JP2006152032A - 蛍光体ナノ粒子の製造方法 - Google Patents

蛍光体ナノ粒子の製造方法 Download PDF

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圭史 柴田
Takao Hayashi
隆夫 林
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Abstract

【課題】ナノサイズの蛍光体を従来よりも短時間で得ることができると共に収量も向上させることができる蛍光体ナノ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】蛍光体ナノ粒子11の製造方法に関する。蛍光体1を液体2中に設置する。この液体2を介してレーザ光3を蛍光体1に照射することによってアブレーションを行う。
【選択図】図1

Description

本発明は、光源から発せられた光の波長を変換する蛍光体をナノサイズに微粒子化する蛍光体ナノ粒子の製造方法に関するものである。
従来より、半導体物質に関する分野においては、量子サイズの粒子を製造する方法が知られている。例えば、特許文献1に開示されている方法では、次のようにして、マンガンがドープされた硫化亜鉛の量子サイズ粒子を製造している。すなわち、図5に示すように、まず、容器13中の蒸留した脱イオン水14中に塩化亜鉛(ZnCl)及び塩化マンガン(MnCl)を室温下で溶解させた後、この溶液にポリエチレンオキシド粉末15(PEO)を加え、数時間攪拌することによって、PEO15を完全に溶解させる。図5中、16はZn2+を示し、17はMn2+を示す。次に、上記の溶液をガラス板18の表面に流し落とした後、これを窒素流通下で乾燥させると膜19が得られるので、この膜19をガラス板18から剥離し、これを適当な寸法のクーポン20に切断する。その後、ヘキサメチルジシルチアンS(Si(CHが溶解しているシクロヘキサン21中に上記クーポン20を室温下で入れる。図5中、22はS2−を示す。そうすると、反応がゆっくりと進行し、マンガンがドープされた量子サイズの硫化亜鉛粒子23が成長する。そして、反応が完了すると、マンガンがドープされた約20〜100オングストローム(約2〜10nm)の硫化亜鉛粒子23が得られるものである。
特開平6−349579号公報([0014][0015])
しかしながら、特許文献1に開示されている方法では、上述したように反応がゆっくり進行するため、ドープされた粒子がPEOマトリックス中で成長するのに数日間から数週間かかる。その上、ナノサイズの硫化亜鉛粒子を得るのに時間がかかる割にはその収量が少ないという問題もある。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、ナノサイズの蛍光体を従来よりも短時間で得ることができると共に収量も向上させることができる蛍光体ナノ粒子の製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明の請求項1に係る蛍光体ナノ粒子の製造方法は、蛍光体1を液体2中に設置し、この液体2を介してレーザ光3を蛍光体1に照射することによってアブレーションを行うことを特徴とするものである。
請求項2の発明は、請求項1において、蛍光体1が粉末状であることを特徴とするものである。
請求項3の発明は、請求項2において、蛍光体1に運動エネルギーを付与することを特徴とするものである。
請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれかにおいて、表面被覆層形成剤4を液体2中に混入することを特徴とするものである。
請求項5の発明は、請求項4において、レーザ光3を照射した後にアシストレーザ5を照射することを特徴とするものである。
本発明の請求項6に係る蛍光体ナノ粒子の製造方法は、粉末状の蛍光体1を含む液体2を一方向に流し、この流れの途中にレーザ光照射部6を設け、このレーザ光照射部6においてこれより上流から流れてきた蛍光体1に液体2を介してレーザ光3を照射することによってアブレーションを行うことを特徴とするものである。
請求項7の発明は、請求項6において、レーザ光照射部6より下流に表面被覆層形成剤混入部7及びアシストレーザ照射部8をこの順に設け、レーザ光3が照射された蛍光体1を含む液体2に表面被覆層形成剤混入部7から表面被覆層形成剤4を混入した後、上記蛍光体1及び表面被覆層形成剤4を含む液体2にアシストレーザ照射部8においてアシストレーザ5を照射することを特徴とするものである。
請求項8の発明は、請求項1乃至7のいずれかにおいて、レーザ光3としてパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザを用いることを特徴とするものである。
請求項9の発明は、請求項1乃至8のいずれかにおいて、液体2中の溶存酸素を除去することを特徴とするものである。
本発明の請求項1に係る蛍光体ナノ粒子の製造方法によれば、ナノサイズの蛍光体を従来よりも短時間で得ることができると共に収量も向上させることができるものである。
請求項2の発明によれば、蛍光体ナノ粒子の粒子径を均一化することができるものである。
請求項3の発明によれば、蛍光体ナノ粒子の粒子径を一層容易に均一化することができるものである。
請求項4の発明によれば、蛍光体ナノ粒子の生成と同時に被覆層が形成されるので、液体中で蛍光体ナノ粒子が再凝集するのを防止することができるものである。また、アブレーションにより生成した蛍光体ナノ粒子の表面に欠陥があったとしても、この欠陥を被覆層でキャッピングすることができるので、表面欠陥による失活を有効に防止することができると共に、発光効率を維持することができるものである。また、表面修飾工程等の後処理工程を別途設ける必要がないので、従来よりも生産性を向上させることができるものである。
請求項5の発明によれば、表面被覆層形成剤を蛍光体ナノ粒子の表面で反応させることで、被覆層を形成することができるものである。
本発明の請求項6に係る蛍光体ナノ粒子の製造方法によれば、ナノサイズの蛍光体を従来よりも短時間で得ることができると共に収量も向上させることができるものである。
請求項7の発明によれば、表面被覆層を形成した蛍光体ナノ粒子を従来よりも短時間で得ることができると共に収量も向上させることができるものである。
請求項8の発明によれば、ターゲットである蛍光体の組成と同様の組成の蛍光体ナノ粒子を得ることができると共に、熱的な影響も低減することが可能であるため、蛍光体ナノ粒子の組成を容易に制御することができるものである。
請求項9の発明によれば、アブレーションにより脱離して生成した蛍光体ナノ粒子の酸化を阻止することができ、組成変化を防止することができるものである。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
(実施形態1)
図1は本発明の実施の形態の一例を示すものであり、この例によれば、次のようにしてナノサイズの蛍光体11(蛍光体ナノ粒子11)を製造することができる。まず、容器12に入れた液体2中に蛍光体1を設置する。ここで、蛍光体1としては、少なくともナノサイズ化したときに発光現象が確認できる材料であり、Si、Ge等のIV族、ZnS、CdTe、CdSe等のII−VI族等のほか、ZnS:Mn、Y:Euのように蛍光体1の付活剤がドーパントされた混合型も用いることができる。なお、本発明において蛍光体1とはその前駆体も含む概念であり、蛍光体1の前駆体とはZnClとNaS等をいう。また、液体2としては、水のほか、トルエン、ヘプタン、エタノール、メタノール等の有機溶媒を用いることができる。
次に、上記の液体2を介してレーザ光3を蛍光体1に照射する。ここで、レーザ光3としては、上記の液体2に吸収されないものを用いるのが望ましいが、例えば、モードロックTi:サファイアレーザやYAGレーザ、あるいは、これらのレーザ光3の波長変換したレーザ(SHG−Ti:サファイアレーザ、THG−Ti:サファイアレーザ、FHG−Ti:サファイアレーザ、SHG−YAGレーザ、THG−YAGレーザ、FHG−YAGレーザ、エキシマレーザ)等を用いることができる。
そして、上記のようなレーザ光3の照射によってアブレーションを行うと、ターゲットである蛍光体1から無数の蛍光体ナノ粒子11が脱離して生成するものである。よって、ナノサイズの蛍光体11を従来よりも短時間で得ることができると共に、その収量も向上させることができるものである。特に、パルス幅8ns、繰り返し周波数2kHzのSHG−YAGレーザ(波長532nm)を用いる場合には、加工エネルギー密度を0.1〜100J/mmとするのが好ましく、また、パルス幅30ns、繰り返し周波数100HzのKrFエキシマレーザ(波長248nm)を用いる場合には、加工エネルギー密度を0.1〜100J/mmとするのが好ましい。これにより、蛍光体ナノ粒子11のサイズを1〜100nmの範囲で制御することが可能となる。
ここで、ターゲットとなる蛍光体1は、図1に示すようなバルク状であってもよいが、μm〜mmオーダーの粉末状であることがより好ましい。この場合、バルク状の蛍光体1を直接ナノサイズ化するよりも、粉末状の蛍光体1をナノサイズ化する方が、レーザ光3の利用効率を向上させることができると共に、蛍光体ナノ粒子11の粒子径を均一化することができるものである。また、1回のレーザ光3の照射でナノサイズ化できなくても、複数回のレーザ光3の照射でナノサイズ化することができる。なお、粉末状の蛍光体1はボールミルによる粉砕などによって入手することができる。
また、図1では液体2内に蛍光体1を静置しているが、上記のように粉末状の蛍光体1を用いる場合には、この蛍光体1に運動エネルギーを付与するのが好ましい。運動エネルギーの付与は、例えば、容器内にファン(図示省略)を設け、このファンを回転させて容器内の液体2を撹拌することによって行うことができるほか、容器12を超音波振動させることによっても行うことができる。このようにして蛍光体1に運動エネルギーを付与すると、液体2内における蛍光体1の分散性が向上すると共に、液体2内の蛍光体1は一箇所にとどまることがなくなり、絶えず移動するようになる。そうすると、レーザ光3の照射範囲から外れた蛍光体1があっても、付与した運動エネルギーによってこのような蛍光体1をレーザ光3の照射範囲内に入れることができ、蛍光体ナノ粒子11の粒子径を一層容易に均一化することができるものである。
また、ターゲットとなる蛍光体1は、図1に示すようなバルク状であってもよいが、これより細かなペレット状であってもよい。この場合、バルク状よりもペレット状の蛍光体1にレーザ光3を照射する方がレーザ光3の利用効率を向上させることができるものである。そのうえ、レーザ光3の照射後においてもなおペレット状として残存している蛍光体1と、蛍光体ナノ粒子11とは大きさが著しく異なるため、両者を容易に分別することができ、蛍光体ナノ粒子11のみを容易に抽出することができるものである。なお、分別や抽出は遠心分離などによって行うことができる。
また、レーザ光3としては、パルス幅が1psを超えるものを用いてもよいが、このようなレーザ光3を蛍光体1に照射すると、蛍光体1に物理的な変化が生じるおそれがある。そのため、レーザ光3としては、パルス幅が1ps以下(実質上の下限は1fs)の超高強度パルスレーザを用いるのが好ましい。この場合、レーザ光3の照射後、nsオーダーでアブレーションが行われて蛍光体1から蛍光体ナノ粒子11が脱離することとなる。つまり、レーザ光3の照射が終了してから蛍光体ナノ粒子11が生成され、レーザ光3と蛍光体ナノ粒子11との間で干渉が起こらないので、ターゲットである蛍光体1の組成と同様の組成の蛍光体ナノ粒子11を得ることができるものである。また、熱的な影響も低減することが可能であるため、蛍光体ナノ粒子11の組成を容易に制御することができるものである。特に、パルス幅120fs、繰り返し周波数1kHzのTi:サファイアレーザ(波長800nm)を用いる場合には、加工エネルギー密度を0.01〜10J/mmとするのが好ましく、また、パルス幅270fs、繰り返し周波数350Hzのエキシマフェムト秒レーザ(波長248nm)を用いる場合には、加工エネルギー密度を1〜200J/mmとするのが好ましい。これにより、蛍光体ナノ粒子11のサイズを1〜100nmの範囲で制御することが可能となる。
また、液体2として水を用いる場合には、水は化学的に安定な物質であり、蛍光体1の組成を変化させるような悪影響を及ぼすことがないので、蛍光体ナノ粒子11を安定して得ることができるものである。
また、液体2中の溶存酸素は除去するのが好ましい。溶存酸素の除去は、例えば、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガスを液体2中に吹き込み、溶存酸素を不活性ガスに置換することによって行うことができる。このようにして液体2中の溶存酸素を除去すると、アブレーションにより脱離して生成した蛍光体ナノ粒子11の酸化を阻止することができ、組成変化を防止することができるものである。
(実施形態2)
図2は本発明の実施の形態の他例を示すものであるが、表面被覆層形成剤4を液体2中に混入するようにした以外は、実施形態1と同様であるので、以下では、実施形態1とは異なる点について説明する。
表面被覆層形成剤4とは、蛍光体ナノ粒子11の表面に化学的又は物理的に結合するものをいい、ZnS等のワイドバンドギャップ半導体及びその原材料や、界面活性剤、金属アルコキシド、重合性モノマーのように、C=O、C=S、N=O、P=O、OH、SH、NH等の官能基を有するものをいう。これらの官能基のうちC=OやP=Oは紫外光〜可視光にて励起する結合を有しており、官能基中で励起されたエネルギーが蛍光体ナノ粒子11へ移動して発光することにより発光効率を増加させることができるので、表面被覆層形成剤4としてはC=OやP=Oのような官能基を有するものを用いるのが望ましい。なお、本発明において表面被覆層形成剤4とはその前駆体も含む概念であり、表面被覆層形成剤4の前駆体とは、例えば、蛍光体ナノ粒子11の表面で重合することによって高分子膜を形成するようなものをいう。
そして、表面被覆層形成剤4を混入した液体2を介してレーザ光3を蛍光体1に照射することによってアブレーションを行うと、ターゲットである蛍光体1から無数の蛍光体ナノ粒子11が脱離して生成すると同時に、蛍光体ナノ粒子11の表面に被覆層が形成される。このように被覆層を形成すれば、蛍光体1の量子閉じ込め効果による発光効率を増加させることができるものである。また、被覆層同士は引き合わないので、液体2中で蛍光体ナノ粒子11が再凝集するのを防止することができるものである。また、アブレーションにより生成した蛍光体ナノ粒子11の表面に欠陥があったとしても、この欠陥を被覆層でキャッピングすることができるので、表面欠陥による失活を有効に防止することができると共に、発光効率を維持することができるものである。また、被覆層は蛍光体ナノ粒子11の生成と同時に形成されるので、表面修飾工程等の後処理工程を別途設ける必要がなく、従来よりも生産性を向上させることができるものである。なお、表面被覆層形成剤4が液体2に溶解しないで単に分散しているだけでは、照射したレーザ光3が液体2中で散乱し、ターゲットである蛍光体1にまで到達しないおそれがあるので、液体2中に混入した表面被覆層形成剤4は十分に溶解させておくのが望ましい。
ここで、表面被覆層形成剤4として、界面活性剤、金属アルコキシド、重合性モノマーを用いる場合について、場合を分けてより詳細に説明する。
まず、界面活性剤としては、トリオクチルホスフィンオキサイド、トリオクチルホスフィン、ラウリルリン酸、POE(1)ラウリルエーテルリン酸、ポリオキシエチレン(4.5)ラウリルエーテル酢酸等を用いることができる。このような界面活性剤を表面被覆層形成剤4として用いる場合には、溶解度の点から、液体2として水を用いるのが好ましい。
そして、界面活性剤を混入して溶解させた液体2を介して蛍光体1にレーザ光3を照射することによってアブレーションを行うと、ターゲットである蛍光体1から無数の蛍光体ナノ粒子11が脱離して生成すると同時に、界面活性剤による被覆層が蛍光体ナノ粒子11の表面に形成される。界面活性剤は親水基と疎水基とから構成されるが、親水基が蛍光体ナノ粒子11の表面に配位することによって被覆層が形成され、被覆層の表面に疎水基が現われることとなる。よって、被覆層が形成された後の蛍光体ナノ粒子11は、各種有機溶媒に対して分散性が良好となり、容易に取り扱うことができるものである。なお、蛍光体ナノ粒子11の1重量部に対して5重量部以上の界面活性剤を用いると、蛍光体ナノ粒子11への界面活性剤の配位確率を十分に高めることができる。
また、疎水基は通常長い炭素鎖であるので、液体2中で蛍光体ナノ粒子11同士が直接衝突しないようにして、再凝集するのを防止することができるものである。このような効果は、疎水基がC10以上の炭素鎖であると、より高く得ることができる。
また、アブレーションにより生成した蛍光体ナノ粒子11の表面に欠陥があったとしても、この欠陥を界面活性剤による被覆層でキャッピングすることができるので、表面欠陥による失活を有効に防止することができると共に、発光効率を維持することができるものである。
また、C=OやP=O等の官能基は紫外光〜可視光にて励起する結合を有しており、官能基中で励起されたエネルギーが蛍光体ナノ粒子11へ移動して発光することにより発光効率を増加させることができるので、界面活性剤の親水基としてはC=OやP=Oのような官能基を有するものを用いるのが望ましい。
次に、金属アルコキシドとしては、Si(OCH、Si(OC、Si(i−OC、Si(t−OC等のテトラアルコキシド等を用いることができる。このような金属アルコキシドを表面被覆層形成剤4として用いる場合には、溶解度の点から、液体2として有機溶媒を用いるのが好ましく、具体的には、メタノールやエタノール等のアルコールを用いるのが好ましい。
そして、金属アルコキシドを混入して溶解させた液体2を介して蛍光体1にレーザ光3を照射し、その後、このレーザ光3よりも加工エネルギー密度の小さいアシストレーザ5を照射する。最初のレーザ光3の照射によるアブレーションで、ターゲットである蛍光体1から無数の蛍光体ナノ粒子11が脱離して生成し、その後のアシストレーザ5の照射で、金属アルコキシドが蛍光体ナノ粒子11の表面で反応し、金属酸化物による被覆層が形成される。金属酸化物はシリコーンに対する密着性が高いので、被覆層が形成された後の蛍光体ナノ粒子11は、シリコーン系封止材に対して分散性が良好となり、容易に取り扱うことができるものである。なお、液体2中に塩酸や硝酸等の酸性触媒又はアンモニア等の塩基性触媒を添加しておくと、蛍光体ナノ粒子11の表面における金属アルコキシドの反応を促進することができる。
また、金属酸化物による被覆層により、液体2中で蛍光体ナノ粒子11同士が直接衝突しないようにして、再凝集するのを防止することができるものである。
また、アブレーションにより生成した蛍光体ナノ粒子11の表面に欠陥があったとしても、この欠陥を金属酸化物による被覆層でキャッピングすることができるので、表面欠陥による失活を有効に防止することができると共に、発光効率を維持することができるものである。
一般に、蛍光体バンドギャップより大きいバンドギャップを有する物質で蛍光体1を取り囲むと、表面欠陥の被覆効果により蛍光体1内部に生じた励起電子の無輻射遷移が減少し、発光効率が増加する。特に蛍光体ナノ粒子11の粒子径が10nm以下の場合には、量子閉じ込め効果をも得ることができ、発光効率の増加が顕著となる。金属酸化物による被覆層は、蛍光体バンドギャップより大きいバンドギャップを有するので、上記のような量子閉じ込め効果が得られ、発光効率を増加させることができるものである。
次に、重合性モノマーとしては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、テトラブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メチルシクロヘキシルメタクリレート、2−エチルシクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、1−ナフチルメタクリレート、クロロフェニルメタクリレート、ブロモフェニルメタクリレート、トリブロモフェニルメタクリレート、メトキシフェニルメタクリレート、シアノフェニルメタクリレート、フェニルチオメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、テトラブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、メチルシクロヘキシルアクリレート、2−エチルシクロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレート、イソボニルアクリレート、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、1−ナフチルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、ブロモフェニルアクリレート、トリブロモフェニルアクリレート、メトキシフェニルアクリレート、シアノフェニルアクリレート等を用いることができる。このような重合性モノマーを表面被覆層形成剤4として用いる場合には、溶解度の点から、液体2として有機溶媒を用いるのが好ましく、具体的には、アセトンやトルエン等の無極性溶媒を用いるのが好ましい。
そして、重合性モノマーを混入して溶解させた液体2を介して蛍光体1にレーザ光3を照射し、その後、このレーザ光3よりも加工エネルギー密度の小さいアシストレーザ5を照射する。最初のレーザ光3の照射によるアブレーションで、ターゲットである蛍光体1から無数の蛍光体ナノ粒子11が脱離して生成し、その後のアシストレーザ5の照射で、重合性モノマーが蛍光体ナノ粒子11の表面で重合反応し、ポリマーによる被覆層が形成される。ポリマーは他のポリマーに対する密着性が高いので、被覆層が形成された後の蛍光体ナノ粒子11は、ポリマー系封止材に対して分散性が良好となり、容易に取り扱うことができるものである。
また、ポリマーによる被覆層により、液体2中で蛍光体ナノ粒子11同士が直接衝突しないようにして、再凝集するのを防止することができるものである。
また、アブレーションにより生成した蛍光体ナノ粒子11の表面に欠陥があったとしても、この欠陥をポリマーによる被覆層でキャッピングすることができるので、表面欠陥による失活を有効に防止することができると共に、発光効率を維持することができるものである。
一般に、C=O結合やP=O結合等の二重結合を有する官能基は紫外光〜可視光により励起し、発光する性質を有している。そのため、このような官能基を有するポリマーによる被覆層を蛍光体ナノ粒子11の表面に形成すると、ポリマー中の官能基にて励起したエネルギーが蛍光体ナノ粒子11へ移動し、その発光効率を上昇させることができる。なお、重合性モノマーの具体例として既に列挙したものは、C=O結合やP=O結合等の二重結合を有する官能基を含むものである。
上述した金属アルコキシドや重合性モノマー等を表面被覆層形成剤4として用いる場合には、これらのものを蛍光体ナノ粒子11の表面で反応させるためにアシストレーザ5を照射するようにしているが、このアシストレーザ5としては、例えば、モードロックTi:サファイアレーザやYAGレーザ、あるいは、これらのレーザ光3の波長変換したレーザ(SHG−Ti:サファイアレーザ、THG−Ti:サファイアレーザ、FHG−Ti:サファイアレーザ、SHG−YAGレーザ、THG−YAGレーザ、FHG−YAGレーザ、エキシマレーザ)等を用いることができる。特に、パルス幅8ns、繰り返し周波数2kHzのSHG−YAGレーザ(波長532nm)を用いる場合には、加工エネルギー密度を0.01〜10J/mmとするのが好ましく、また、パルス幅30ns、繰り返し周波数100HzのKrFエキシマレーザ(波長248nm)を用いる場合には、加工エネルギー密度を0.01〜10J/mmとするのが好ましい。
また、アシストレーザ5としては、パルス幅が1psを超えるものを用いてもよいが、このようなアシストレーザ5を照射すると、蛍光体ナノ粒子11に物理的な変化が生じるおそれがある。そのため、アシストレーザ5としては、パルス幅が1ps以下(実質上の下限は1fs)の超高強度パルスレーザを用いるのが好ましい。この場合、熱的な影響も低減することが可能である。特に、パルス幅120fs、繰り返し周波数1kHzのTi:サファイアレーザ(波長800nm)を用いる場合には、加工エネルギー密度を0.001〜1J/mmとするのが好ましく、また、パルス幅270fs、繰り返し周波数350Hzのエキシマフェムト秒レーザ(波長248nm)を用いる場合には、加工エネルギー密度を0.1〜20J/mmとするのが好ましい。
(実施形態3)
図3は本発明の実施の形態のさらに他例を示すものであり、この例によれば、次のようにしてナノサイズの蛍光体11(蛍光体ナノ粒子11)を製造することができる。まず、粉末状の蛍光体1を含む液体2を管状体9の一端から他端に向けて一方向に流す。ここで、蛍光体1及び液体2としては、実施形態1と同様のものを用いることができる。また、上記の流れの途中にはレーザ光照射部6が設けてある。このレーザ光照射部6は、実施形態1と同様のレーザ光3を管状体9の外部から内部に向けて照射することができるように形成してある。レーザ光3が管状体9に吸収されないようにするため、管状体9は合成石英で形成するのが好ましい。
そして、上記のレーザ光照射部6において、これより上流から流れてきた蛍光体1に液体2を介してレーザ光3を照射することによってアブレーションを行うと、ターゲットであるμm〜mmオーダーの粉末状の蛍光体1から無数の蛍光体ナノ粒子11が脱離して生成するものである。よって、ナノサイズの蛍光体11を従来よりも短時間で得ることができると共に、その収量も向上させることができるものである。しかも、本実施形態では、連続的に蛍光体ナノ粒子11を得ることができるので、生産性をさらに向上させることができるものである。
(実施形態4)
図4は本発明の実施の形態のさらに他例を示すものであり、この例によれば、次のようにしてナノサイズの蛍光体11(蛍光体ナノ粒子11)を製造することができる。まず、粉末状の蛍光体1を含む液体2を管状体9の一端から他端に向けて一方向に流す。ここで、蛍光体1及び液体2としては、実施形態1と同様のものを用いることができる。また、上記の流れの途中にはレーザ光照射部6が設けてある。このレーザ光照射部6は、実施形態3と同様に形成してある。レーザ光3が管状体9に吸収されないようにするため、管状体9は合成石英で形成するのが好ましい。また、レーザ光照射部6より下流には、表面被覆層形成剤混入部7及びアシストレーザ照射部8がこの順に設けてある。表面被覆層形成剤混入部7は、実施形態2と同様の表面被覆層形成剤4(例えば、金属アルコキシドや重合性モノマー等)を管状体9の内部を流れる液体2に混入することができるように、管状体9の側面に開口部10を設けて形成してある。アシストレーザ照射部8は、実施形態2と同様のアシストレーザ5を管状体9の外部から内部に向けて照射することができるように形成してある。
そして、上記のレーザ光照射部6において、これより上流から流れてきた蛍光体1に液体2を介してレーザ光3を照射することによってアブレーションを行うと、ターゲットであるμm〜mmオーダーの粉末状の蛍光体1から無数の蛍光体ナノ粒子11が脱離して生成するものである。
次に、レーザ光照射部6を通過した液体2、すなわち、レーザ光3が照射された蛍光体1を含む液体2に表面被覆層形成剤混入部7から表面被覆層形成剤4を混入する。液体2は流れているので、液体2中に混入した表面被覆層形成剤4は十分に溶解させることができる。
その後、上記蛍光体1及び表面被覆層形成剤4を含む液体2にアシストレーザ照射部8においてアシストレーザ5を照射すると、蛍光体ナノ粒子11の表面に被覆層が形成される。このように被覆層を形成すれば、蛍光体1の量子閉じ込め効果による発光効率を増加させることができるものである。また、被覆層同士は引き合わないので、液体2中で蛍光体ナノ粒子11が再凝集するのを防止することができるものである。また、レーザ光照射部6で生成した蛍光体ナノ粒子11の表面に欠陥があったとしても、この欠陥を被覆層でキャッピングすることができるので、表面欠陥による失活を有効に防止することができると共に、発光効率を維持することができるものである。また、被覆層は蛍光体ナノ粒子11の生成直後に形成されるので、表面修飾工程等の後処理工程を別途設ける必要がなく、従来よりも生産性を向上させることができるものである。
上記のように、本実施形態では、被覆層を形成した蛍光体ナノ粒子11を従来よりも短時間で得ることができると共に、その収量も向上させることができるものである。しかも、本実施形態では、被覆層を形成した蛍光体ナノ粒子11を連続的に得ることができるので、生産性をさらに向上させることができるものである。
本発明の実施の形態の一例を示す概略断面図である。 本発明の実施の形態の他例を示す概略断面図である。 本発明の実施の形態のさらに他例を示す概略断面図である。 本発明の実施の形態のさらに他例を示す概略断面図である。 従来の技術を示す説明図である。
符号の説明
1 蛍光体
2 液体
3 レーザ光
4 表面被覆層形成剤
5 アシストレーザ
6 レーザ光照射部
7 表面被覆層形成剤混入部
8 アシストレーザ照射部

Claims (9)

  1. 蛍光体を液体中に設置し、この液体を介してレーザ光を蛍光体に照射することによってアブレーションを行うことを特徴とする蛍光体ナノ粒子の製造方法。
  2. 蛍光体が粉末状であることを特徴とする請求項1に記載の蛍光体ナノ粒子の製造方法。
  3. 蛍光体に運動エネルギーを付与することを特徴とする請求項2に記載の蛍光体ナノ粒子の製造方法。
  4. 表面被覆層形成剤を液体中に混入することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の蛍光体ナノ粒子の製造方法。
  5. レーザ光を照射した後にアシストレーザを照射することを特徴とする請求項4に記載の蛍光体ナノ粒子の製造方法。
  6. 粉末状の蛍光体を含む液体を一方向に流し、この流れの途中にレーザ光照射部を設け、このレーザ光照射部においてこれより上流から流れてきた蛍光体に液体を介してレーザ光を照射することによってアブレーションを行うことを特徴とする蛍光体ナノ粒子の製造方法。
  7. レーザ光照射部より下流に表面被覆層形成剤混入部及びアシストレーザ照射部をこの順に設け、レーザ光が照射された蛍光体を含む液体に表面被覆層形成剤混入部から表面被覆層形成剤を混入した後、上記蛍光体及び表面被覆層形成剤を含む液体にアシストレーザ照射部においてアシストレーザを照射することを特徴とする請求項6に記載の蛍光体ナノ粒子の製造方法。
  8. レーザ光としてパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザを用いることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の蛍光体ナノ粒子の製造方法。
  9. 液体中の溶存酸素を除去することを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の蛍光体ナノ粒子の製造方法。
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