JP2000348895A - パルス状高輝度硬Ｘ線またはγ線の発生方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高輝度で硬いＸ線またはγ線を発生し、厚い
金属材料などの被検査体１４を透過して診断を行うこ
と。 【解決手段】 容器６内の真空室５において、レーザ源
１から、ターゲット材料４に、１０¹⁸Ｗ／ｃｍ²以上の
パルス状レーザ光を発生して照射し、約０．１ＭｅＶ〜
約１ＧｅＶの指向性を有する硬いＸ線またはγ線を発生
する。レーザ光のパルス幅は、約１０^-12secである。タ
ーゲット材料４は、原子番号１〜１００の中から適当な
ものを選び、たとえば、金属、合成樹脂、常温で液体ま
たは気体である凝固した物質などであってもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パルス状高輝度の
硬いＸ線（硬Ｘ線と略称することがある）またはγ線を
発生して被検査体の診断などを行うことができる方法お
よび装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、放射線撮影装置は医療用放射
線撮影、工業用非破壊放射線撮影等の分野で使用されて
いる。これらの撮影装置では、Ｘ線の光源として電子を
金属ターゲットに照射して発生する制動Ｘ線もしくは特
性Ｘ線が用いられている。これらのＸ線の輝度は低く、
厚さ１ｃｍの金属部品の内部観察には１０分から１時間
程度の長い露光時間が必要である。そのため、たとえば
自動車の生産ラインや電化製品の製造ライン内で数秒か
ら１回の露光もしくは数回以内での検査は不可能であ
る。従来のＸ線管から発生するＸ線は金属の内部構造を
観察できる波長であるが、輝度が低いために数ｃｍ厚さ
の物質を観察するのに数十分以上の露光時間を必要とす
る。これは実用的ではない。

【０００３】高輝度のＸ線光源としてのシンクロトロン
放射光がある。この装置は大型設備であり、建物自体に
も規制があり、工場のラインでの使用は到底、不可能で
ある。上記Ｘ線光源は、その光源サイズが大きく、得ら
れる像の空間分解能が悪い。

【０００４】さらに他の先行技術として、レーザプラズ
マ軟Ｘ線を用いたＸ線顕微鏡装置もしくは評価装置が提
案されている（特開平７−１２８５００、特開平８−３
０４３１１）。これらの先行技術の装置は、１０⁸Ｗ／
ｃｍ²から１０¹³Ｗ／ｃｍ²までのレーザ光の照射強度で
発生したせいぜい１０〜２０ｋｅＶ未満の軟Ｘ線を用い
ており、波長が比較的長く、輝度は不充分である。この
ような先行技術では、レーザ光がターゲット材料に照射
されることによって、プラズマが発生し、熱的に電子が
動くことによって、Ｘ線が発生される。このようなＸ線
は、指向性を持たず、したがって単位面積当りのＸ線の
強度を高めることができず、上述のように輝度が不充分
である。レーザプラズマ軟Ｘ線では、波長１ｎｍ以上の
軟Ｘ線が主体である。そのため、Ｘ線の透過力が弱く、
サブミリ以下の薄い高分子材料および生体等しか観察す
ることができないので、利用範囲が小さい。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高輝
度で、短い波長を有するいわゆる硬いＸ線またはγ線を
発生し、これによって各種の被検査体を高い空間分解
能、および高いスループットで、観察して診断すること
ができるようにするためのパルス状高輝度硬Ｘ線または
γ線の発生方法および装置、さらに硬Ｘ線またはγ線の
診断装置を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、１０¹⁸〜１０
²²Ｗ／ｃｍ²のパルス状レーザ光を、ターゲット材料に
照射することによって、硬Ｘ線またはγ線を発生するこ
とを特徴とするパルス状高輝度硬Ｘ線またはγ線の発生
方法である。

【０００７】また本発明は、１０¹⁸〜１０²²Ｗ／ｃｍ²
のパルス状レーザ光を、ターゲット材料に照射すること
によって、約０．１ＭｅＶ〜約１ＧｅＶの指向性を有す
る硬Ｘ線またはγ線を発生することを特徴とするパルス
状高輝度硬Ｘ線またはγ線の発生方法である。

【０００８】また本発明は、硬Ｘ線またはγ線の減衰率
が小さい材料から成る硬Ｘ線またはγ線の透過窓を有
し、真空室を形成する容器と、容器内に設けられ、１０
¹⁸〜１０²²Ｗ／ｃｍ² のパルス状レーザ光を発生するレ
ーザ源と、容器内に設けられ、レーザ源からのレーザ光
が照射され、発生した硬Ｘ線またはγ線が容器の硬Ｘ線
またはγ線の透過窓から容器外に透過するターゲット材
料とを含むことを特徴とするパルス状高輝度硬Ｘ線また
はγ線の発生装置である。

【０００９】本発明に従えば、高強度である１０¹⁸Ｗ／
ｃｍ²以上のレーザ光を、ターゲット材料に照射する。
このような高強度のレーザ光は、その光の圧力が大きい
ので、レーザ光の圧力によって、ターゲット材料の電子
が加速され、相対性理論の領域での現象が生じる。電子
が加速されることによって、電子の軌道が変わり、これ
によって指向性を持った硬いＸ線またはγ線がターゲッ
ト材料から発生される。レーザ光は、その強度が上述の
ように１０¹⁸Ｗ／ｃｍ²以上であって大きいほど、好ま
しいけれども、たとえば１０²²Ｗ／ｃｍ²未満の範囲で
あってもよい。レーザ光の強度が１０¹⁸Ｗ／ｃｍ²未満
では、レーザ光の光の圧力が小さく、電子の加速が不充
分となり、したがって指向性を有する硬いＸ線またはγ
線を発生することができない。こうして、指向性を持っ
た硬いＸ線またはγ線が、ターゲット材料から発生され
る。

【００１０】この発生される硬Ｘ線またはγ線は、約
０．１ＭｅＶ〜約１ＧｅＶのエネルギを有する。これに
よって鉄、ステンレス鋼などの金属材料から成るナイフ
および自動車部品などの被検査体が、約２〜７ｃｍの厚
さを有し、硬Ｘ線またはγ線が透過することができ、従
来から不可能であった被検査体の観察が、初めて可能に
なる。レーザ光は、パルス状であり、したがって高強度
のレーザ光を発生することが比較的容易に可能である。
このようなパルス状レーザ光は、レーザ源から、たとえ
ば約０．０００３（＝１／３６００）〜１０Ｈｚまたは
それ以上の繰返しレートで発生することができる。

【００１１】１回もしくは数回以内の露光時間で数ｃｍ
厚さの物質を観察するためには、波長１ｎｍ以下の短波
長で輝度が高い硬Ｘ線またはγ線を発生させる必要があ
る。これを実現するために、パルス幅がフェムト秒から
ピコ秒、エネルギがサブジュールから数百ｋジュールの
高強度レーザ装置からのレーザ光を、ターゲット材料と
なる物質に、１０¹⁸Ｗ／ｃｍ²以上の照射強度となるよ
うに集光照射し、高密度で高温のプラズマを生成する。
集光スポット径は、１〜５０μｍを用い、このスポット
径は、得られる像の空間分解能力を決定する。これより
波長１Å以下の短波長で輝度が高い硬Ｘ線またはγ線を
発生させる。これを光源とすることにより、１回もしく
は数回以内の露光で数ｃｍ厚さの物質を観察することが
実現される。

【００１２】本発明に従えば、被検査体として、厚さが
数μｍから数ｃｍにわたる金属、合成樹脂、セラミック
ス、高分子、生体の内部構造、内部組織を、フェムト秒
からナノ秒の短時間で観察できる、広い分野の材料解
析、欠陥検査、医療診断等に使用できる装置が実現され
る。

【００１３】レーザ源からのレーザ光が、ターゲット材
料に照射される空間は、容器内の真空室であり、したが
ってレーザ光が気体またはその他の物質に照射されてレ
ーザ光の強度が減衰されたり、不所望な硬Ｘ線またはγ
線が発生するなどの問題は生じない。

【００１４】硬Ｘ線またはγ線の透過窓は、硬Ｘ線また
はγ線の減衰率が小さい材料から成り、たとえばアルミ
ニウムまたはベリリウムなどの金属材料から成ってもよ
く、またはその他の材料などから成ってもよい。

【００１５】また本発明は、レーザ源が発生するパルス
状レーザ光は、０．１〜１０μｍの波長を有することを
特徴とする。

【００１６】本発明に従えば、このような０．１〜１０
μｍの波長を有するパルス状レーザ光をターゲット材料
に照射することによって、硬Ｘ線またはγ線を発生する
ことができる。

【００１７】また本発明は、レーザ源は、パルス状レー
ザ光を、０．０００３〜１０Ｈｚの繰返しレートで発生
することを特徴とする。

【００１８】本発明に従えば、繰返しレートを、上述の
ように選ぶことによって、レーザ光の強度を高くして、
ターゲット材料に照射することができる。

【００１９】また本発明は、レーザ源は、パルス幅約
０．１×１０^-12〜１０×１０^-12secのレーザ光を発生
することを特徴とする。

【００２０】本発明に従えば、レーザ源から発生される
レーザ光のパルス幅を短い時間に選び、これによって高
強度のレーザ光を得ることができる。パルス幅が約０．
１×１０^-12sec未満であるとき、レーザ光の強度が不充
分になりやすく、また約１０×１０^-12secを超える範囲
では、高強度のレーザ光を時間的に連続して発生するこ
とが困難となる。

【００２１】また本発明は、ターゲット材料は、金属、
合成樹脂、または常温で液体もしくは気体であって常温
未満の低温度で凝固した物質であることを特徴とする。

【００２２】本発明に従えば、ターゲット材料は、あら
ゆる材料が可能であり、たとえば原子番号１〜１００の
各材料を用いることができ、それらが固体であることに
よって、高強度のレーザ光を照射して、指向性を有する
硬Ｘ線またはγ線を得ることができる。ターゲット材料
は、金属、合成樹脂などであってもよい。さらにターゲ
ット材料は、常温で液体または気体であっても、常温未
満の低温度で凝固した物質であってもよく、たとえば水
素Ｈ、重水素Ｄなどの極低温状態たとえば１８Ｋ未満の
温度における固体などであってもよい。

【００２３】また本発明は、容器内に設けられ、ターゲ
ット材料を移動する移動手段を含むことを特徴とする。

【００２４】本発明に従えば、容器の真空室内で、ター
ゲット材料を移動手段によってレーザ源からのレーザ光
が照射されるターゲット材料のレーザ光照射部分を移動
することによって、ターゲット材料のレーザ光照射部分
の消耗を防ぎ、硬Ｘ線またはγ線を確実に発生させるこ
とができる。

【００２５】また本発明は、上記のパルス状高輝度硬Ｘ
線またはγ線の発生装置が設けられ、容器の外方で、硬
Ｘ線またはγ線の透過窓からの硬Ｘ線またはγ線が照射
される被検査体が、配置され、被検査体に関して硬Ｘ線
またはγ線の透過窓とは反対側に、被検査体による硬Ｘ
線またはγ線の透過像を２次元検出面で検出する検出手
段が配置されることを特徴とする硬Ｘ線またはγ線診断
装置である。

【００２６】本発明に従えば、容器の真空室内における
ターゲット材料から発生された硬Ｘ線またはγ線は、硬
Ｘ線またはγ線の透過窓を経て被検査体に照射され、そ
の硬Ｘ線またはγ線の透過像が検出手段の２次元検出面
で検出される。こうして被検査体の観察を行うことがで
きる。

【００２７】また本発明は、被検査体を、硬Ｘ線または
γ線の透過窓からの硬Ｘ線またはγ線が照射される位置
に、順次的に搬送する搬送手段が設けられ、レーザ源
は、パルス状レーザ光を、前記硬Ｘ線またはγ線照射位
置に、予め定める複数回、発生することを特徴とする。

【００２８】本発明に従えば、搬送手段によって被検査
体を、硬Ｘ線またはγ線の照射位置に順次的に搬送する
ことによって、たとえば大量生産される被検査体を、効
率よく検査することができる。レーザ光はパルス状であ
り、移動手段によって移動されてきた被検査体に硬Ｘ線
またはγ線を単一回または複数回照射して診断を行うこ
とができる。こうして大量の被検査体を、短時間で非破
壊検査することができる。

【００２９】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の一形態の
硬Ｘ線またはγ線診断装置２４の全体の構成を簡略化し
て示す系統図である。この硬Ｘ線またはγ線診断装置２
４は基本的に、パルス状硬Ｘ線またはγ線の発生装置２
５と、硬Ｘ線またはγ線の診断が行われるべき被検査体
１４を搬送する搬送手段１３と、搬送手段１３によって
搬送される被検査体１４の硬Ｘ線またはγ線の透過像を
検出する検出手段１７とを含む。パルス状硬Ｘ線または
γ線の発生装置２５において、レーザ源１からのパルス
状レーザ光は、レーザ光を伝搬する真空の経路形成手段
２を経て真空チャンバ３内に導かれ、ターゲット材料４
に照射される。経路形成手段２と真空チャンバ３とは、
真空室５を形成する容器６を構成する。レーザ源１は、
経路形成手段２内に設けられる。

【００３０】レーザ源１は、たとえば波長１０５３ｎｍ
のガラスレーザであり、たとえば１〜１０Ｈｚで間欠的
にレーザ光をパルス状に発生する。このレーザ光は、真
空チャンバ３内に設けられた凹面鏡７によって集光さ
れ、ターゲット材料４の表面の照射部分８に照射され
る。この照射部分８におけるレーザ光は、１０¹⁸〜１０
²²W/cm²の強度を有し、その照射部分８でのレーザ光の
外径は、たとえば１〜５０μｍφである。凹面鏡７は、
いわゆる軸外し放物面鏡またはそれに代わる集光鏡であ
る。レーザ光の波長は、０．１〜１０μｍであってもよ
く、特に、０．１〜２．０μｍが好ましい。

【００３１】ターゲット材料４は、原子番号１〜１００
の中から適当なものが選ばれ、たとえば金属、合成樹脂
でもよく、または常温で液体もしくは気体であって常温
未満の低温度で凝固した物質でもよい。移動手段９は、
真空室５内でターゲット材料４を移動し、これによって
ターゲット材料４のレーザ光による照射部分８が変化
し、ターゲット材料４の消耗を防ぐことができる。ター
ゲット材料４は、高繰り返しレーザ（たとえば繰り返し
レート約０．０００３（＝１／３６００）Ｈｚ以上）の
照射に耐える。

【００３２】ターゲット材料４に照射部分８で、集光さ
れたレーザ光が照射されることによって、レーザ光の光
の圧力によって加速された電子のターゲット材料４内の
制動輻射によって、レーザ照射方向１１の延長線上の放
射方向１１ａに、短波長の指向性を有する約０．１Ｍｅ
Ｖ〜約１ＧｅＶである硬いＸ線またはγ線が発生する。
発生する硬Ｘ線またはγ線のエネルギは、レーザ光の単
位面積当りの強度である凹面鏡７などによる集光強度を
制御することによって、またターゲット材料４の種類を
変えることによって、調整することができる。

【００３３】ターゲット材料４から発生した硬Ｘ線また
はγ線は、硬Ｘ線またはγ線の透過窓１２を透過して、
搬送手段１３によって順次的に搬送される複数の各被検
査体１４に、硬Ｘ線またはγ線の照射領域１５で照射さ
れる。被検査体１４は、搬送手段１３によって矢符１６
の方向に順次的に搬送される。

【００３４】図２は、真空チャンバ３の硬Ｘ線またはγ
線の透過窓１２付近の断面図である。真空チャンバ３の
外周壁１８に形成された透孔１９には、筒体２１の基端
部が固定される。この筒体２１の遊端部には、外向きフ
ランジ２２が形成される。硬Ｘ線またはγ線の透過窓１
２は、フランジ２２によってフランジ接合される。

【００３５】硬Ｘ線またはγ線の透過窓１２は、真空チ
ャンバ３の外周壁１８の一部を構成する。硬Ｘ線または
γ線の透過窓１２は、硬Ｘ線またはγ線の減衰率が小さ
い材料から成り、たとえばアルミニウムまたはベリリウ
ムなどの金属材料から成ってもよい。硬Ｘ線またはγ線
の透過窓１２が前述のアルミニウムから成るとき、その
厚みは、たとえば１２ｍｍであってもよい。真空チャン
バ３の外周壁１８は、たとえば鉄などの金属材料から成
り、その厚みはたとえば８０ｍｍであってもよい。

【００３６】被検査体１４の硬Ｘ線またはγ線の透過像
を検出する検出手段１７は、被検査体１４に関して硬Ｘ
線またはγ線の透過窓１２とは反対側（図１の上方）に
配置される。この検出手段１７は、被検査体１４の硬Ｘ
線またはγ線の透過像を、２次元検出面で検出するため
に、多数の画素が行列状に配置されて構成される。各画
素は、硬Ｘ線またはγ線の強度に対応した信号レベルを
導出する。矢符１１ａで示される硬Ｘ線またはγ線は、
被検査体１４を透過し、検出手段１７によってその硬Ｘ
線またはγ線の透過像が撮像され、電気信号に変換され
る。

【００３７】本発明の実施の他の形態では、検出手段１
７は、硬Ｘ線またはγ線に感光する写真フィルムまたは
イメージングプレート等であってもよい。検出手段１７
はまた、被検査体１４を透過した硬Ｘ線またはγ線の透
過像によって、その硬Ｘ線またはγ線の強度に対応した
発光強度で発光する発光板と、その発光板の光を受光
し、２次元検出面で発光画像を検出する撮像手段とを含
んでもよく、撮像手段は、前述の同様な行列状の多数の
画素を有してもよく、または感光写真フィルムなどであ
ってもよい。

【００３８】上述の図１および図２に示される実施の形
態では、被検査体１４は、２次元検出面を有する検出手
段１７にほぼ接触する程に近く配置されているけれど
も、本発明の実施の他の形態では、被検査体１４の硬Ｘ
線またはγ線の透過像を拡大して検出手段１７によって
検出することができるようにするために、被検査体１４
と、検出手段１７とを、予め定める距離ａだけ離して設
定する。硬Ｘ線またはγ線を発生するターゲット材料４
と被検査体１４との距離をｂとするとき、被検査体１４
のγ線透過像の拡大倍率Ｍは、Ｍ＝（ａ＋ｂ）／ｂとな
る。その際の空間分解能は、硬Ｘ線またはγ線の１〜５
０μｍであるスポットサイズで決まる。

【００３９】本件発明者の実験結果を述べる。図１およ
び図２の本発明の実施の一形態において、ターゲット材
料４は、重水素を含有したポリスチレンである。レーザ
源１はガラスレーザであり、レーザ光は、波長λ＝１μ
ｍ、パルス幅０．６×１０^-12secであり、ターゲット材
料４のレーザ光照射部分８におけるレーザ光の集光強度
は、図３の参照符２７で示されるように、１０¹⁹Ｗ／ｃ
ｍ²である。図２に示されるように、被検査体１４は、
ステンレス鋼製ナイフであり、肉厚２ｍｍから肉厚２０
ｍｍまでの各部分を有する。単一のパルス状レーザ光を
ターゲット材料４に照射することによって、硬Ｘ線また
はγ線の透過像が検出手段１７で得られた。検出手段１
７は、富士フィルム社製イメージングプレートであり、
高い強度ダイナミックレンジ約１０５を有する。こうし
て被検査体１４の硬Ｘ線またはγ線の透過像は、０．１
ｍｍ以内の空間分解能が達成されることが、確認され
た。

【００４０】図３における参照符２７は、前述のよう
に、本件発明者による実験結果を示す発生された硬Ｘ線
またはγ線の特性を示す。図３における参照符２８，２
９は、比較例であって、同一のターゲット材料４に、１
×１０¹⁶〜２×１０¹⁶Ｗ／ｃｍ²のレーザ光を照射した
ときに得られる硬Ｘ線またはγ線の特性を示す。このよ
うな特性２８，２９では、発生される硬Ｘ線またはγ線
のエネルギが明らかに低く、また指向性がなく、したが
って透過力が弱く、希望する厚い被検査体の検査は、不
可能である。

【００４１】

【発明の効果】請求項１，２，３の本発明によれば、高
輝度で、短波長の硬Ｘ線またはγ線を発生することがで
き、したがって硬Ｘ線またはγ線の透過力が大きく、各
種の被検査体の硬Ｘ線またはγ線の透過像を得ることが
でき、非破壊検査を容易に行うことができるようにな
る。ここで発生する硬Ｘ線またはγ線は、指向性を有す
るので、単位面積当りの強度を高くし、このことによっ
てもまた、被検査体の透過力を高めることができる。

【００４２】請求項４の本発明によれば、０．１〜１０
μｍの波長を有するパルス状レーザ光を、ターゲット材
料に照射することによって、硬Ｘ線またはγ線を確実に
発生することができる。

【００４３】請求項５の本発明によれば、繰返しレート
０．０００３〜１０Ｈｚに選ぶことによって、パルス状
レーザ光を、高強度で、繰返し、発生することができ
る。このような繰返しレートでパルス状レーザ光を発生
することによって、減衰率が大きい材料であっても、そ
の透過像を得ることができる。

【００４４】請求項６の本発明によれば、レーザ源から
発生されるレーザ光のパルス幅を短い時間に選ぶので、
高強度のレーザ光を得ることができ、これによってパル
ス状高輝度硬Ｘ線またはγ線を発生することができる。

【００４５】請求項７の本発明によれば、ターゲット材
料は、金属、合成樹脂などであってもよく、さらに常温
で液体または気体であってかつ低温度で凝固する物質な
どであってもよく、このようなあらゆるターゲット材料
を用いて各種の希望する短波長の硬Ｘ線またはγ線を得
ることができる。

【００４６】請求項８の本発明によれば、容器内でター
ゲット材料を移動することによって、ターゲット材料の
レーザ光照射部分を常に新しく保ち、これによってレー
ザ光照射部分が消耗されてしまうことを防ぎ、硬Ｘ線ま
たはγ線を確実に発生させることができる。

【００４７】請求項９の本発明によれば、硬Ｘ線または
γ線の透過窓からのγ線を被検査体に照射し、硬Ｘ線ま
たはγ線の透過像を、検出手段の２次元検出面で検出す
ることによって、各種の被検査体の非破壊検査を行うこ
とができる。

【００４８】請求項１０の本発明によれば、容器の硬Ｘ
線またはγ線の透過窓からの硬Ｘ線またはγ線が照射さ
れる位置に、搬送手段によって被検査体が順次的に搬送
される。これによってたとえば大量生産される被検査体
を順次的に硬Ｘ線またはγ線の透過による非破壊検査を
行うことができる。前記位置に搬送された被検査体に
は、パルス状レーザ光のターゲット材料への照射に対応
して、パルス状硬Ｘ線またはγ線を、単一回または複数
回、フラッシュ照射することができる。被検査体が、硬
Ｘ線またはγ線の減弱率が大きい厚い形状を有すると
き、複数回の硬Ｘ線またはγ線の照射によって、硬Ｘ線
またはγ線の透過像を、検出手段によって明瞭に得るこ
とができる。こうして本発明は、材料解析、欠陥検査、
医療診断などの広範囲の分野において実施されることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態の硬Ｘ線またはγ線診断
装置２４の全体の構成を簡略化して示す系統図である。

【図２】真空チャンバ３の硬Ｘ線またはγ線の透過窓１
２付近の断面図である。

【図３】本件発明者の実験結果を示すグラフである。

【符号の説明】

１ レーザ源 ２ 経路形成手段 ３ 真空チャンバ ４ ターゲット材料 ５ 真空室 ６ 容器 ７ 凹面鏡 ８ レーザ光照射部分 ９ 移動手段 １１ レーザ照射方向 １２ 硬Ｘ線またはγ線の透過窓 １３ 搬送手段 １４ 被検査体 １５ 硬Ｘ線またはγ線の照射領域 １７ 検出手段 ２４ 硬Ｘ線またはγ線診断装置 ２５ パルス状硬Ｘ線またはγ線の発生装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G001 AA01 AA02 AA09 AA10 BA11 CA01 CA02 DA01 DA02 DA09 HA12 JA09 PA11 SA10 4C092 AA20 AB21 AC01 AC08 BD01 BD19

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 １０¹⁸〜１０²²Ｗ／ｃｍ²のパルス状レ
   ーザ光を、ターゲット材料に照射することによって、硬
   Ｘ線またはγ線を発生することを特徴とするパルス状高
   輝度硬Ｘ線またはγ線の発生方法。
2. 【請求項２】 １０¹⁸〜１０²²Ｗ／ｃｍ²のパルス状レ
   ーザ光を、ターゲット材料に照射することによって、約
   ０．１ＭｅＶ〜約１ＧｅＶの指向性を有する硬Ｘ線また
   はγ線を発生することを特徴とするパルス状高輝度硬Ｘ
   線またはγ線の発生方法。
3. 【請求項３】 硬Ｘ線またはγ線の減衰率が小さい材料
   から成る硬Ｘ線またはγ線の透過窓を有し、真空室を形
   成する容器と、 容器内に設けられ、１０¹⁸〜１０²²Ｗ／ｃｍ² のパルス
   状レーザ光を発生するレーザ源と、 容器内に設けられ、レーザ源からのレーザ光が照射さ
   れ、発生した硬Ｘ線またはγ線が容器の硬Ｘ線またはγ
   線の透過窓から容器外に透過するターゲット材料とを含
   むことを特徴とするパルス状高輝度硬Ｘ線またはγ線の
   発生装置。
4. 【請求項４】 レーザ源が発生するパルス状レーザ光
   は、０．１〜１０μｍの波長を有することを特徴とする
   請求項３記載のパルス状高輝度硬Ｘ線またはγ線の発生
   装置。
5. 【請求項５】 レーザ源は、パルス状レーザ光を、０．
   ０００３〜１０Ｈｚの繰返しレートで発生することを特
   徴とする請求項３または４記載のパルス状高輝度硬Ｘ線
   またはγ線の発生装置。
6. 【請求項６】 レーザ源は、パルス幅約０．１×１０
   ^-12〜１０×１０^-12secのレーザ光を発生することを特
   徴とする請求項３〜５のうちの１つに記載のパルス状高
   輝度硬Ｘ線またはγ線の発生装置。
7. 【請求項７】 ターゲット材料は、金属、合成樹脂、ま
   たは常温で液体もしくは気体であって常温未満の低温度
   で凝固した物質であることを特徴とする請求項３〜６の
   うちの１つに記載のパルス状高輝度硬Ｘ線またはγ線の
   発生装置。
8. 【請求項８】 容器内に設けられ、ターゲット材料を移
   動する移動手段を含むことを特徴とする請求項３〜７の
   うちの１つに記載のパルス状高輝度硬Ｘ線またはγ線の
   発生装置。
9. 【請求項９】 請求項３〜７のうちの１つに記載のパル
   ス状高輝度硬Ｘ線またはγ線の発生装置が設けられ、 容器の外方で、硬Ｘ線またはγ線の透過窓からの硬Ｘ線
   またはγ線が照射される被検査体が、配置され、 被検査体に関して硬Ｘ線またはγ線の透過窓とは反対側
   に、被検査体による硬Ｘ線またはγ線の透過像を２次元
   検出面で検出する検出手段が配置されることを特徴とす
   る硬Ｘ線またはγ線診断装置。
10. 【請求項１０】 被検査体を、硬Ｘ線またはγ線の透過
    窓からの硬Ｘ線またはγ線が照射される位置に、順次的
    に搬送する搬送手段が設けられ、 レーザ源は、パルス状レーザ光を、前記硬Ｘ線またはγ
    線照射位置に、予め定める複数回、発生することを特徴
    とする請求項９記載の硬Ｘ線またはγ線診断装置。