JP2006156801A - 遮光膜形成用組成物、それを用いた固体撮像素子用遮光膜及び固体撮像素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 固体撮像素子の有効画素領域(撮像部)2の周縁に配置される塗膜を形成し得る、平均粒子径が40nm以下である黒色着色剤及び樹脂成分を含むことを特徴とする遮光膜形成用組成物、それから形成される固体撮像素子用遮光膜3、及び該遮光膜を有する固体撮像素子。
【選択図】図1
Description
従来、遮光部は、通常、CMY又はRGB各色の重ね合わせた被膜(カラーフィルタ)で形成されていた。各カラーフィルタの膜厚が1μmとしても、遮光膜は3μm程度となり、固体撮像素子の光学機能層全体の膜厚は厚くなる。
例えば、固体撮像素子の光電変換素子(受光センサー部)に対応させて、その上部に配置されるカラーフィルタの各色(例えば、C:シアン、M:マゼンタ、Y:イエロー)を重ねた積層膜の遮光部を形成して、暗電流の低減、ダイナミックレンジの低下防止、周辺回路の動作安定を図る方法が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。
固体撮像素子は、平面的には有効画素領域、光学的黒領域(オプティカルブラック領域:OPB領域)及び周辺回路部に分けられる。そのうち、撮像部に相当する有効画素領域以外の部位を遮光膜で覆って入射を極力防止して、暗電流を低下せしめるが、この遮光膜としては有効画素領域を形成する画素の重ね合わせで形成することが記載されている(例えば、特許文献2参照。)。
また、別の方法として、透明パターンを形成後、黒色の染料で着色した黒色フィルタが使用されていたが、染料は耐熱性・耐光性に劣る上、高い光学濃度が得られず、後工程での退色や変形が問題となっている。
近年、固体撮像素子の画素単位(光電変換素子大きさ)の微小化に伴い、この遮光部の薄膜化が要求されている。
即ち、画素の微小化に伴い、光電変換素子の受光量を確保するためにはシリコンウェハなどの基板上に形成された光電変換素子の上面(基板表面)からオンチップマイクロレンズの下面までの有効光学機能層の厚さを薄くする必要があり、例えば、4μm以下の厚さが要求されるようになってきた。
従来の三色の重ね合わせの遮光部ではこの薄膜化に限界があり、実際には3μm以上になり易かった。また、カラーフィルタ各色の膜の重ね合わせで遮光膜を形成すると後から形成するカラーフィルタの膜が均一に塗布されにくく、遮光膜の周囲でカラーフィルタの欠陥が生じやすいという問題もあった。
さらに、三色の重ね合わせでは充分な光学濃度が確保できず、特に膜厚が薄くなるに従って、光学濃度が低下して、暗電流が増大するという問題があった。
また、本発明の目的は、光学機能層全体の厚さが薄く、電荷検出部での暗電流の低減が可能な固体撮像素子の提供にある。
即ち、本発明は下記の手段により達成されるものである。
また、本発明によれば、光学機能層全体の厚さが薄く、有効画素領域(撮像部)以外のオプティカルブラック領域や周辺回路部で発生する暗電流の低減が可能な固体撮像素子を提供することができる。
更に、本発明の固体撮像素子用遮光膜は、前記遮光膜形成組成物を用いて形成され、複数の光電変換素子を有する有効画素領域の周縁部に配置される遮光膜であること特徴とする。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の遮光膜形成用組成物は、黒色着色剤、及び樹脂成分を含有し、該黒色着色剤が該樹脂成分中に均一に分散された組成物である。
一般的には、溶剤を用い、必要に応じて他の成分を添加することができる。
本発明に用いることができる黒色着色剤は、各種公知の黒色顔料や黒色染料を用いることが出来るが、特に、少量で高い光学濃度を実現できる観点から、
カーボンブラック、チタンブラック、酸化チタン、酸化鉄、酸化マンガン、グラファイト等が好ましく、中でも、カーボンブラック、チタンブラックのうちの少なくとも1種を含むことが好ましく、特にカーボンブラックが好ましい。
該黒色着色剤は、一種単独で用いても二種以上混合して用いてもよい。
本発明における平均粒子径は、電子顕微鏡法を用いて測定された値を採用する。
本発明において該遮光膜形成用組成物の全固形分中の該黒色着色剤含有率は、特に限定されるものではないが、薄膜で高い光学濃度を得るためにはできるだけ高い方が好ましく、20〜80質量%が好ましく、20〜70質量%が更に好ましく、20〜60質量%が特に好ましい。
黒色着色剤が少なすぎると高光学濃度を得るために膜厚を厚くする必要があり、光学機能層を薄くすることができず、黒色着色剤が多すぎると光硬化が充分に進まず膜としての強度が低下したり、アルカリ現像の際に現像ラチチュードが狭くなる傾向がある。
本発明の遮光膜形成用組成物に用いられる樹脂成分としては、特に限定されるものではなく、樹脂を形成するためのモノマー、ポリマー、樹脂に添加可能な成分等を含む組成物を言い、該樹脂成分は光硬化性であることが好ましい。
該樹脂成分としては、フォトリソ法に通常用いられる光硬化性組成物であり、バインダー、感光性重合成分、及び光重合開始剤を含む組成物をいう。以下、「光硬化性成分」、又は「光硬化性組成物」とも言う。
以下、光硬化性組成物に代表される樹脂成分を説明する。
本発明に用いるバインダーとしては、特に限定されるものではないが、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。
このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号各公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたものなども有用である。
次に、本発明の組成物において用いられる感光性重合成分について説明する。
上記感光性重合成分としては、一般的な重合性モノマーを用いることができる。
該重合性モノマーとしては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン基を有する。常圧下で100℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物が好ましく、中でも、4官能以上のアクリレート化合物がより好ましい。
遮光膜形成用組成物中における感光性重合成分の含有量は、該組成物の全固形分100に対し、好ましくは0.1〜80質量%、より好ましくは1〜60質量%、特に好ましくは5〜50質量%である。感光性重合成分の使用量が上記範囲より少なすぎても、また、多すぎても硬化が不充分となるので好ましくない。
本発明における光重合開始剤としては、前記感光性重合成分及びバインダーを重合させられるものであれば、特に限定されるものではない。従来公知の光重合開始剤を用いることができる。
一般式IVの具体的な化合物としては、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。
R’は、下記一般式VIAで示され基を表す。
R10、R11はそれぞれ水素原子、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロアルキル基(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロメチル基など)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、置換されてもよい炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基)、アミノ基、−N(R16)(R17)、ハロゲン原子(例えばCl、Br,F)を表す。好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、フェニル基、−N(R16)(R17)、Clである。
R12は、置換されてもよい炭素数6〜16のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、クミル基)を表す。置換基としてはアミノ基、−N(R16)(R17)、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロアルキル基(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロメチル基など)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばCl、Br,F)が挙げられる。
R13、R14、R16、R17は、同一または異なって、それぞれ水素原子、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)を表す。R13とR14及びR16とR17は、互いに結合し窒素原子とともに複素環(例えばピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピラゾール環、ジアゾール環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール環等)を形成してもよい。
R15は、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基)、置換されてもよい炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基)、アミノ基、N(R16)(R17)、ハロゲン原子(例えばCl、Br,F)を表す。Zbは=O、=Sあるいは=C(R18)(R19)を表す。好ましくは=O、=S、=C(CN)2であり、特に好ましくは=Oである。R18、R19は、同一または異なって、シアノ基、−COOR20、−COR21を表す。R20、R21はそれぞれ炭素数1〜8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基)、炭素数1〜8のハロアルキル基(例えばクロロメチル基、フロロメチル基、トリフロロメチル基など)、置換されてもよい炭素数6〜10のアリール基(例えばフェニル基)を表す。
例えば、米国特許第2,367,660号明細書に開示されているビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第2,367,661号および第2,367,670号明細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書に開示されているアシロインエーテル、米国特許第2,722,512号明細書に開示されているα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号および第2,951,758号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に開示されているトリアリルイミダゾールダイマー/p−アミノフェニルケトンの組合せ、特公昭51−48516号公報に開示されているベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチール−s−トリアジン系化合物等が挙げられる。
また、旭電化(株)製アデカオプトマーSP−150、同151、同170、同171、同N−1717、同N1414等も重合開始剤として使用できる。
本発明の組成物において必要に応じて使用される溶剤としては、組成物の溶解性、塗布性、安全性に応じて適宜選択される。
本発明の組成物を調製する際に使用する溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチルなどの3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類;3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等;エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレシ等が挙げられる。
本発明の組成物には、着色剤の分散性を向上させる目的で、或いは必要に応じて従来公知の各種添加物、例えば充填剤、上記アルカリ可溶性樹脂以外の高分子化合物、上記以外の界面活性剤、顔料分散剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することかできる。
2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;
2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤;
およびポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げることができる。
ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用である。
本発明の遮光膜形成用組成物は、前記黒色着色剤(以下、単に「着色剤」ともいう)、及び前記樹脂成分(光硬化性組成物)、さらに必要に応じて用いられる前記その他の成分を前記溶剤と混合し各種の混合機、分散機を使用して混合分散することによって調製することができる。
尚、混合分散工程は、混練分散とそれに続けて行う微分散処理からなるのが好ましいが、混練分散を省略することも可能である。
微分散工程では、ガラスやセラミックの微粒の分散用メディアと共に混合攪拌することにより、着色剤粒子を一次粒子に近い微小な状態にまで分散する。
従って、混練分散工程では着色剤粒子表面が形成する界面を空気から溶液に変換する必要があるので、強い剪断力、圧縮力が必要となり、それにふさわしい混練機、被混練物は高粘度のものが望ましい。
一方、微分散工程では粒子を微小な状態にまで均一に安定に分布させることが必要となり、凝集している着色剤粒子に衝撃力と剪断力を付与するような分散機と、比較的低い被分散物は比較的低粘度であることが望ましい。
前記均一に安定に分散させるとは、基板上に形成される固体撮像素子用遮光膜パターンに突起を発生させないように遮光性にむらがないように均一に分散させることであり、そのためには、前記遮光膜形成用組成物中の黒色着色剤の平均粒子径(粒子サイズ)が5〜40nmが好ましく、5〜30nmがより好ましく、5〜20nmが最も好ましい。
該平均粒子径は、電子顕微鏡法を用いて測定することができる。
次いで、溶剤及びアルカリ可溶性樹脂(混練工程で使用した残部)を加えて、主として縦型若しくは横型のサンドグラインダー、ピンミル、スリットミル、超音波分散機等を使用し、0.1〜1mmの粒径のガラス、ジルコニア等でできたビーズで微分散する。
尚、この混練工程を省くことも可能である。その場合には、顔料と分散剤若しくは表面処理剤、アルカリ可溶性樹脂及び溶剤でビーズ分散を行う。この場合には混練工程での残りのアルカリ可溶性樹脂は分散の途中で添加することが好ましい。
尚、混練、分散についての詳細はT.C. Patton著“Paint Flow
and Pigment Dispersion”(1964年 John Wiley
and Sons社刊)等にも記載されている。
本発明の遮光膜は、複数の光電変換素子からなる固体撮像素子(イメージセンサ)の受光部の周縁部に配置される固体撮像素子用の遮光膜であることを特徴とする。
該遮光膜は、前記遮光膜形成用組成物を基板上に塗布して形成した遮光膜を乾燥(プリベーク)した後、パターン露光、アルカリ現像処理の工程を経て得ることができる。
詳細には、例えば、前記遮光膜形成用組成物を、直接または他の層を介して、基板に回転塗布、スリット塗布、流延塗布、ロール塗布等の塗布方法により塗布して形成した光硬化性塗膜を乾燥(プリベーク)した後、所定のフォトマスクを介してパターン露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させ、現像液で現像することによって、黒色の画素からなるパターン状皮膜を形成し、遮光膜を製造することができる。該光照射に使用される放射線としては、特に限定されず用いることができるが、用いる光重合開始剤に基づき波長を適宜選定する。
該放射線としては、g線(436)、h線(405nm)、i線(365nm)及びj線(310nm)等に輝線スペクトルを有する放射線の利用が可能である。
本発明の遮光膜の形成位置としては、基板上のカラーフィルター(CF)と同一平面上、CFの上又は下、CFの平坦化層の上、マイクロレンズの上等、本発明の効果を損なわない範囲で、形成することができる。
前記余剰の現像液を洗浄除去し、乾燥を施した後に、50℃〜240℃の温度で加熱処理(ポストベーク)を行うことができる。このように光硬化皮膜を製造することができる。これにより遮光膜が得られる。
前記遮光膜形成用組成物はフィラー効果を発現する黒色着色物を含んでいるため、本発明の遮光膜は膜形成後の加熱処理よって変形することがなく加工性に優れ、カーボンブラックを用いたとき、特に顕著となる。
本発明の遮光膜の光学濃度(O.D.)は、特に限定されるものではないが、
遮光性能を向上させ、暗電流を低減させる観点から、2.0以上であることが好ましく、2.5以上が更に好ましく、3.0以上が最も好ましい。
有機溶剤としては、本発明の組成物を調製する際に使用される前述の溶剤が挙げられる。
現像温度としては、通常20℃〜30℃であり、現像時間としては20〜90秒である。
このポストベーク処理は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
また、上記ポストベーク処理と併せて、加熱しながら高圧水銀灯などで紫外線を照射することにより、塗布膜の硬化を行ってもよい(ポストキュア処理)。
本発明の固体撮像素子は、前記本発明の遮光膜を有することを特徴とする。その他の構成は、特に限定されるものではない。また、以下に、本発明の固体撮像素子について図1〜3を用いて説明するが、これに限定されるものではない。
前記光電変換素子(受光センサー部)4の上層には、色画素を形成するR、G、Bの3色相からなるカラーフィルタ7を含む撮像部2及び本発明の黒色の色相を有する遮光膜(遮光層)を用いた遮光部3が形成されている。
該カラーフィルタ7は、RGBのいずれか2色以上を含む色相であればよく、またその補色であるYMCから選択される2色相以上を含むカラーフィルタであっても良く、特に限定されるものではない。
また、シリコン基板6及び転送電極5a、5bの上には、必要に応じて平坦化層1等を設けることができる。
固体撮像素子の光学機能層全体の膜厚を薄くすることができることより、画素の微小化に伴う光電変換素子の受光量を確保するための遮光部の薄膜化が可能となる。
以下に、本発明の固体撮像素子の一態様を例にその製造方法について、図1、図3を用いて説明する。
該光電変換素子4に隣接して前記光電変換素子4で形成された電荷を転送するためのCCD構造の垂直転送レジスタ5a、5bを設け、さらに、該垂直転送レジスタ列の一端には水平方向に転送する水平転送レジスタ13を設ける。
更に、該水平転送レジスタ終段には信号検出部・出力アンプ、周辺部には駆動回路等の周辺回路形成部14を形成する。
続いて、ブルーのカラーレジストを用いて前記塗布膜上に塗布機(例えば、スピンコート)で均一塗布、60〜150℃、10〜180秒(例えば、ホットプレート上で110℃で120秒)加熱した後、一辺が2μmの正方ピクセルが配列されたマスクのパターンを介して、i線ステッパー((株)キヤノン製FPA−3000i+)にて500〜3万J/m2(例えば、2000J/m2)で露光し、現像液にて現像し、ブルーのカラーフィルタパターンを得る。
続いて、グリーン、レッドのカラーレジストについても同様に行って、基板上の光電変換素子4上部にカラーフィルタ7(7R、7G、7B)を得る。
次に、上記乾燥塗布膜に、撮像部(有効画素領域)2を開口し、増幅部・周辺回路部14と暗電流計測に使用される光電変換素子4を覆うようなマスクパターンが形成されたマスクを介して、i線ステッパー((株)キヤノン製FPA−3000i+)にて露光し、現像、水洗、乾燥させ、遮光部2の画像パターンを得る。
この際、シリコン基板表面からマイクロレンズ下部面までの光学機能層の膜厚は5μm以下が好ましく、4.5μm以下がより好ましく、4μm以下が特に好ましい。また、前記遮光層の最外層には保護層を有しても良い。
[回路部の作成]
固体撮像素子は、従来のものと同様にシリコン基板からなる基板の表層部に光電変換を成す複数の受光センサー部(光電変換素子)を形成し、受光センサーに隣接して前記受光センサーで形成された電荷を転送するためのCCD構造の垂直転送レジスタを、該垂直転送レジスタ列の一端には水平方向に転送する水平転送レジスタを、該水平転送レジスタ終段には信号検出部と出力アンプを形成し、更に周辺部には駆動回路等の周辺回路を形成した。
平坦化膜用塗布液(富士フイルムアーチ製COLOR MOSAIC CT−3100L)を、塗布後に表面温度120℃×120秒、ホットプレート上で加熱処理した後にその膜厚が約2μmになるようにスピンコートで塗布回転数を調整した後、その回転数で前記基板上に均一塗布して、乾燥塗布膜を形成させた。この場合の加熱処理は、ホットプレート110℃×120秒で行った。
続いて、上記ブルーのカラーレジスト(富士フイルムアーチ製COLOR M OSAIC−EXIS CB−4000L)の乾燥塗布膜に、一辺が2μmの正方ピクセルがそれぞれ基板上の4×3mm中に配列されたマスクパターンを介して、i線ステッパー((株)キヤノン製FPA−3000i+)にて2000J/m2の露光量で露光し、該露光された膜をテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)0.3%水溶液で、35℃にて60秒、パドル現像後、20秒スピンシャワーにて純水でリンスを行い、更に純水にて水洗を行った。その後、水滴を高度のエアーで飛ばし、自然乾燥した後、ブルーのカラーフィルタパターンを得た。
グリーンのカラーレジスト(富士フイルムアーチ製COLOR MOSAIC−EXIS SG−4000L使用)とレッドのカラーレジスト(富士フイルムアーチ製COLOR MOSAIC−EXIS SR−4000L使用)についても、同様の工程を繰り返し、基板上の受光センサ上部にカラーフィルタを得た。
遮光膜形成用組成物に使用するカーボンブラック分散液は、下記の組成を二本ロールにて高粘度分散処理を施した。この際の分散物の粘度は70000mPa・sであった。ここで、尚、高粘度分散処理の前にニーダーで30分混練することを行っても良い。
平均一次粒径15nmカーボンブラック(Pigment Black7)
23部
ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液(BzMA/MAA=70/30、Mw:30000、固形分) 22部
ソルスパース5000(ゼネカ社製) 1.2部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 200部
下記の成分を攪拌機で混合して遮光膜形成用組成物を作成した。
メタクリレート/アクリル酸共重合体(アルカリ可溶性樹脂) 1.6部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 2.3部
エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート 0.8部
上記平均一次粒径15nmカーボンブラック分散液 15部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 16部
エチル−3−エトキシプロピオネート 11部
トリアジン系開始剤(下記(VI)) 0.8部
上記で得られた遮光膜形成用組成物を用いて、塗布後に表面温度120℃で120秒間ホットプレートでの加熱処理後の膜厚が1.0μmになるようにスピンコートの塗布回転数を調整し、カラーフィルタを作成した基板上に均一に塗布した。
次に、塗布された遮光膜形成用レジスト層を120℃で120秒間ホットプレートで加熱処理し、1.0μmの乾燥塗布膜を形成した。
λ=546nmの光で光学濃度計310TR(X−rite社製)で測定を行ったところ、光学濃度は3.1であった。
次に、上記乾燥塗布膜に、有効画素領域を開口し、周辺回路部と暗電流計測に使用される受光センサー部を覆うようなマスクパターンが形成されたマスクを介して、i線ステッパー((株)キヤノン製FPA−3000i+)にて露光し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)0.3%水溶液を用いて、23℃にて60秒間パドル現像を行い、その後純水を用いて20秒間スピンシャワーにて、リンスを行い、更に純水にて水洗を行った。その後、付着した水滴を高度のエアーで除去し、基板を自然乾燥させ、画像パターンを得た。
上記で得られた基板上に平坦化膜とマイクロレンズを形成した。前記シリコン基板表面からマイクロレンズ最下層面までの光学機能層の膜厚は3.5μmであった。
この基板をダイシングし、パッケージングしてデバイス(固体撮像素子)を得た。
[回路部の作成]
実施例1と同様に行い、シリコン基板上に光電変換素子を有する回路部を作成した。
平坦化膜(富士フイルムアーチ製COLOR MOSAIC CT−3100L)を前記基板上に均一塗布後、ブルーのカラーレジスト(富士フイルムアーチ製COLOR MOSAIC−EXIS CB−4000L)を用いて、一辺が2μmの正方ピクセルが配列されたマスクと周辺回路と暗電流計測用に使用される受光センサー部を覆うようなマスクパターンが形成されているマスクパターンを介して、i線ステッパー((株)キヤノン製FPA−3000i+)にて露光し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)0.3%水溶液で現像し、ブルーのカラーフィルタパターンを得た。
グリーンのカラーレジスト(富士フイルムアーチ製COLOR MOSAIC−EXIS SG−4000L使用)とレッドのカラーレジスト(富士フイルムアーチ製COLOR MOSAIC−EXIS SR−4000L使用)についても、同様の工程を繰り返し、基板上の光電変換素子上部にカラーフィルタと同時に有効画素部周縁に遮光膜を得た。
光学濃度は実施例と同一条件で測定して1.8であった。また、RGB各色について重ね合わせて形成された遮光膜の厚さは2.3μmであった。
上記で得られた基板上に平坦化膜(絶縁膜)とマイクロレンズを形成した。絶縁膜からマイクロレンズ最下層面までの光学機能層の膜厚は4.8μmであった。
遮光膜周辺の有効画素部では、ブルーの後に形成されたグリーンとレッドの膜厚が厚くなり、パターン形状に歪み・剥がれが発生した。
比較例の従来のカラーフィルタの重ね合わせによる遮光膜と比較して、膜厚が薄いため、従来では光電変換素子の口径が2μmで固体撮像素子を形成した際の光学機能層4.8μmを3.5μmまで低減することが出来ることが分かる。
本発明のカーボンブラックを使用した遮光膜を図3の8の位置に使用した実施例1の固体撮像素子と、従来使用されているRGBを重ね合わせて形成した遮光膜を図2の8の位置に使用した比較例1の固体撮像素子とを用いて、該素子の周囲温度を変えて光照射時の遮光部の出力電圧を測定して評価した。25℃の暗時出力を1とした時の出力比を図4に示す。
実施例1のカーボンブラック分散液において、平均一次粒子径50nmのカーボンブラックを用いた以外は、実施例1と同様に行い固体撮像素子を作製した。
実施例1及び実施例2で得られた固体撮像素子の画素パターンエッジを、SEM S−4800(日立製作所(株)製)を用いて観察評価した。得られた画素パターンを図5に示す。
一方、本発明の実施例1で使用した平均一次粒子径15nmのカーボンブラックを使用した遮光膜を使用した固体撮像素子では、パターンエッジの凹凸が少なく、直線性が高いため、暗電流計測用画素への光の入射や有効画素上への突起の発生は起こらなかった。
2 有効画素領域(撮像部)
3 遮光部
4 光電変換素子(受光センサー部)
5a 第一転送電極
5b 第二転送電極
6 シリコン基板
7 カラーフィルタ
7R Rカラーフィルタの画素
7G Gカラーフィルタの画素
7B Bカラーフィルタの画素
8 遮光膜
9 絶縁部
11 画素部
12 垂直転送レジスタ
13 水平転送レジスタ
14 増幅部・周辺回路形成部
15 光学機能層
16、17 平坦化膜1,2
18 オンチップマイクロレンズ
m オンチップマイクロレンズと(CF上に形成される)平坦化膜2との境界面
l 光電変換素子4と(転送電極上に形成される)平坦化膜1との境界面
Claims (8)
- 固体撮像素子の有効画素領域(撮像部)の周縁に配置される塗膜を形成し得る、平均粒子径が40nm以下である黒色着色剤及び樹脂成分を含むことを特徴とする遮光膜形成用組成物。
- 前記黒色着色剤がカーボンブラック、チタンブラックのうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1に記載の遮光膜形成用組成物。
- 前記樹脂成分が光硬化性であることを特徴とする請求項1又は2に記載の遮光膜形成用組成物。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の遮光膜形成用組成物から形成され、複数の光電変換素子を有する有効画素領域の周縁に配置される固体撮像素子用遮光膜。
- 前記遮光膜の厚さが3μm以下であることを特徴とする請求項4に記載の固体撮像素子用遮光膜。
- 光学濃度(O.D.)が2.0以上であることを特徴とする請求項4又は5に記載の固体撮像素子用遮光膜。
- 請求項4〜6のいずれか1項に記載の遮光膜を有する固体撮像素子。
- 前記光電変換素子に対応するカラーフィルタの矩形単位画素の最大辺が5μm以下であることを特徴とする請求項7に記載の固体撮像素子。
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