JP2006147724A - 静電チャック及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 上面部にブラスト加工によって凹凸を形成された基材101と、基材101中に埋設された金属からなる電極102と、電極102と外部電源105とを接続する端子104とを備える静電チャック。
【選択図】 図1
Description
図2に示す手順で静電チャックを製造した。砥粒は、600メッシュのSic砥粒を使用し、0.45MPaの圧縮空気を用いて基材の上面に吹きつけた。
砥粒は、600メッシュのホワイトアルミナ砥粒を使用し、0.45MPaの圧縮空気を用いて基材の上面に吹きつけた。使用した装置等は、以下のとおりである。
型番:BSR‐4060L
サンドブラストした時間:1時間〜1.5時間
ブラスト加工後に、図3に示す各測定位置のエンボス高さを測定し、結果を表1に示す。表1に示すように、実施例1の標準偏差は0.79、実施例2の標準偏差は0.45と、いずれも小さい。つまり、エンボス高さのバラツキが小さい。
101…基材
102…電極
104…端子
105…直流電極
Claims (6)
- 上面部にブラスト加工によって凹凸を形成された基材と、
前記基材中に埋設された金属からなる電極と、
前記電極と外部電源とを接続する端子とを備える静電チャック。 - 前記基材の前記上面部をアルミナ砥粒を使用してブラスト加工した請求項1記載の静電チャック。
- 前記アルミナ砥粒がホワイトアルミナ砥粒である請求項2記載の静電チャック。
- 基材原料を調整し、前記基材原料を粉末仮焼し、電極を埋設して基材を成形し、前記基材を焼結した後、前記電極に端子を設置し及び前記基材の上面にブラスト加工によって凹凸を形成する静電チャック製造方法。
- アルミナ砥粒を使用して前記ブラスト加工を行う請求項4記載の静電チャック製造方法。
- 前記アルミナ砥粒がホワイトアルミナ砥粒である請求項5記載の静電チャック製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220006617A (ko) | 2019-06-28 | 2022-01-17 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 웨이퍼 배치대 및 그 제법 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09199574A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-07-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | セラミックス製ウエハ保持台及びその製造方法 |
JPH1070294A (ja) * | 1996-08-28 | 1998-03-10 | Sharp Corp | 太陽電池用基板およびその製造方法 |
JP2001196428A (ja) * | 1999-10-28 | 2001-07-19 | Ibiden Co Ltd | ウエハプローバおよびウエハプローバに使用されるセラミック基板 |
JP2001274227A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Hitachi Chem Co Ltd | ウェーハ保持用セラミック部材の製造法 |
JP2001521199A (ja) * | 1997-10-24 | 2001-11-06 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 拡散光抽出による光導波管 |
JP2002151580A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-24 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | ウエハー保持具の製造方法及びウエハー保持具 |
JP2003212598A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-07-30 | Tosoh Corp | 石英ガラス部品及びセラミック部品並びにそれらの製造方法 |
JP2003236757A (ja) * | 2002-02-19 | 2003-08-26 | Murata Mfg Co Ltd | ブラスト加工装置 |
JP2003264051A (ja) * | 1999-08-09 | 2003-09-19 | Ibiden Co Ltd | セラミックヒータ |
JP2004034537A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-05 | Canon Chemicals Inc | トナー搬送ローラ成形型およびその製造方法 |
JP2004179557A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Kyocera Corp | 静電チャック及びその製造方法 |
JP2004199964A (ja) * | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Polymatech Co Ltd | 照光式キーパッド |
JP2004273736A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Ngk Insulators Ltd | 接合部材及び静電チャック |
-
2004
- 2004-11-17 JP JP2004333644A patent/JP2006147724A/ja active Pending
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09199574A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-07-31 | Sumitomo Metal Ind Ltd | セラミックス製ウエハ保持台及びその製造方法 |
JPH1070294A (ja) * | 1996-08-28 | 1998-03-10 | Sharp Corp | 太陽電池用基板およびその製造方法 |
JP2001521199A (ja) * | 1997-10-24 | 2001-11-06 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | 拡散光抽出による光導波管 |
JP2003264051A (ja) * | 1999-08-09 | 2003-09-19 | Ibiden Co Ltd | セラミックヒータ |
JP2001196428A (ja) * | 1999-10-28 | 2001-07-19 | Ibiden Co Ltd | ウエハプローバおよびウエハプローバに使用されるセラミック基板 |
JP2001274227A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Hitachi Chem Co Ltd | ウェーハ保持用セラミック部材の製造法 |
JP2002151580A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-24 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | ウエハー保持具の製造方法及びウエハー保持具 |
JP2003212598A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-07-30 | Tosoh Corp | 石英ガラス部品及びセラミック部品並びにそれらの製造方法 |
JP2003236757A (ja) * | 2002-02-19 | 2003-08-26 | Murata Mfg Co Ltd | ブラスト加工装置 |
JP2004034537A (ja) * | 2002-07-04 | 2004-02-05 | Canon Chemicals Inc | トナー搬送ローラ成形型およびその製造方法 |
JP2004179557A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Kyocera Corp | 静電チャック及びその製造方法 |
JP2004199964A (ja) * | 2002-12-17 | 2004-07-15 | Polymatech Co Ltd | 照光式キーパッド |
JP2004273736A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Ngk Insulators Ltd | 接合部材及び静電チャック |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220006617A (ko) | 2019-06-28 | 2022-01-17 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 웨이퍼 배치대 및 그 제법 |
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