JP2006152372A - 金属−ファイバ複合めっき物およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
強度、熱伝導性あるいは電気伝導性に方向性を持つ金属−ファイバ複合めっき物を提供する。
【解決手段】
めっきを構成する金属4に、そのめっきの成長方向に配向するファイバ5を複合した構造を有することを特徴とする金属−ファイバ複合めっき物6とする。
【選択図】 図4
Description
2 ネガ型レジスト膜(レジスト膜)
3 孔(凹部)
4 ニッケル(金属)
4a ニッケルイオン(金属イオン)
5 CNT(ファイバ)
6 複合めっき物(金属−CNT複合めっき物)
8 めっき浴
9 別の電極
Claims (8)
- めっきを構成する金属に、そのめっきの成長方向に配向するファイバを複合した構造を有することを特徴とする金属−ファイバ複合めっき物。
- 実質的に円柱若しくは多角柱の形状を有し、
前記ファイバは上記円柱若しくは上記多角柱の長さ方向に配向し、
混合している前記ファイバの少なくとも半数の長さは、上記円柱の開口面の径若しくは多角柱の開口面の最長の対角線の長さよりも長いことを特徴とする請求項1に記載の金属−ファイバ複合めっき物。 - 前記ファイバは、カーボンナノチューブであることを特徴とする請求項1または2に記載の金属−ファイバ複合めっき物。
- 導通基板にレジスト膜を形成する工程と、
上記レジスト膜に、上記導通基板を露出させる所望形状の凹部であって、混合すべき前記ファイバの少なくとも半数の長さよりも上記凹部の開口面内の直線が短くなるように凹部を形成する工程と、
上記凹部を形成した後の上記レジスト膜付きの上記導通基板を、金属イオンと上記ファイバを含むめっき浴に入れ、上記導通基板と、それとは別の電極の間に電圧をかけて、上記凹部に、金属と上記ファイバを含む複合めっきを形成する工程と、
上記複合めっきの形成後、上記レジスト膜を除去する工程と、
を有することを特徴とする金属−ファイバ複合めっき物の製造方法。 - 導通基板にレジスト膜を形成する工程と、
上記レジスト膜に、上記導通基板を露出させる実質的に円柱若しくは多角柱形状の孔であって、ファイバの少なくとも半数の長さよりも、上記円柱の開口面の径若しくは多角柱の開口面の最長の対角線が短くなるように孔を形成する工程と、
上記孔を形成した後の上記レジスト膜付きの上記導通基板を、金属イオンと上記ファイバを含むめっき浴に入れ、上記導通基板と、それとは別の電極の間に電圧をかけて、上記孔に、金属とファイバを含む複合めっきを形成する工程と、
上記複合めっきの形成後、上記レジスト膜を除去する工程と、
を有することを特徴とする金属−ファイバ複合めっき物の製造方法。 - 前記レジスト膜をフォトレジストとし、光の照射により前記導通基板の一部を露出させることを特徴とする請求項4または5に記載の金属−ファイバ複合めっき物の製造方法。
- 前記複合めっきの形成後、前記導通基板を除去する工程を有することを特徴とする請求項4、5または6に記載の金属−ファイバ複合めっき物の製造方法。
- 前記ファイバは、カーボンナノチューブであることを特徴とする請求項4、5、6または7に記載の金属−ファイバ複合めっき物の製造方法。
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