JP6087577B2 - 画像形成装置及び濃度検出装置 - Google Patents
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Description
画像形成装置では、消耗品の交換、使用する環境の変化(温度、湿度、装置の劣化等)、印刷枚数等の諸条件によって、現像剤や画像形成に係る各部材の特性が変化する。その特性の変化は、画像濃度の変動、色再現性の変化として顕在化する。すなわち、この変動により、本来の正しい色再現性が得られなくなってしまう。そこで、本実施形態においては、画像形成を行っていない間、所定の条件に合致すると、濃度制御用の複数の試験パターンを中間転写ベルト31に形成し、それらの濃度をセンサ40で検出する。そして、その検出結果を基に、画像形成条件、つまり、画像濃度に影響を与える制御対象を制御する。なお、画像濃度に影響を与える制御対象は、例えば、帯電バイアス、現像バイアス、露光強度、階調補正テーブル等である。本実施形態においては、階調補正テーブルを制御するものとするが、例示であり、他の制御対象であっても良い。
センサ出力補正値={Pb−α×(Pc−Bc)}/Bb (1)
ここで、αは正反射スポット径及び拡散反射スポット径と、その検出感度の差をキャンセルして正味の拡散反射光量を算出するための係数である。αは、画像形成装置を使用した制御により求めてRAM103又は不揮発性メモリ109に格納しておく。また、事前に求めてROM102に格納しておく。例えば、ベタ画像からの正反射出力の平均値が0.29Vであり、拡散反射出力の平均値が2.46Vであるものとすると、αにはその比率の0.12を使用することができる。正反射光量及び拡散反射光量を検出するセンサにおいて、正反射光量に対して十分な光量を確保するため、通常、拡散反射スポット径は正反射スポット径よりも大きいことから、上記内容は一般的に有効である。
続いて、第二実施形態について説明する。本実施形態は、反射光量のサンプリング周期以外は第一実施形態と同様である。本実施形態の試験パターンのサイズは、例えば、第一実施形態と同様、6mm×8mmとする。これに対して、正反射光量の検出間隔iを正反射光のスポット径と同じ1.0mmとする。また、図14に示す様に、受光素子40bのサンプリング回数mを5回とし、受光素子40cのサンプリング回数nを3回とした。
なお、本発明は、上記説明した様に試験パターンを形成して濃度検出を行う、画像形成装置に設けられる濃度検出装置として実現することもできる。また、本発明は、以下の処理を実行することによっても実現される。即ち、上述した実施形態の機能を実現するソフトウェア(プログラム)を、ネットワーク又は各種記憶媒体を介してシステム或いは装置に供給し、そのシステム或いは装置のコンピュータ(またはCPUやMPU等)がプログラムを読み出して実行する処理である。
Claims (12)
- 像担持体と、
前記像担持体に濃度制御用の現像剤像である試験パターンを形成する画像形成手段と、
前記像担持体又は前記試験パターンに向けて光を照射する発光素子並びに該発光素子が照射した光の反射光を受光する第1の受光素子及び第2の受光素子を含む検出手段と、を備え、
前記試験パターンを前記検出手段で検出した結果に基づき前記画像形成手段の画像形成条件の制御を行う画像形成装置であって、
前記第1の受光素子は、前記発光素子が照射した光の前記像担持体での正反射光を受光する様に設けられ、前記第2の受光素子は、前記発光素子が照射した光の前記像担持体での拡散反射光を受光する様に設けられ、
前記第1の受光素子が受光する反射光のスポットの径は、前記第2の受光素子が受光する反射光のスポットの径より小さく、
前記像担持体の表面の移動方向における前記試験パターンの長さの範囲内において、前記移動方向に沿って前記第2の受光素子により前記試験パターンをサンプリングする回数は、前記移動方向に沿って前記第1の受光素子により前記試験パターンをサンプリングする回数より少ないことを特徴とする画像形成装置。 - 像担持体と、
前記像担持体に濃度制御用の現像剤像である試験パターンを形成する画像形成手段と、
前記像担持体又は前記試験パターンに向けて光を照射する発光素子並びに該発光素子が照射した光の反射光を受光する第1の受光素子及び第2の受光素子を含む検出手段と、を備え、
前記試験パターンを前記検出手段で検出した結果に基づき前記画像形成手段の画像形成条件の制御を行う画像形成装置であって、
前記第1の受光素子は、前記発光素子が照射した光の前記像担持体での正反射光を受光する様に設けられ、前記第2の受光素子は、前記発光素子が照射した光の前記像担持体での拡散反射光を受光する様に設けられ、
前記第1の受光素子が受光する正反射光のスポットの径は、前記第2の受光素子が受光する拡散反射光のスポットの径より小さく、
前記像担持体の表面の移動方向における前記試験パターンの長さの範囲内において、前記移動方向に沿って前記第1の受光素子又は前記第2の受光素子のいずれか一方の受光素子により前記試験パターンをサンプリングする回数は、前記移動方向に沿って他方の受光素子により前記試験パターンをサンプリングする回数に基づき求められることを特徴とする画像形成装置。 - 前記第1の受光素子及び前記第2の受光素子がサンプリングする前記試験パターンの前記移動方向の間隔は等しいことを特徴とする請求項1又は2に記載の画像形成装置。
- 前記間隔は前記第1の受光素子が受光する反射光のスポットの径に等しいことを特徴とする請求項3に記載の画像形成装置。
- 前記第1の受光素子による複数回のサンプリングで前記第1の受光素子が受光する反射光のスポットの前記移動方向における合計の長さは、前記第2の受光素子による複数回のサンプリングで前記第2の受光素子が受光する反射光のスポットの前記移動方向における合計の長さに等しいことを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の画像形成装置。
- 前記いずれか一方の受光素子がサンプリングする回数は、前記他方の受光素子がサンプリングする回数及びその間隔と、前記他方の受光素子が受光する反射光のスポットの径とから求められる、前記他方の受光素子が受光する反射光のスポットの前記移動方向における合計の長さに基づき求められることを特徴とする請求項2に記載の画像形成装置。
- 像担持体又は像担持体に形成された濃度制御用の現像剤像である試験パターンに向けて光を照射する発光素子と、
前記発光素子が照射した光の反射光を受光する第1の受光素子及び第2の受光素子と、を備え、
前記第1の受光素子及び前記第2の受光素子で検出した結果に基づき前記試験パターンの濃度を検出する濃度検出装置であって、
前記第1の受光素子は、前記発光素子が照射した光の前記像担持体での正反射光を受光する様に設けられ、前記第2の受光素子は、前記発光素子が照射した光の前記像担持体での拡散反射光を受光する様に設けられ、
前記第1の受光素子が受光する反射光のスポットの径は、前記第2の受光素子が受光する反射光のスポットの径より小さく、
前記像担持体の表面の移動方向における前記試験パターンの長さの範囲内において、前記移動方向に沿って前記第2の受光素子により前記試験パターンをサンプリングする回数は、前記移動方向に沿って前記第1の受光素子により前記試験パターンをサンプリングする回数より少ないことを特徴とする濃度検出装置。 - 像担持体又は像担持体に形成された濃度制御用の現像剤像である試験パターンに向けて光を照射する発光素子と、
前記発光素子が照射した光の反射光を受光する第1の受光素子及び第2の受光素子と、を備え、
前記第1の受光素子及び前記第2の受光素子で検出した結果に基づき前記試験パターンの濃度を検出する濃度検出装置であって、
前記第1の受光素子は、前記発光素子が照射した光の前記像担持体での正反射光を受光する様に設けられ、前記第2の受光素子は、前記発光素子が照射した光の前記像担持体での拡散反射光を受光する様に設けられ、
前記第1の受光素子が受光する反射光のスポットの径は、前記第2の受光素子が受光する反射光のスポットの径より小さく、
前記像担持体の表面の移動方向における前記試験パターンの長さの範囲内において、前記移動方向に沿って前記第1の受光素子又は前記第2の受光素子のいずれか一方の受光素子により前記試験パターンをサンプリングする回数は、前記移動方向に沿って他方の受光素子により前記試験パターンをサンプリングする回数に基づき求められることを特徴とする濃度検出装置。 - 前記第1の受光素子及び前記第2の受光素子がサンプリングする前記試験パターンの前記移動方向の間隔は等しいことを特徴とする請求項7又は8に記載の濃度検出装置。
- 前記間隔は前記第1の受光素子が受光する反射光のスポットの径に等しいことを特徴とする請求項9に記載の濃度検出装置。
- 前記第1の受光素子による複数回のサンプリングで前記第1の受光素子が受光する反射光のスポットの前記移動方向における合計の長さは、前記第2の受光素子による複数回のサンプリングで前記第2の受光素子が受光する反射光のスポットの前記移動方向における合計の長さに等しいことを特徴とする請求項7から10のいずれか1項に記載の濃度検出装置。
- 前記いずれか一方の受光素子がサンプリングする回数は、前記他方の受光素子がサンプリングする回数及びその間隔と、前記他方の受光素子が受光する反射光のスポットの径とから求められる、前記他方の受光素子が受光する反射光のスポットの前記移動方向における合計の長さに基づき求められることを特徴とする請求項8に記載の濃度検出装置。
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