JP2006154440A5 - 光学素子及びその成形方法 - Google Patents

光学素子及びその成形方法 Download PDF

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Description

本発明は、曲面鏡などに用いる光学素子及びその成形方法、特に巨視的にも微視的にも型転写性に優れ、成形後の成形体表面に加工中の不可避な異物に起因した欠陥が極端に少なく、且つ極めて平滑である安価な光学素子用複合金属曲面鏡、及び前記曲面鏡の安価な成形方法に関する。
そこで、本発明の目的は、金属基材の表面に非晶質金属材料を用いながら、型成形により曲面鏡として十分な形状精度と面粗度を確保し、加工コストの低い光学素子を得ること及びその成形方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明の光学素子は、鏡面を有する非晶質金属薄膜が、金属基材の表面上に形成された構成であり、前記非晶質金属薄材料の表面粗度(Ra)が、3nm≦Ra≦6nm、且つ形状精度(PV)が、0.5μm≦PV≦2μmであることを特徴とする。
また、本発明の光学素子の成形方法は、鏡面を有する非晶質金属薄膜が、金属基材の表面上に形成された光学素子の成形方法であって、前記金属基材の表面に、成形面の面粗度(Ra)が2nm≦Ra≦5nm、及び形状精度(PV)が0.3μm≦PV≦0.5μmの成形用型を用いて、前記非晶質金属薄膜を圧縮成形することを特徴とする。
また、本発明の光学素子の成形方法によれば、著しく高い精度を有する型にて拘束しながら塑性変形し、非常に平滑な表面の光学素子用金属曲面鏡が得ることができる。成形後の加工数を大幅に減らすことが可能となりコストの低下を図ることができる。
本発明における光学素子、及びその成形方法の実施の形態として光学素子用金属曲面鏡に関して図面に基づいて説明する。

Claims (3)

  1. 鏡面を有する非晶質金属薄膜が、金属基材の表面上に形成された構成であり、前記非晶質金属薄材料の表面粗度(Ra)が、3nm≦Ra≦6nm、且つ形状精度(PV)が、0.5μm≦PV≦2μmであることを特徴とする光学素子。
  2. Al系、Ag系もしくはAu系の反射膜、金属酸化膜もしくは有機膜の保護膜、又は両者を組み合わせた積層膜が、前記非晶質金属薄膜上に被覆されていることを特徴とする請求項に記載の光学素子。
  3. 鏡面を有する非晶質金属薄膜が、金属基材の表面上に形成された光学素子の成形方法であって、前記金属基材の表面に、成形面の面粗度(Ra)が2nm≦Ra≦5nm、及び形状精度(PV)が0.3μm≦PV≦0.5μmの成形用型を用いて、前記非晶質金属薄膜を圧縮成形することを特徴とする光学素子の成形方法
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JPH10339799A (ja) * 1997-06-06 1998-12-22 Nikon Corp 反射鏡及びその製造方法
JP3647222B2 (ja) * 1997-09-29 2005-05-11 オリンパス株式会社 非晶質合金ブロックの成形方法
JP4203709B2 (ja) * 2001-02-28 2009-01-07 コニカミノルタホールディングス株式会社 光学素子成形金型

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