JP2006150627A - テストパターン測定方法および画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 一方向に回動する無端状回動体上にテストパターンAを形成し(S401)、該無端状回動体上に光を照射してその反射光を検知するセンサによってテストパターンAを検知し(S402)、無端状回動体上におけるテストパターンA以降の下地部分について、その複数箇所の反射光量を計測して下地サンプリング値を得(S403)、テストパターンA以降にテストパターンBを形成し(S404)、周回したテストパターンAを検知し(S405)、該検知結果に基づき、下地サンプリング値からテストパターンBに対応する値を選択し(S406)、テストパターンBの反射光量を計測し(S407)、該計測値を、選択された下地サンプリング値に基づいて補正する。
【選択図】 図5
Description
図2は、図1に示した濃度センサ31の構成例を示す図である。ハウジング49には、LED等の発光素子47と、フォトダイオードなどの受光素子48が設置されている。ハウジング49には、発行素子47より発光された光線を規制、誘導するトンネル状の光路と、受光素子48に入る光線を規制、誘導するトンネル状の光路が設けられることが一般的であり、それぞれの測定対象物までの距離Ls1,Ls2によって、測定対象物面上での発光側の照射領域、受光側の有感領域が所望の特性となるように調整されている。またハウジング49は、発光素子47から直接、受光素子48へ光が入らないように覆う役割を担い、発光素子47の中心発光波長に対して透過率が極めて低い材料を用いている。発光素子47による照射光は、測定対象物Bに対しθの角度で入射し、測定対象物Bによって反射される。受光素子48は角度ψで測定対象物Bに対向し、測定対象物Bからの正反射光および拡散反射光の双方を検知する。通常、角度θとψは等しく、本実施形態では30°とした。
以下、本発明に係る第2実施形態について説明する。
ここで、P正はテストパターン計測時の正反射出力、P拡散は同じ位置での拡散反射出力、P正下は第2実施形態の方法で確定した下地位置での正反射出力の記憶値、P拡散下は第2実施形態の方法で確定した下地位置での拡散反射出力の記憶値である。また、αはほぼ100%拡散反射する基準物(例えば2色以上の有彩色ベタ画像を重ね合わせたテストパターン)を計測した場合の、拡散反射出力と正反射出力の比である。
以上、実施形態例を詳述したが、本発明は、例えば、システム、装置、方法、プログラム若しくは記憶媒体(記録媒体)等としての実施態様をとることが可能であり、具体的には、複数の機器から構成されるシステムに適用しても良いし、また、一つの機器からなる装置に適用しても良い。
2 帯電ローラ
3 露光装置
5 現像ローラ
6 供給剥ぎ取りローラ
7 現像剤
8 現像容器
11 回収容器
13 規制ブレード
19 転写ローラ
20 転写搬送ベルト
24 テンションローラ
30 駆動ローラ
31 濃度センサ
Claims (14)
- 一方向に回動する無端状回動体と、該無端状回動体に光を照射してその反射光を検知するセンサと、を有する画像形成装置におけるテストパターン測定方法であって、
前記無端状回動体上に第1のテストパターンを形成する第1のパターン形成工程と、
前記センサにより、前記第1のテストパターンを検知する第1の位置検知工程と、
前記センサにより、前記無端状回動体上における前記第1のテストパターン以降の下地部分について、その複数箇所の反射光量を計測して下地サンプリング値を得る下地計測工程と、
前記無端状回動体上において、該無端状回動体の周回に伴って周回した前記第1のテストパターン以降に第2のテストパターンを形成する第2のパターン形成工程と、
前記センサにより、前記周回した第1のテストパターンを検知する第2の位置検知工程と、
前記第2の位置検知工程における検知結果に基づき、前記下地サンプリング値から前記第2のテストパターンに対応する値を選択する下地選択工程と、
前記センサにより、前記第2のテストパターンの反射光量を計測するパターン計測工程と、
前記パターン計測工程における計測値を、前記下地選択工程で選択された下地サンプリング値に基づいて補正する補正工程と、
を有することを特徴とするテストパターン測定方法。 - 前記第1および第2の位置検知工程において、前記センサは、前記無端状回動体上における前記第1のテストパターンの位置を検知することを特徴とする請求項1記載のテストパターン測定方法。
- 前記補正工程においては、前記下地選択工程において選択されたサンプリング値に基づき、前記第2のテストパターンの反射光量を規格化することを特徴とする請求項1または2記載のテストパターン測定方法。
- 前記センサは直接反射光を計測することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のテストパターン測定方法。
- 前記第1のテストパターンは黒色であることを特徴とする請求項4記載のテストパターン測定方法。
- 前記センサは、拡散反射光を計測することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のテストパターン測定方法。
- 前記第1のテストパターンは有彩色であることを特徴とする請求項6記載のテストパターン測定方法。
- 前記センサは、直接反射光と拡散反射光を計測可能とすることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のテストパターン測定方法。
- 前記第1のテストパターンは、黒色部と有彩色部を有することを特徴とする請求項8記載のテストパターン測定方法。
- 前記第1のテストパターンは、前記無端状回動体の移動方向における前記黒色部の長さが、前記有彩色部よりも小さいことを特徴とする請求項9記載のテストパターン測定方法。
- さらに、前記下地計測工程および前記パターン計測工程において、前記無端状回動体上で画像形成が成されない非画像部における同位置の反射光量を計測し、
前記補正工程においては、前記非画像部における反射光量の変動に基づいて、前記パターン計測工程における計測値をさらに補正する
ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載のテストパターン測定方法。 - 請求項1乃至11のいずれかに記載されたテストパターン測定方法が実行可能であることを特徴とする画像形成装置。
- 情報処理装置を制御することによって、該情報処理装置を請求項1乃至11の何れかに記載されたテストパターン測定方法を実行する画像形成装置として動作させることを特徴とするプログラム。
- 請求項13に記載されたプログラムが記録されたことを特徴とする記録媒体。
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