JP2006147883A - Wafer transfer apparatus - Google Patents

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Mitsuhiro Fukunaga
光洋 福永
Masaru Saruwatari
勝 猿渡
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wafer transfer apparatus which improves work efficiency. <P>SOLUTION: According to the wafer transfer apparatus 100, a camera 116 is arranged above the center of a fork drive unit 111, so that the transfer of a wafer 120a is unnecessary. When a worker has a difficulty in reading an identification mark 120 ax because it is upside-down or inclined to the left or right, the direction of the identification mark 120 ax at a wafer image display unit 118 can be adjusted by executing image processing. This eliminates a need of aligning the wafer 120a. The whole of the wafer 120a including its periphery is exhibited on the wafer image display unit 118 without rotating the wafer 120a, which makes work of rotating the wafer 120a unnecessary. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ウェハ移載装置に関する。   The present invention relates to a wafer transfer apparatus.

半導体装置の製造工程においては、キャリアに収納された複数のウェハを、別な複数のキャリアに分割して収納する作業や、分割して複数のキャリアに収納されたウェハを1つのキャリアに収納して統合する、といった作業が存在する。   In the manufacturing process of a semiconductor device, an operation of dividing a plurality of wafers stored in a carrier into different carriers and storing the wafers divided and stored in a plurality of carriers in one carrier. Integration.

複数のキャリアにウェハを分割して収納する理由は、カスタムLSI製品においては、分割したウェハのキャリア毎にウェハへの回路形成が一部異なる場合があるためである。カスタムLSI製品においては、ROMに記憶するデータは顧客や用途によって異なり、また、少量受注であることから、製造工程のうち、ROMデータを形成する工程では、異なるROMデータ毎にウェハをキャリアに分割・収納し、ROMデータ毎のキャリア単位で製造装置にセットおよび処理をして、ROMデータ以外の各製品に共通する回路パターン形成では、ウェハを1つのキャリアに収納・統合して、バッチ処理を行う。   The reason why a wafer is divided and stored in a plurality of carriers is that, in a custom LSI product, circuit formation on the wafer may be partially different for each carrier of the divided wafer. In custom LSI products, the data stored in the ROM differs depending on the customer and application, and because it is a small order, the wafer is divided into carriers for each different ROM data in the process of forming ROM data in the manufacturing process.・ Store and set in the manufacturing equipment in units of carriers for each ROM data, and in circuit pattern formation common to each product other than ROM data, the wafers are stored and integrated in one carrier for batch processing. Do.

上述した、ウェハの分割・統合の作業は、ウェハ自体を加工するものではなく付加価値を生むものではない。しかし、半導体製造工程において、顧客のニーズに合った品種、数量を効率よく製造するために行っているものである。したがって、分割・統合の作業を可能な限り短時間で行うことが求められている。ウェハ移載装置としては、特許文献1に記載されたものが挙げられる。   The above-described wafer dividing / integrating operations do not process the wafer itself and do not add value. However, this is performed in the semiconductor manufacturing process in order to efficiently manufacture products and quantities that meet customer needs. Therefore, it is required to perform the division / integration work in as short a time as possible. An example of the wafer transfer device is described in Patent Document 1.

図11を用いて、従来のウェハ移載装置1の構成を説明する。   The configuration of a conventional wafer transfer apparatus 1 will be described with reference to FIG.

ウェハ移載装置1において、ウェハ12を移載する機能を有する動作部2は、キャリア4a〜4cがセットされる載置部3a、3b、3cと、ウェハ12を乗せ、任意の角度で回転可能な駆動部(不図示)に連結されているウェハ台5とを有する。また、動作部2は、ウェハ12のOF(Orientation Flat, ウェハ12の周縁部の一部を直線にすることでウェハ全体の方向を合わせる基準としている)部を検出するための斜光センサ部6と、ウェハ12の周縁部を撮影するカメラ7と、カメラ7を支持するアーム8とを有する。さらに、動作部2は、ウェハ12を支持するフォーク9a、9bと、フォーク9aとフォーク9bとを連結するアーム10と、フォーク9aと9bとを上昇、下降、回転、および平行移動させるためのフォーク駆動部11とを有する。さらにまた、動作部2は、カメラ7によって撮影されたウェハ周縁部の画像を表示するウェハ画像表示部13と、ウェハ移載装置1からの作業者に対する作業指示を表示する作業指示表示部14と、ウェハ移載装置1を操作するための操作パネル15とを有する。図11においては、説明の簡略化のため、キャリア載置部を3つとした。   In the wafer transfer apparatus 1, the operation unit 2 having a function of transferring the wafer 12 can place the mounting units 3 a, 3 b, and 3 c on which the carriers 4 a to 4 c are set and the wafer 12 and rotate at an arbitrary angle. And a wafer stage 5 connected to a driving unit (not shown). The operation unit 2 includes an oblique sensor unit 6 for detecting an OF (Orientation Flat, a reference for aligning the whole wafer direction by straightening a part of the peripheral portion of the wafer 12) of the wafer 12. And a camera 7 for photographing the peripheral edge of the wafer 12 and an arm 8 for supporting the camera 7. Furthermore, the operating unit 2 includes forks 9a and 9b that support the wafer 12, an arm 10 that connects the forks 9a and 9b, and a fork that moves the forks 9a and 9b up, down, rotates, and translates. And a drive unit 11. Furthermore, the operation unit 2 includes a wafer image display unit 13 that displays an image of the wafer peripheral portion taken by the camera 7, and a work instruction display unit 14 that displays a work instruction for the worker from the wafer transfer device 1. And an operation panel 15 for operating the wafer transfer device 1. In FIG. 11, three carrier mounting parts are provided for the sake of simplicity.

以下、図11〜図18を用いて、従来技術に係るウェハ移載装置1の動作を説明する。   Hereinafter, the operation of the wafer transfer apparatus 1 according to the related art will be described with reference to FIGS.

まず、複数のウェハ12が収納されたキャリア4aをキャリア載置部3aにセットし、空のキャリア4b、4cを、それぞれキャリア載置部3b、3cにセットする(図11)。   First, the carrier 4a storing a plurality of wafers 12 is set on the carrier mounting portion 3a, and the empty carriers 4b and 4c are set on the carrier mounting portions 3b and 3c, respectively (FIG. 11).

次に、複数のウェハ12を最初に収納されたキャリア4aから、空のキャリア4b、4cに分割して収納する場合、まず、フォーク9aをキャリア4a内に収納されたウェハの間に挿入し、上部のウェハ12aをフォーク9aに乗せ、キャリア4aから外に出す(図12)。ついで、フォーク駆動部11によって、フォーク9aがアーム10の中心部を軸に、平面上を180度の回転およびウェハ台5の方向へ向けて平行移動する。フォーク9aは、ウェハ台5と斜光センサ6との間に移動する(図13)。続いて、フォーク駆動部11によって、ウェハ12aを支持するフォーク9aが、ウェハ12aをウェハ台5に乗せるために下降し、ウェハ12aは、ウェハ台5に載置される。   Next, when a plurality of wafers 12 are first stored from the carrier 4a stored in empty carriers 4b and 4c, the fork 9a is first inserted between the wafers stored in the carrier 4a. The upper wafer 12a is placed on the fork 9a and taken out from the carrier 4a (FIG. 12). Then, the fork drive unit 11 causes the fork 9 a to translate 180 degrees on the plane and in the direction of the wafer stage 5 around the central part of the arm 10. The fork 9a moves between the wafer stage 5 and the oblique light sensor 6 (FIG. 13). Subsequently, the fork 9 a that supports the wafer 12 a is lowered by the fork drive unit 11 to place the wafer 12 a on the wafer table 5, and the wafer 12 a is placed on the wafer table 5.

次に、操作パネル15を用いて、作業者がウェハ12aの方向合わせの操作指示を行う。その指示に基づいて、ウェハ台5に連結される支柱が、その下部に設けられたモーターMの駆動によって回転することでウェハ12aが回転する。次に、斜光センサ部6によって、ウェハ12aのOF部が検出され、OF部が斜光センサ部6を向いた方向でウェハ12aの回転が停止する(図13、図16)。ウェハ12aの停止位置(方向)は、フォーク操作部において、データとして記憶される。   Next, using the operation panel 15, the operator gives an operation instruction for aligning the wafer 12a. Based on the instruction, the support 12 connected to the wafer stage 5 is rotated by driving a motor M provided at the lower portion thereof, whereby the wafer 12a is rotated. Next, the OF portion of the wafer 12a is detected by the oblique light sensor unit 6, and the rotation of the wafer 12a is stopped in the direction in which the OF portion faces the oblique light sensor unit 6 (FIGS. 13 and 16). The stop position (direction) of the wafer 12a is stored as data in the fork operation unit.

次に、操作パネル15におけるウェハ回転操作部からの指示信号に基づいて、ウェハ台5に連結する支柱が、その下部に位置するモーターMによって回転する。こうすることにより、ウェハ12aが回転し、ウェハ12a周縁部の視野範囲13aをカメラ7を用いて映し出された画像が、画像処理部で処理されて、ウェハ画像表示部13のディスプレイに表示される。そして、ウェハ12aの周縁部12aaの範囲を作業者が見ながら、「ABC」と記載された識別マークである識別記号12axを探す(図13、図16、図17)。ここで、ウェハ画像表示部13で観察可能なウェハの周縁部12aaの領域は、ウェハ中心部から扇を描いた形の扇の角度である23度程度の領域13aに相当する(図18)。したがって、ウェハ12aを、ウェハのOF部の方向を合わせた位置を基準として回転させて、23度毎にウェハ12a周縁部に設けられた識別記号12axを探す必要がある。   Next, on the basis of an instruction signal from the wafer rotation operation unit on the operation panel 15, the support column connected to the wafer table 5 is rotated by the motor M located below the support column. As a result, the wafer 12a rotates, and the image displayed on the peripheral area 13a of the wafer 12a using the camera 7 is processed by the image processing unit and displayed on the display of the wafer image display unit 13. . Then, while looking at the range of the peripheral edge 12aa of the wafer 12a, the operator searches for the identification symbol 12ax that is an identification mark described as “ABC” (FIGS. 13, 16, and 17). Here, the region of the peripheral edge portion 12aa of the wafer that can be observed by the wafer image display unit 13 corresponds to a region 13a of about 23 degrees that is an angle of a fan drawn from the center of the wafer (FIG. 18). Therefore, it is necessary to rotate the wafer 12a with reference to the position where the direction of the OF portion of the wafer is aligned, and search for the identification symbol 12ax provided on the peripheral portion of the wafer 12a every 23 degrees.

次に、識別記号12axを作業者が発見し、判読した後、作業者は、操作パネル15を用いて、ウェハ12aの収納先のキャリアを4cと入力指定する。上述した収納先の指定に基づいて、フォーク操作部によって、ウェハ12aを乗せたフォーク部が右45度回転し、キャリア4cの前に移動し(図14)、ウェハ12aをキャリア4cに収納する(図15)。   Next, after the operator finds and interprets the identification symbol 12ax, the operator uses the operation panel 15 to input and specify 4c as the carrier for storing the wafer 12a. Based on the specification of the storage location described above, the fork operation unit rotates the fork portion on which the wafer 12a is placed 45 degrees to the right and moves to the front of the carrier 4c (FIG. 14), and stores the wafer 12a in the carrier 4c ( FIG. 15).

以上の動作によって、元のキャリア4aから1枚のウェハ12aが、別のキャリア4cに分割、収納される。以降、キャリア4aに残ったウェハも、同様な方法にて、キャリア4bまたは4cに分割、収納される。   Through the above operation, one wafer 12a from the original carrier 4a is divided and stored in another carrier 4c. Thereafter, the wafer remaining on the carrier 4a is also divided and stored in the carrier 4b or 4c by the same method.

特開昭61−187246号公報Japanese Patent Laid-Open No. 61-187246

しかしながら、ウェハ周縁部にマークされる識別記号の位置は、フォトリソグラフィ工程のショットマップにおけるショットが配置されていないウェハの領域である。そのため、従来技術に係るウェハ移載装置1の操作においては、ウェハの識別記号を探すためにウェハをカメラの下まで移動させる作業、ウェハのOF方向を合わせるためにウェハを回転・停止させ、ウェハの停止位置(方向)を基準として一定角度ごとに回転させる作業、識別記号を探し読み取る作業といった3段階の作業が必要であるという課題を有していた。   However, the position of the identification symbol marked on the peripheral edge of the wafer is an area of the wafer where no shot is arranged in the shot map of the photolithography process. Therefore, in the operation of the wafer transfer apparatus 1 according to the prior art, the wafer is moved to the bottom of the camera in order to search for the wafer identification symbol, and the wafer is rotated / stopped in order to match the OF direction of the wafer. There is a problem that a three-stage operation is required, such as an operation of rotating at a fixed angle with respect to the stop position (direction) of the image, and an operation of searching for and reading the identification symbol.

本発明によれば、
ウェハの画像を撮像する撮像部と、
前記画像をユーザに提示する画像表示部と、
前記ユーザから指示を受け付け、該指示に基づいてウェハの移載位置を決定する移載位置決定部と、
決定された前記移載位置に前記ウェハを移動させる操作部と、
を備え、
前記撮像部は、該撮像部の視野領域内に固定された前記ウェハの一方の面の全体の画像を撮像することを特徴とするウェハ移載装置
が提供される。
According to the present invention,
An imaging unit for imaging an image of the wafer;
An image display unit for presenting the image to a user;
A transfer position determination unit that receives an instruction from the user and determines a transfer position of the wafer based on the instruction;
An operation unit for moving the wafer to the determined transfer position;
With
A wafer transfer apparatus is provided in which the imaging unit captures an entire image of one surface of the wafer fixed in a visual field region of the imaging unit.

この発明によれば、ウェハ移載装置に備えられる撮像部はウェハの一方の面の全体の画像を撮像し、画像表示部は、画像をユーザに提示する。また、ユーザからの指示に基づいて、移載位置決定部はウェハの移載位置を決定し、操作部は決定された移載位置にウェハを移動させる。そのため、ウェハを回転させる作業を要することなく、画像表示部に表示された画像を用いてウェハを移動させることが可能な、作業効率が向上されたウェハ移載装置を提供することができる。   According to this invention, the imaging unit provided in the wafer transfer device captures an image of the entire one surface of the wafer, and the image display unit presents the image to the user. Further, based on an instruction from the user, the transfer position determining unit determines a wafer transfer position, and the operation unit moves the wafer to the determined transfer position. Therefore, it is possible to provide a wafer transfer apparatus with improved work efficiency that can move the wafer using the image displayed on the image display unit without requiring the work of rotating the wafer.

本発明によれば、作業効率が向上されたウェハ移載装置が提供される。   According to the present invention, a wafer transfer apparatus with improved work efficiency is provided.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.

図1、図2および図5を用いて本実施形態に係るウェハ移載装置100の構成を説明する。   A configuration of the wafer transfer apparatus 100 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 5.

図1に示すウェハ移載装置100は、ウェハ120a(図5)の画像を撮像する撮像部であるカメラ116と、画像をユーザである作業者に提示する画像表示部であるウェハ画像表示部118と、作業者から指示を受け付け、その指示に基づいてウェハ120a(図5)の移載位置であるキャリア104b〜キャリア104cを決定する移載位置決定部164(図2)と、決定された移載位置にウェハ120a(図5)を移動させるフォーク操作部156(図2)と、を備え、カメラ116は、カメラ116の視野領域である視野位置121(図5)内に固定されたウェハ120a(図5)の一方の面の全体の画像を撮像し、ウェハ画像表示部118は、目視により画像が識別されるように拡大して表示する。   A wafer transfer apparatus 100 shown in FIG. 1 includes a camera 116 that is an imaging unit that captures an image of a wafer 120a (FIG. 5), and a wafer image display unit 118 that is an image display unit that presents an image to an operator who is a user. The transfer position determination unit 164 (FIG. 2) that receives instructions from the operator and determines the carriers 104b to 104c that are transfer positions of the wafer 120a (FIG. 5) based on the instructions, and the determined transfer A fork operation unit 156 (FIG. 2) for moving the wafer 120a (FIG. 5) to the mounting position, and the camera 116 is fixed in the field of view position 121 (FIG. 5) which is the field of view of the camera 116. The entire image of one surface of FIG. 5 is taken, and the wafer image display unit 118 enlarges and displays the image so that the image can be visually identified.

また、図9に示す移載位置決定部164は、ユーザである作業者から、ウェハの画像を再度撮像する要求を受け付ける受付部である指示受付部115と、要求に対応して、撮像部であるカメラ116に対し、カメラ116の視野および撮像位置の少なくとも一方を変更してウェハ120aの拡大画像を撮像することを求める撮像要求部166と、拡大画像に基づいてウェハ120aの移載位置を決定する決定部154とを含む。   Further, the transfer position determination unit 164 shown in FIG. 9 includes an instruction reception unit 115 that is a reception unit that receives a request to re-image a wafer image from an operator who is a user, and an imaging unit corresponding to the request. An imaging requesting unit 166 that requests a certain camera 116 to capture an enlarged image of the wafer 120a by changing at least one of the field of view and the imaging position of the camera 116, and a transfer position of the wafer 120a is determined based on the enlarged image. And a determination unit 154.

図1に示すように、ウェハ移載装置100において、複数のウェハ112(図4)を移載させる機能を有する動作部102は、キャリア104a〜104cをセットする機能を有するキャリア載置部103a、103b、103cを有する。   As shown in FIG. 1, in the wafer transfer apparatus 100, the operation unit 102 having a function of transferring a plurality of wafers 112 (FIG. 4) includes a carrier mounting unit 103a having a function of setting carriers 104a to 104c, 103b and 103c.

また、動作部102は、後述するウェハ120aの周縁部を含む全体を撮影する機能を有するカメラ116と、カメラ116を支持する機能を有するアーム117とを有する。   The operation unit 102 includes a camera 116 having a function of photographing the whole including a peripheral part of a wafer 120a described later, and an arm 117 having a function of supporting the camera 116.

さらに、動作部102は、ウェハ120aを支持する機能を有するフォーク109aおよびフォーク109bと、フォーク109aとフォーク109bとを連結する機能を有するアーム110と、フォーク109aとフォーク109bとを上昇、下降、回転、平行移動させる機能を有するフォーク駆動部111とを有する。   Further, the operating unit 102 raises, lowers, and rotates the fork 109a and the fork 109b having a function of supporting the wafer 120a, the arm 110 having a function of connecting the fork 109a and the fork 109b, and the fork 109a and the fork 109b. And a fork drive unit 111 having a function of translating.

さらにまた、動作部102は、カメラ116で撮影したウェハ120aの全体の画像を表示する機能を有するウェハ画像表示部118と、ウェハ画像表示部118を支持する機能を有する支持部119と、ウェハ移載装置100から作業者に対して作業を指示する機能を有する作業指示表示部114と、ウェハ移載装置100を操作するための指示受付部である操作パネル115とを有する。カメラ116は、フォーク駆動部111の中央部の上方に位置する。   Furthermore, the operation unit 102 includes a wafer image display unit 118 having a function of displaying an entire image of the wafer 120a taken by the camera 116, a support unit 119 having a function of supporting the wafer image display unit 118, and a wafer transfer. A work instruction display unit 114 having a function of instructing a worker from the mounting apparatus 100 and an operation panel 115 serving as an instruction receiving unit for operating the wafer transfer apparatus 100 are provided. The camera 116 is located above the central portion of the fork drive unit 111.

本実施形態においては、説明の簡略化のためキャリア載置部が3つ設けられた形態について説明するが、キャリア載置部が4つ以上設けられていてもよいし、2つであってもよい。   In the present embodiment, a description will be given of a configuration in which three carrier mounting portions are provided for the sake of simplification. However, four or more carrier mounting portions may be provided, or two carrier mounting portions may be provided. Good.

次に、図2〜図8を用いて、本実施形態に係るウェハ移載装置100の動作を説明する。   Next, operation | movement of the wafer transfer apparatus 100 which concerns on this embodiment is demonstrated using FIGS.

複数のウェハ112が収納されたキャリア104aがキャリア載置部103aにセットされ、空のキャリア104bおよびキャリア104cが、それぞれキャリア載置部103b、103cにセットされる。複数のウェハ112を、収納されたキャリア104aから、空のキャリア104bまたはキャリア104cに分割して収納する場合、まず、フォーク109aをキャリア104a内に収納されたウェハ112の間に挿入する。次に、上部のウェハ120aをフォーク109aに乗せて、キャリア104aから外に出し、ウェハ120aをカメラ116の視野位置121に移動させる(図2、図4、図5)。   A carrier 104a storing a plurality of wafers 112 is set on the carrier mounting portion 103a, and empty carriers 104b and 104c are set on the carrier mounting portions 103b and 103c, respectively. When the plurality of wafers 112 are divided and stored into the empty carrier 104b or the carrier 104c from the stored carrier 104a, first, the fork 109a is inserted between the wafers 112 stored in the carrier 104a. Next, the upper wafer 120a is put on the fork 109a and taken out from the carrier 104a, and the wafer 120a is moved to the visual field position 121 of the camera 116 (FIGS. 2, 4, and 5).

図2は、ウェハ移載装置100の動作のフローを説明するための図であり、図3は、ウェハ移載装置100の動作のフローチャートを示す図である。図2および図3に示すように、撮像部であるカメラ116は、ウェハ120aのカメラ側の面の全体の画像を一度に撮像し(ステップS10)、メモリ150に保存する(ステップS20)。また、カメラ116は、ウェハ画像表示部118に対して、ウェハ120aの画像をメモリ150に保存した旨の情報を供給する(ステップS30)。次に、ウェハ画像表示部118は、メモリ150に保存された画像を読み込み、画像処理部158によって画像処理が施された後、ディスプレイ160に画像情報を表示する(ステップS40)。   FIG. 2 is a diagram for explaining an operation flow of the wafer transfer apparatus 100, and FIG. 3 is a flowchart illustrating an operation of the wafer transfer apparatus 100. As shown in FIGS. 2 and 3, the camera 116 as an imaging unit captures the entire image of the surface of the wafer 120a on the camera side at one time (step S10) and stores it in the memory 150 (step S20). Further, the camera 116 supplies information indicating that the image of the wafer 120a is stored in the memory 150 to the wafer image display unit 118 (step S30). Next, the wafer image display unit 118 reads an image stored in the memory 150 and performs image processing by the image processing unit 158, and then displays image information on the display 160 (step S40).

このとき、ウェハ画像表示部118のディスプレイ160に、ウェハ120aの周縁部を含むウェハ120a全体が、実物の1.5倍程度の拡大倍率で表示される(図5、図8)。なお、図8は、図5のディスプレイ160の拡大図である。拡大倍率は、ウェハ実物の大きさ、識別記号の寸法、ウェハ画像表示部118のディスプレイ160の大きさにより任意に変更可能であり、ユーザである作業者が識別記号を判読できる程度の大きさに拡大されていればよい。   At this time, the entire wafer 120a including the peripheral portion of the wafer 120a is displayed on the display 160 of the wafer image display unit 118 at an enlargement magnification of about 1.5 times the actual size (FIGS. 5 and 8). FIG. 8 is an enlarged view of the display 160 of FIG. The enlargement magnification can be arbitrarily changed according to the size of the actual wafer, the size of the identification symbol, and the size of the display 160 of the wafer image display unit 118, and is large enough to allow the operator as a user to read the identification symbol. It only needs to be enlarged.

ついで、作業者は、ウェハ画像表示部118のディスプレイ160に表示されたウェハ120aの周縁部を見て、「DEF」と記載された識別マークである識別記号120axを判読する(ステップS50)。識別記号は、実寸法より1.5倍程度拡大してディスプレイ160に表示されるので、作業者は、ウェハ画像表示部118のディスプレイ160に拡大表示された識別記号120axを容易に判読することができる(図2、図3、図8)。   Next, the operator looks at the peripheral edge of the wafer 120a displayed on the display 160 of the wafer image display unit 118 and reads the identification symbol 120ax, which is an identification mark described as “DEF” (step S50). Since the identification symbol is enlarged about 1.5 times the actual size and displayed on the display 160, the operator can easily read the identification symbol 120ax displayed enlarged on the display 160 of the wafer image display unit 118. (FIGS. 2, 3 and 8).

ここで、識別記号120axの位置が、ウェハ画像表示部118のディスプレイ160内において、ウェハ120aの上部や左右の位置にくる場合には、図8中、識別記号120axの向きが上下逆になったり、横になったりして判読しづらいこともある。このような場合には、画像処理部158によって、ウェハ120aの画像に画像処理が施される。こうすることにより、ウェハ120aの画像の表示が所望の角度だけ回転させられ、識別記号120axが、図8中、ウェハ画像表示部118のディスプレイ160の下部に移動される。このように、画像処理を施すことによって、ディスプレイ160内において識別記号120axの向きを修正して、正しい記号表示をさせることで、作業者による判読を容易に行うことができる。   Here, when the position of the identification symbol 120ax is in the upper part of the wafer 120a or the left and right positions in the display 160 of the wafer image display unit 118, the direction of the identification symbol 120ax is upside down in FIG. Sometimes it is difficult to read because of lying down. In such a case, the image processing unit 158 performs image processing on the image of the wafer 120a. By doing this, the display of the image of the wafer 120a is rotated by a desired angle, and the identification symbol 120ax is moved to the lower part of the display 160 of the wafer image display unit 118 in FIG. As described above, by performing image processing, the orientation of the identification symbol 120ax is corrected in the display 160 so that the correct symbol is displayed, so that the operator can easily read.

続いて、作業者は、識別記号120axを判読した後、指示受付部である操作パネル115にウェハ120aの収納先のキャリアを104cと指示する(ステップS60)。次に、指示受付部が受け付けた指示に基づいて、決定部154は、操作部であるフォーク操作部156を制御し、駆動部162の動作により、ウェハ120aを乗せたフォークを右向きに90度回転させ、キャリア104cの前に移動させる(図2、図3(ステップS70、ステップS80)、図5、図6)。次に、ウェハ120aがキャリア104cに収納される(図7)。ここで、指示受付部である操作パネル115と決定部154は、移載位置決定部164を構成する。   Subsequently, after reading the identification symbol 120ax, the operator instructs the operation panel 115, which is an instruction receiving unit, to designate the carrier for storing the wafer 120a as 104c (step S60). Next, based on the instruction received by the instruction receiving unit, the determination unit 154 controls the fork operation unit 156 as an operation unit, and rotates the fork on which the wafer 120a is placed by 90 degrees to the right by the operation of the driving unit 162. And moved in front of the carrier 104c (FIGS. 2 and 3 (steps S70 and S80), FIGS. 5 and 6). Next, the wafer 120a is stored in the carrier 104c (FIG. 7). Here, the operation panel 115 and the determination unit 154 which are instruction reception units constitute a transfer position determination unit 164.

以上の動作により、はじめにキャリア104aに収納されていた1枚のウェハ120aが、別のキャリア104cに分割、収納される。以降、キャリア104aに残ったウェハも、同様な方法にて、キャリア104bまたは104cに分割、収納される。   Through the above operation, one wafer 120a initially stored in the carrier 104a is divided and stored in another carrier 104c. Thereafter, the wafer remaining on the carrier 104a is also divided and stored in the carrier 104b or 104c by the same method.

以下、ウェハ移載装置100の効果について説明する。   Hereinafter, effects of the wafer transfer apparatus 100 will be described.

従来技術に係るウェハ移載装置1においては、ウェハ12aの識別記号12axを探すために、ウェハ12aを、フォーク駆動部11の中央からカメラ7の下まで移動させていた。一方、本実施形態に係るウェハ移載装置100においては、カメラ116がフォーク駆動部111の中央上部に配置されているため、従来のウェハ移載装置1においては必要であったウェハ120aのフォーク駆動部111の中央部から従来技術に係るウェハ移載装置のカメラ7に相当する位置までの往復移動が不要となった。   In the wafer transfer apparatus 1 according to the prior art, the wafer 12a is moved from the center of the fork drive unit 11 to below the camera 7 in order to search for the identification symbol 12ax of the wafer 12a. On the other hand, in the wafer transfer apparatus 100 according to the present embodiment, since the camera 116 is disposed at the upper center of the fork drive unit 111, the fork drive of the wafer 120a that is necessary in the conventional wafer transfer apparatus 1 is performed. The reciprocating movement from the central part of the part 111 to the position corresponding to the camera 7 of the wafer transfer device according to the prior art is no longer necessary.

また、従来技術に係るウェハ移載装置1においては、ウェハ12aの方向を合わせるために、ウェハ12aを回転させていたが、ウェハ移載装置100においては、ウェハ120aを回転させていない。また、識別記号120axの向きが上下逆になる場合や左右方向に傾いていて、作業者が判読しにくい場合には、画像処理部158により画像処理が施されることによってウェハ画像表示部118のディスプレイ160における識別記号120axの向きを整えることができる。そのため、ウェハ120aの位置合わせが不要となった。   In the wafer transfer apparatus 1 according to the prior art, the wafer 12a is rotated in order to align the direction of the wafer 12a. However, in the wafer transfer apparatus 100, the wafer 120a is not rotated. In addition, when the orientation of the identification symbol 120ax is upside down or tilted in the left-right direction and is difficult for an operator to read, the image processing unit 158 performs image processing to thereby enable the wafer image display unit 118 to The direction of the identification symbol 120ax on the display 160 can be adjusted. Therefore, alignment of the wafer 120a is not necessary.

さらに、従来技術に係るウェハ移載装置1においては、ウェハ周縁部にマークされた識別記号12axがカメラ7の視野に入るように、ウェハ12aの方向を合わせた位置(方向)を基準として23度毎に回転させていた。また、この回転の基準点を決めるために斜光センサ部6を設ける必要があった。一方、ウェハ移載装置100においては、回転させることなく、ウェハ周縁部を含むウェハの全体がウェハ画像表示部118のディスプレイ160に表示される。そのため、ウェハ120aを回転させる作業が不要となった。また、回転させる作業が不要になったことによって、回転の基準点を決める必要がなくなり、ウェハ移載装置100に斜光センサ部を設ける必要がなくなった。   Further, in the wafer transfer apparatus 1 according to the conventional technique, the position (direction) in which the direction of the wafer 12a is aligned is set to 23 degrees so that the identification symbol 12ax marked on the peripheral edge of the wafer enters the field of view of the camera 7. It was rotating every time. In addition, it is necessary to provide the oblique light sensor unit 6 in order to determine the reference point for this rotation. On the other hand, in the wafer transfer apparatus 100, the entire wafer including the wafer peripheral portion is displayed on the display 160 of the wafer image display unit 118 without being rotated. This eliminates the need to rotate the wafer 120a. Further, since the rotating operation is not necessary, it is not necessary to determine the reference point of rotation, and it is not necessary to provide the oblique light sensor unit in the wafer transfer device 100.

以上に述べたように、ウェハ移載装置100においては、従来技術において必要であった、ウェハ周縁部にマークされた識別記号を判読するための、フォーク駆動部111の中央部から従来技術に係るウェハ移載装置のカメラ7に相当する位置までのウェハの往復移動、ウェハ回転および識別記号の方向整合といった動作が不要となった。上述した動作が不要となったことによって、従来の技術と比較して、ウェハ移載作業時間を、たとえば、40%程度、短縮することが可能となった。   As described above, in the wafer transfer apparatus 100, the conventional technique is used from the center of the fork drive unit 111 for reading the identification symbol marked on the peripheral edge of the wafer, which is necessary in the prior art. Operations such as reciprocal movement of the wafer to a position corresponding to the camera 7 of the wafer transfer device, wafer rotation, and direction alignment of the identification symbols are no longer necessary. Since the operation described above is no longer necessary, the wafer transfer operation time can be shortened by, for example, about 40% compared to the conventional technique.

以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described with reference to drawings, these are the illustrations of this invention, Various structures other than the above are also employable.

たとえば、上記実施形態においては、ウェハ周縁部にマークされた識別記号を判読してウェハを移動させる形態について説明したが、ウェハの中央部近傍などウェハ周縁部以外の位置に識別記号が設けられていてもよい。また、識別記号以外のウェハの画像情報を判読してウェハを移動させてもよい。   For example, in the above-described embodiment, the identification symbol marked on the wafer peripheral portion is read and the wafer is moved. However, the identification symbol is provided at a position other than the wafer peripheral portion such as near the center of the wafer. May be. Further, the wafer image information other than the identification symbol may be read to move the wafer.

また、上記実施形態においては、作業者が識別記号120axを判読して、指示受付部にウェハを移動させる旨の指示をする形態について説明したが、図9および図10に示すように、ユーザである作業者がウェハ画像表示部118に表示されたウェハ120aの画像を見て、ウェハ120a内の識別記号120axの大まかな位置を探し、最終的な識別記号120axの判読を決定部154に行わせてもよい。図9は、他の実施形態におけるウェハ移載装置100の動作のフローを説明するための図であり、図10は、他の実施形態におけるウェハ移載装置100の動作のフローチャートを示す図である。図9および図10に示すように、まず、ウェハ画像表示部118に表示されたウェハ120axの画像を見たユーザは指示受付部(操作パネル)115にウェハ120aの画像を再度撮像する要求を出す(ステップS61)。次に、指示受付部(操作パネル)115は撮像要求部166に対し、上記の要求を送出する(ステップS71)。ついで、撮像要求部166は、上記要求に対応して、撮像部であるカメラ116に対し、カメラ116の視野および撮像位置の少なくとも一方を変更してウェハ120aの拡大画像を撮像することを要求する(ステップS72)。続いて、カメラ(撮像部)116は、上記要求に応じて、ウェハ120aの拡大画像を撮像し、決定部154に拡大画像を読み取らせ、決定部154は識別記号を判読する(ステップS73)。次に、決定部154は、識別記号の判読結果に基づいて、操作部156を操作して、ウェハを移動させる(ステップS80)。   In the above embodiment, the description has been given of the mode in which the operator reads the identification symbol 120ax and instructs the instruction receiving unit to move the wafer. However, as shown in FIGS. A certain worker looks at the image of the wafer 120a displayed on the wafer image display unit 118, searches for a rough position of the identification symbol 120ax in the wafer 120a, and causes the determination unit 154 to interpret the final identification symbol 120ax. May be. FIG. 9 is a diagram for explaining an operation flow of the wafer transfer apparatus 100 according to another embodiment, and FIG. 10 is a diagram illustrating a flowchart of an operation of the wafer transfer apparatus 100 according to another embodiment. . As shown in FIGS. 9 and 10, first, the user who has seen the image of the wafer 120ax displayed on the wafer image display unit 118 issues a request to the instruction receiving unit (operation panel) 115 to capture the image of the wafer 120a again. (Step S61). Next, the instruction receiving unit (operation panel) 115 sends the above request to the imaging request unit 166 (step S71). Next, in response to the above request, the imaging request unit 166 requests the camera 116 serving as the imaging unit to capture an enlarged image of the wafer 120a by changing at least one of the field of view and the imaging position of the camera 116. (Step S72). Subsequently, in response to the request, the camera (imaging unit) 116 captures an enlarged image of the wafer 120a, causes the determining unit 154 to read the enlarged image, and the determining unit 154 reads the identification symbol (step S73). Next, the determination unit 154 operates the operation unit 156 based on the interpretation result of the identification symbol to move the wafer (step S80).

また、上記実施形態においては、識別記号120axが、実寸法より1.5倍程度拡大して、目視により画像が識別されるように表示される形態について説明したが、目視により画像が識別されない程度に識別記号120axが表示されていてもよい。また、実寸法より1.5倍程度以外の拡大倍率で、ユーザや決定部154などが判読可能な大きさに識別記号が拡大されていてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the identification symbol 120ax expanded about 1.5 times from an actual dimension, and demonstrated the form displayed so that an image might be identified visually, the image is not identified visually. The identification symbol 120ax may be displayed. In addition, the identification symbol may be enlarged to a size that can be read by the user, the determination unit 154, or the like at an enlargement factor other than about 1.5 times the actual size.

実施の形態に係るウェハ移載装置を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the wafer transfer apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るウェハ移載装置の構造を模式的に示したブロック図である。It is the block diagram which showed typically the structure of the wafer transfer apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るウェハ移載装置の動作フローを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation | movement flow of the wafer transfer apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るウェハ移載装置の動作を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically operation | movement of the wafer transfer apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るウェハ撮影部を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the wafer imaging | photography part which concerns on embodiment. 実施の形態に係るウェハ移載装置の動作を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically operation | movement of the wafer transfer apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るウェハ移載装置の動作を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically operation | movement of the wafer transfer apparatus which concerns on embodiment. 実施の形態に係るウェハ画像表示部を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the wafer image display part which concerns on embodiment. 他の実施の形態に係るウェハ移載装置の構造を模式的に示したブロック図である。It is the block diagram which showed typically the structure of the wafer transfer apparatus which concerns on other embodiment. 他の実施の形態に係るウェハ移載装置の動作フローを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the operation | movement flow of the wafer transfer apparatus which concerns on other embodiment. 従来の技術に係るウェハ移載装置を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the wafer transfer apparatus which concerns on the prior art. 従来の技術に係るウェハ移載装置の動作を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically operation | movement of the wafer transfer apparatus which concerns on the prior art. 従来の技術に係るウェハ移載装置の動作を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically operation | movement of the wafer transfer apparatus which concerns on the prior art. 従来の技術に係るウェハ移載装置の動作を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically operation | movement of the wafer transfer apparatus which concerns on the prior art. 従来の技術に係るウェハ移載装置の動作を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically operation | movement of the wafer transfer apparatus which concerns on the prior art. 従来の技術に係るウェハ撮影部を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the wafer imaging | photography part which concerns on the prior art. 従来の技術に係るウェハ画像表示部を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the wafer image display part which concerns on the prior art. 従来の技術に係るウェハを模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically the wafer which concerns on a prior art.

符号の説明Explanation of symbols

100 ウェハ移載装置
102 動作部
103a キャリア載置部
103b キャリア載置部
103c キャリア載置部
104a キャリア
104b キャリア
104c キャリア
109a フォーク
109b フォーク
110 アーム
111 フォーク駆動部
112 ウェハ
114 作業指示表示部
115 操作パネル
116 カメラ
117 アーム
118 ウェハ画像表示部
119 支持部
120a ウェハ
120ax 識別記号
121 視野位置
150 メモリ
154 決定部
156 フォーク操作部
158 画像処理部
160 ディスプレイ
162 駆動部
164 移載位置決定部
166 撮像要求部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Wafer transfer apparatus 102 Operation | movement part 103a Carrier mounting part 103b Carrier mounting part 103c Carrier mounting part 104a Carrier 104b Carrier 104c Carrier 109a Fork 109b Fork 110 Arm 111 Fork drive part 112 Wafer 114 Work instruction display part 115 Operation panel 116 Camera 117 Arm 118 Wafer image display unit 119 Support unit 120a Wafer 120ax Identification symbol 121 View position 150 Memory 154 Determination unit 156 Fork operation unit 158 Image processing unit 160 Display 162 Drive unit 164 Transfer position determination unit 166 Imaging request unit

Claims (6)

ウェハの画像を撮像する撮像部と、
前記画像をユーザに提示する画像表示部と、
前記ユーザから指示を受け付け、該指示に基づいてウェハの移載位置を決定する移載位置決定部と、
決定された前記移載位置に前記ウェハを移動させる操作部と、
を備え、
前記撮像部は、該撮像部の視野領域内に固定された前記ウェハの一方の面の全体の画像を撮像することを特徴とするウェハ移載装置。
An imaging unit for imaging an image of the wafer;
An image display unit for presenting the image to a user;
A transfer position determination unit that receives an instruction from the user and determines a transfer position of the wafer based on the instruction;
An operation unit for moving the wafer to the determined transfer position;
With
The wafer transfer apparatus, wherein the imaging unit captures an entire image of one surface of the wafer fixed in a visual field region of the imaging unit.
請求項1に記載のウェハ移載装置において、
前記画像表示部は、目視により画像が識別されるように拡大して表示することを特徴とするウェハ移載装置。
The wafer transfer apparatus according to claim 1,
The wafer transfer apparatus, wherein the image display unit displays an enlarged image so that an image can be identified visually.
請求項1または2に記載のウェハ移載装置において、
前記移載位置決定部は、前記ユーザから、前記ウェハの移載位置について指示を受け付けることを特徴とするウェハ移載装置。
In the wafer transfer apparatus according to claim 1 or 2,
The wafer transfer apparatus, wherein the transfer position determination unit receives an instruction from the user regarding the transfer position of the wafer.
請求項1または2に記載のウェハ移載装置において、
前記移載位置決定部は、
前記ユーザから、画像を再度撮像する要求を受け付ける受付部と、
前記要求に対応して、前記撮像部に対し、前記撮像部の視野および撮像位置の少なくとも一方を変更して前記ウェハの拡大画像を撮像することを求める撮像要求部と、
前記拡大画像に基づいて前記ウェハの移載位置を決定する決定部と、
を含むことを特徴とするウェハ移載装置。
In the wafer transfer apparatus according to claim 1 or 2,
The transfer position determination unit
An accepting unit that accepts a request to take an image again from the user;
In response to the request, an imaging requesting unit that requests the imaging unit to capture an enlarged image of the wafer by changing at least one of a field of view and an imaging position of the imaging unit;
A determination unit for determining a transfer position of the wafer based on the enlarged image;
A wafer transfer apparatus comprising:
請求項1乃至4いずれかに記載のウェハ移載装置において、
前記ウェハに識別マークが設けられていることを特徴とするウェハ移載装置。
In the wafer transfer device according to any one of claims 1 to 4,
A wafer transfer apparatus, wherein an identification mark is provided on the wafer.
請求項5に記載のウェハ移載装置において、
前記識別マークが前記ウェハの周縁部に設けられることを特徴とするウェハ移載装置。
The wafer transfer apparatus according to claim 5,
The wafer transfer apparatus, wherein the identification mark is provided on a peripheral portion of the wafer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018054464A (en) * 2016-09-29 2018-04-05 セイコーエプソン株式会社 Electronic component conveyance device and electronic component inspection device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014154565A (en) * 2013-02-04 2014-08-25 Epicrew Inc Image pickup device, semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing method
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