤボンディング工程およびフリップチップ工程を並列に設け、
上記非破壊検査工程にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、当該ICチップをワイヤボンディング工程またはフリップチップ工程に移行させるようにしたものである。
上記ダイシング工程、ダイボンディング工程およびワイヤボンディング工程の後に、ICチップの内部を非破壊にて検査する非破壊検査工程を設けたものである。
上記ダイシング工程、ダイボンディング工程およびワイヤボンディング工程の後に、ICチップの内部を非破壊にて検査する非破壊検査工程を設けるとともに、
当該非破壊検査工程にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、それぞれ後工程での実装条件を変更するようにしたものである。
ボンディング工程として、ワイヤボンディング工程とフリップチップ工程とを並列に設けるとともに、上記ダイシング工程および電気検査工程の後に、ICチップの内部を非破壊にて検査する非破壊検査工程をそれぞれ設け、
上記ダイシング工程の後に設けられた非破壊検査工程での検査結果に基づき、ワイヤボンディング工程またはフリップチップ工程に移行させるようにしたものである。
ICチップを載置する載置台と、超短光パルスを発振する光パルス発振装置と、この光パルス発振装置からの光パルス照射経路の途中に順次配置されて当該光パルスを所定方向で移動させる第1ガルバノスキャナおよび上記所定方向と直交する方向で移動させる第2ガルバノスキャナとを有するものを用いたことを特徴とする。
ICチップの基板へのボンディングの後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査し、
この検査にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、少なくとも後工程における実装条件を変更する方法である。
以下、本発明の実施の形態1に係る半導体装置の製造システムおよび製造方法を、図1〜図4に基づき説明する。
この製造システムの製造対象となっている半導体装置のICチップは、その微細化が進み、設計ルールが90nm以下に、例えば90〜45nm程度まで細くされており、しかもその機械的強度(例えば、硬度、ヤング率など)が、従来の130nm以上のものに比べて1/10〜1/100程度と、非常に、脆弱化したものになっている。
この非破壊検査工程11〜13に配置される非破壊検査装置(図示せず)では、フェムト秒レーザ照射方式(超短光パルス照射方式)が用いられる。
まず、ローダ31により上手側工程からICチップ30が搬送されてX−Yステージ32上に載置される。搬送されたICチップ30を真空吸着などの保持手段(真空吸着には限定されるものでもない)にてX−Yステージ32上に固定する。次に、当該検査装置に設けられているフェムト秒レーザ発振装置(光パルス発振装置)33からフェムト秒レーザを発振し、反射ミラー34、集光レンズ35およびハーフミラー36を介してX−Yステージ32上に固定されているICチップ30に照射する。フェムト秒レーザが照射されたICチップ30からは、テラヘルツ電磁波が発生するため、ハーフミラー36を介してGaAs光伝導アンテナなどの検出器37にてテラヘルツ電磁波を検出する。勿論、このテラヘルツ電磁波の検出動作は、X−Yステージ32を移動させながらICチップ30の全体に亘って行われる。そして、検査が終了すると、アンローダ38により搬出される。なお、このフェムト秒レーザ照射方式とテラヘル電磁波の検出方式は標準化されたものではなく、一例にすぎず、例えば検査するICチップの種類、照射するフェムト秒レーザの種類、または検出精度などにより、ミラーの配置、レンズ構成、信号処理系統が適宜変更し得るものである。
ここで、欠陥の度合いの判断項目として、クラックを用いた場合について説明する。
なお、所定の許容長さ以下のクラックについては、重要でないクラックとみなしてクラック量の計算は行わない。この許容長さをどの程度にするかについては、予め、実験により求めておく。
例えば、予め、クラック量の基準値(閾値ともいう)Nstを決めておき、N≦Nstの場合は、ICチップ内部のクラック量が基準値以下であることから、初期値として設定されている実装条件でICチップの実装が行われる。
また、実験によりICチップ内部のクラック量の上限値Nmaxが決められており、N>Nmaxである場合には、実装条件の変更を行うことなく、当該ICチップを不良品とみなして廃棄処分とし、それ以降の実装工程は行わないようにされている。
まず、ウエハ処理工程1で所定の集積回路が形成されたウエハは、バックグライディング工程2で薄くされた後、ダイシング工程3で各集積回路ごとに切断されて多数のICチップが得られる。
そして、このクラック量Nが基準値Nstを超えている場合には、次のダイボンディング工程4でのICチップの基板への実装条件が変更される。
また、上記各非破壊検査工程11〜13において、実装条件を変更する基準値については、全て同一の値Nstとして説明したが、それぞれの後工程に応じた最適な値を設定することもできる。
すなわち、半導体装置の製造方法は、ICチップを基板に実装して半導体装置を製造する方法であって、ICチップの基板へのボンディングの後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査し、この検査にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、後工程における実装条件を変更する方法である。
[実施の形態2]
以下、本発明の実施の形態2に係る半導体装置の製造システムを図5に基づき説明する。
図5に示すように、ウエハ処理工程41で所定の集積回路が形成されたウエハは、バックグライディング工程42で薄くされた後、ダイシング工程43で各集積回路ごとに切断されて多数のICチップが得られる。
そして、電気検査が行われた後、さらに第2非破壊検査工程52でICチップの内部欠陥が検出され、クラック量が基準値を超えている場合には、耐久性が要求されるAランクの製品仕様として出荷され、一方、基準値以下の場合には、耐久性がそれ程要求されない(使用寿命が比較的短い製品に適用される)Bランクの製品仕様として出荷される。すなわち、製品仕様が変更される。したがって、第2非破壊検査工程52の後に、AランクとBランクとに分けるための仕分け工程48が配置されるとともに、この仕分け工程48に配置されている仕分け機(図示せず)には、第2非破壊検査工程52に配置された非破壊検査装置からの検査データを仕分け機に送信するための通信手段が具備されている。
上記各非破壊検査工程51,52にて検出されたクラック量についての判断基準となる基準値については、両非破壊検査工程51,52とも同一の値を用いてもよく、また後工程での作業を考慮してそれぞれ最適な値を設定することもできる。
上述したように、載置台61上の載置面(水平面)において、ローダ62からアンローダ63へのICチップ60の搬送方向をX軸方向として、また搬送方向と直交する幅方向をY軸方向として説明する。
2 バックグイディング工程
3 ダイシング工程
4 ダイボンディング工程
5 ワイヤボンディング工程
6 封止工程
7 モールディング工程
11 第1非破壊検査工程
12 第2非破壊検査工程
13 第3非破壊検査工程
21 ICチップ
22 Alパッド
23 クラック
30 ICチップ
33 フェムト秒レーザ発振装置
37 検出器
41 ウエハ処理工程
42 バックグライディング工程
43 ダイシング工程
44 ワイヤボンディング工程
45 フリップチップ工程
46 モールディング工程
48 仕分け工程
51 第1非破壊検査工程
52 第2非破壊検査工程
60 ICチップ
61 載置台
64 フェムト秒レーザ発振装置
65 第1ガルバノスキャナ
65a 反射ミラー
65b 走査駆動部
66 第2ガルバノスキャナ
66a 反射ミラー
66b 走査駆動部
70 コンピュータ装置
81 ICチップ実装工程
82 第1非破壊検査工程
83 第2非破壊検査工程
Claims (13)
- ICチップを基板に実装して半導体装置を製造するシステムであって、
ICチップの基板への少なくとも実装工程の後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査する非破壊検査工程を設けたことを特徴とする半導体装置の製造システム。 - ICチップを基板に実装して半導体装置を製造するシステムであって、
ICチップの基板への少なくともボンディング工程の後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査する非破壊検査工程を設けたことを特徴とする半導体装置の製造システム。 - ICチップを基板に実装して半導体装置を製造するシステムであって、
ICチップの基板への少なくともボンディング工程の後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査する非破壊検査工程を設けるとともに、
当該非破壊検査工程にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、後工程における実装条件を変更するようにしたことを特徴とする半導体装置の製造システム。 - ICチップを基板に実装して半導体装置を製造するシステムであって、
ウエハを切断してICチップを得るダイシング工程の後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査する非破壊検査工程を設けるとともに、
当該非破壊検査工程の後に、ICチップを基板上に実装するワイヤボンディング工程およびフリップチップ工程を並列に設け、
上記非破壊検査工程にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、当該ICチップをワイヤボンディング工程またはフリップチップ工程に移行させるようにしたことを特徴とする半導体装置の製造システム。 - ワイヤボンディング工程またはフリップチップ工程でICチップが基板に実装されてなる半導体装置の電気検査を行う電気検査工程の後に非破壊検査工程を設けるとともに、当該非破壊検査工程での検査結果に応じて、半導体装置の製品としてのランクを決定するようにしたことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造システム。
- 複数の集積回路が形成されたウエハを切断して複数個のICチップを得るダイシング工程と、このダイシング工程で得られたICチップを基板上に載置するダイボンディング工程と、このダイボンディング工程で載置されたICチップと基板とを電気的に接続するワイヤボンディング工程と、このワイヤボンディング工程で電気的に接続されたICチップの樹脂封止を行う封止工程とを有して半導体装置を製造するシステムにおいて、
上記ダイシング工程、ダイボンディング工程およびワイヤボンディング工程の後に、ICチップの内部を非破壊にて検査する非破壊検査工程を設けたことを特徴とする半導体装置の製造システム。 - 複数の集積回路が形成されたウエハを切断して複数個のICチップを得るダイシング工程と、このダイシング工程で得られたICチップを基板上に載置するダイボンディング工程と、このダイボンディング工程で載置されたICチップと基板とを電気的に接続するワイヤボンディング工程と、このワイヤボンディング工程で電気的に接続されたICチップの樹脂封止を行う封止工程とを有して半導体装置を製造するシステムにおいて、
上記ダイシング工程、ダイボンディング工程およびワイヤボンディング工程の後に、ICチップの内部を非破壊にて検査する非破壊検査工程を設けるとともに、
当該非破壊検査工程にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、それぞれ後工程での実装条件を変更するようにしたことを特徴とする半導体装置の製造システム。 - 複数の集積回路が形成されたウエハを切断して複数個のICチップを得るダイシング工程と、このダイシング工程で得られたICチップを基板上に載置して電気的に接続するボンディング工程と、このボンディング工程で基板にICチップが電気的に接続されてなる半導体装置の樹脂封止を行うモールディング工程と、この樹脂封止が行われた半導体装置の電気検査を行う電気検査工程とを有して半導体装置を製造するシステムにおいて、
ボンディング工程として、ワイヤボンディング工程とフリップチップ工程とを並列に設けるとともに、上記ダイシング工程および電気検査工程の後に、ICチップの内部を非破壊にて検査する非破壊検査工程をそれぞれ設け、
上記ダイシング工程の後に設けられた非破壊検査工程での検査結果に基づき、ワイヤボンディング工程またはフリップチップ工程に移行させるようにしたことを特徴とする半導体装置の製造システム。 - 電気検査工程の後に設けられた非破壊検査工程での検査結果に基づき、当該半導体装置の製品ランクを決定するようにしたことを特徴とする請求項8に記載の半導体装置の製造システム。
- 非破壊検査工程で検出される欠陥がクラックであることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の半導体装置の製造システム。
- 非破壊検査として、超短光パルス照射を用いたことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の半導体装置の製造システム。
- 非破壊検査工程で用いられる非破壊検査装置として、
ICチップを載置する載置台と、超短光パルスを発振する光パルス発振装置と、この光パルス発振装置からの光パルス照射経路の途中に順次配置されて当該超短光パルスを所定方向で移動させる第1ガルバノスキャナおよび上記所定方向と直交する方向で移動させる第2ガルバノスキャナとを有するものを用いたことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の半導体装置の製造システム。 - ICチップを基板に実装して半導体装置を製造する方法であって、
ICチップの基板へのボンディングの後に、非破壊検査によりICチップ内部の欠陥を検査し、
この検査にて欠陥が発見された場合に、その欠陥の度合いに応じて、少なくとも後工程における実装条件を変更することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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