JP2006140331A - 固体撮像素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 オーバーフロードレイン用のエピタキシャル層を深い位置に形成し、リーク電流を防止しつつ、光電変換部の感度向上を図る。
【解決手段】 半導体ウエハのN型基板上にP型エピタキシャル層を形成し、このウエハのダイジングラインの内側領域にトレンチ溝を環状に形成し、トレンチ溝の内面をシリコン酸化膜で覆い、その上に導電性多結晶シリコンを形成する。そして、トレンチ溝に形成した多結晶シリコン膜に正の電圧を印加することで、トレンチ溝の内壁部分のP型エピタキシャル層をN型に反転し、内部領域のP型エピタキシャル層に対してトレンチ溝の周辺部分が等価的にチャネルストップとして機能するようにした。
【選択図】図1
【解決手段】 半導体ウエハのN型基板上にP型エピタキシャル層を形成し、このウエハのダイジングラインの内側領域にトレンチ溝を環状に形成し、トレンチ溝の内面をシリコン酸化膜で覆い、その上に導電性多結晶シリコンを形成する。そして、トレンチ溝に形成した多結晶シリコン膜に正の電圧を印加することで、トレンチ溝の内壁部分のP型エピタキシャル層をN型に反転し、内部領域のP型エピタキシャル層に対してトレンチ溝の周辺部分が等価的にチャネルストップとして機能するようにした。
【選択図】図1
Description
本発明は、縦型オーバーフロードレイン構造を有する固体撮像素子及びその製造方法に関する。
従来より、例えばCCDイメージセンサ等の固体撮像素子において、いわゆる縦型オーバーフロードレイン構造を有するものが知られている。ここで、縦型オーバーフロードレイン構造とは、半導体基板の受光面側に形成した光電変換部の信号電荷蓄積領域に過剰な入射光によって余剰電荷が生じた場合、この余剰電荷を半導体基板の深い位置に形成したポテンシャルバリア(オーバーフロードレイン)を通して基板の反対側に排出する構造のものであり、例えば、N型のシリコン基板にN型のエピタキシャル層を形成し、オーバーフロードレインを形成する領域にP型イオンを注入してP型ウェル層を設けることにより形成している。
ところで、近年の固体撮像素子では、多画素化の進展等により、基板上に2次元アレイ状に配列された各画素の受光部(光電変換部)の大きさも微細化されており、それに伴い、信号電荷の蓄積量も低下する傾向になっている。
ところで、近年の固体撮像素子では、多画素化の進展等により、基板上に2次元アレイ状に配列された各画素の受光部(光電変換部)の大きさも微細化されており、それに伴い、信号電荷の蓄積量も低下する傾向になっている。
そこで、このような固体撮像素子の感度を上げる方法として、P型ウェル層を深い位置に形成することが有効となる。そして、従来はP型ウェル層を形成するイオン注入時のP型不純物の加速エネルギーを高くすることで対処を進めてきた。
しかし、加速エネルギーにも限界があり、代替技術として、P型のエピタキシャル層を形成すれば、容易に厚い(すなわち、深い)P型ウェル層を形成することが可能となる。
(例えば特許文献1参照)。
特開平9−331058号公報
しかし、加速エネルギーにも限界があり、代替技術として、P型のエピタキシャル層を形成すれば、容易に厚い(すなわち、深い)P型ウェル層を形成することが可能となる。
(例えば特許文献1参照)。
しかしながら、上述したP型のエピタキシャル層は、シリコンウエハ全面に形成されるものであるため、組み立て工程で、ウエハからチップにダイジング(カッティング)する際に、例えば図5に示すように、ダイジングによるクラックで粗くなったチップ10の端面10Aに、N型基板(N型エピタキシャル層)12とその上のP型エピタキシャル層14との間のPN接合部が露出することになる。
しかし、実際の固体撮像素子では、P型層を接地電位として裏面側のN型基板に例えば30V程度の電圧を印加しており、上述のようにダイジング時のクラックで耐圧性が低下した粗いチップ端面に、電位差をもつPN接合部が露出することにより、この部分にリーク電流が発生し、動作不良が生じる欠点がある。
しかし、実際の固体撮像素子では、P型層を接地電位として裏面側のN型基板に例えば30V程度の電圧を印加しており、上述のようにダイジング時のクラックで耐圧性が低下した粗いチップ端面に、電位差をもつPN接合部が露出することにより、この部分にリーク電流が発生し、動作不良が生じる欠点がある。
そこで本発明は、ウエハからダイジングしたチップ端面に電位差をもつPN接合部を露出させることなくオーバーフロードレイン用のエピタキシャル層を形成でき、リーク電流を防止しつつ、光電変換部の感度向上を図ることができる固体撮像素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
上述の目的を達成するため、本発明の固体撮像素子は、第1導電型層を含む半導体チップと、前記第1導電型層の上に形成された第2導電型エピタキシャル層と、前記半導体チップの外周の内側に沿って前記第2導電型エピタキシャル層から第1導電型層に至る深さで環状に形成されたトレンチ溝と、前記トレンチ溝の内面に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の内面からトレンチ溝の縁部にかけて形成される導電膜と、前記導電膜にトレンチ溝の内壁領域の第2導電型エピタキシャル層を第1導電型に反転させる電圧を印加する給電手段と、前記第2導電型エピタキシャル層のトレンチ溝の内側領域に形成される画素アレイ部及び回路部とを有することを特徴とする。
また、本発明の製造方法は、半導体ウエハの第1導電型層の上に第2導電型エピタキシャル層を形成する工程と、前記半導体ウエハのダイジングラインの内側領域に前記第2導電型エピタキシャル層から第1導電型層に至る深さの環状のトレンチ溝を形成する工程と、前記トレンチ溝の内面に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜の内面からトレンチ溝の縁部にかけて導電膜を形成する工程と、前記第2導電型エピタキシャル層のトレンチ溝の内側領域に固体撮像素子を形成する工程と、前記半導体ウエハをダイジングラインに沿って分断する工程とを有することを特徴とする。
本発明の固体撮像素子によれば、半導体チップの第1導電型層上に設けた第2導電型エピタキシャル層が環状のトレンチ溝によって画素アレイ部及び回路部を設けた領域と外周領域とに分断され、このトレンチ溝に絶縁膜を介して形成された導電膜に電圧を印加することで、トレンチ溝の内壁領域の第2導電型エピタキシャル層を第1導電型に反転させることにより、トレンチ溝の周囲をチャネルストップとして機能させた構造を得ることができる。
したがって、半導体チップの端面に電位差をもつPN接合部を露出させることなく、第2導電型エピタキシャル層によって深い位置にオーバーフロードレインを形成でき、リーク電流を防止しつつ、光電変換部の感度向上を図ることができる効果がある。
したがって、半導体チップの端面に電位差をもつPN接合部を露出させることなく、第2導電型エピタキシャル層によって深い位置にオーバーフロードレインを形成でき、リーク電流を防止しつつ、光電変換部の感度向上を図ることができる効果がある。
また、本発明の製造方法によれば、半導体ウエハの第1導電型層上に第2導電型エピタキシャル層を形成し、この半導体ウエハのダイジングラインの内側領域に環状のトレンチ溝を形成し、このトレンチ溝の内面に絶縁膜を形成し、さらに絶縁膜の内面からトレンチ溝の縁部にかけて導電膜を形成し、トレンチ溝の内側領域に固体撮像素子を形成した後、半導体ウエハをダイジングラインに沿って分断することにより、トレンチ溝によって第2導電型エピタキシャル層を内側領域と外側領域に分離し、電圧の印加によって外側領域を第1導電型に反転させてトレンチ溝の周囲をチャネルストップとして機能させた構造の固体撮像素子を作成することができる。
したがって、半導体チップの端面に電位差をもつPN接合部を露出させることなく、第2導電型エピタキシャル層によって深い位置にオーバーフロードレインを形成でき、リーク電流を防止しつつ、光電変換部の感度を向上させた固体撮像素子を得ることができる効果がある。
したがって、半導体チップの端面に電位差をもつPN接合部を露出させることなく、第2導電型エピタキシャル層によって深い位置にオーバーフロードレインを形成でき、リーク電流を防止しつつ、光電変換部の感度を向上させた固体撮像素子を得ることができる効果がある。
なお、第1導電型をN型とし、前記第2導電型をP型とし、電圧を正の電圧とすることで、一般的に実施されている製品に容易に適用することができる。
また、半導体チップとしては、例えば第1導電型シリコン基板や、あるいは第1導電層上に第1導電型エピタキシャル層を成長させたものなど、種々のものを用いることができ、その上に第2導電型エピタキシャル層を成長させることで、十分な厚さの第2導電型エピタキシャル層によって深い位置にオーバーフロードレインを形成できる。
また、トレンチ溝内に形成する絶縁膜は第2導電型エピタキシャル層に形成されるMOSトランジスタのゲート絶縁膜と同一膜を用いて同時工程で形成することで、新たな成膜工程を追加することなく、容易に形成でき、また、同様に導電膜は第2導電型エピタキシャル層に形成されるMOSトランジスタのゲート電極膜と同一膜を用いて同時工程で形成することで、新たな成膜工程を追加することなく、容易に形成できる。また、絶縁膜を熱酸化膜とすることで、トレンチ溝の内面に容易に絶縁膜を作成できる。
また、半導体チップとしては、例えば第1導電型シリコン基板や、あるいは第1導電層上に第1導電型エピタキシャル層を成長させたものなど、種々のものを用いることができ、その上に第2導電型エピタキシャル層を成長させることで、十分な厚さの第2導電型エピタキシャル層によって深い位置にオーバーフロードレインを形成できる。
また、トレンチ溝内に形成する絶縁膜は第2導電型エピタキシャル層に形成されるMOSトランジスタのゲート絶縁膜と同一膜を用いて同時工程で形成することで、新たな成膜工程を追加することなく、容易に形成でき、また、同様に導電膜は第2導電型エピタキシャル層に形成されるMOSトランジスタのゲート電極膜と同一膜を用いて同時工程で形成することで、新たな成膜工程を追加することなく、容易に形成できる。また、絶縁膜を熱酸化膜とすることで、トレンチ溝の内面に容易に絶縁膜を作成できる。
本発明の実施の形態では、上述したリーク電流の原因となるチップ端面のPN接合部の露出を回避する構造として、以下のような工程で固体撮像素子を作成する。
まず、半導体ウエハのN型基板(N型エピタキシャル層)の上にP型エピタキシャル層を形成し、このウエハのダイジングラインの内側領域にトレンチ溝を環状に形成する。
次に、このトレンチ溝の内面をシリコン酸化膜で覆う。なお、このシリコン酸化膜には、MOSトランジスタのゲート酸化膜に用いるものと同一の膜を用い、同一工程で作成することができる。
さらに、その上に導電性多結晶シリコンを堆積し、トレンチ溝の周辺に沿って多結晶シリコン膜を残し、その他の不要部分を除去する。なお、この多結晶シリコンも、MOSトランジスタのゲート電極膜に用いるものと同一の膜を用い、同一工程で作成することができる。
まず、半導体ウエハのN型基板(N型エピタキシャル層)の上にP型エピタキシャル層を形成し、このウエハのダイジングラインの内側領域にトレンチ溝を環状に形成する。
次に、このトレンチ溝の内面をシリコン酸化膜で覆う。なお、このシリコン酸化膜には、MOSトランジスタのゲート酸化膜に用いるものと同一の膜を用い、同一工程で作成することができる。
さらに、その上に導電性多結晶シリコンを堆積し、トレンチ溝の周辺に沿って多結晶シリコン膜を残し、その他の不要部分を除去する。なお、この多結晶シリコンも、MOSトランジスタのゲート電極膜に用いるものと同一の膜を用い、同一工程で作成することができる。
次に、P型エピタキシャル層の内側領域に固体撮像素子やその他の回路部を形成する。なお、トレンチ溝に形成した多結晶シリコン膜には必要な電圧を給電可能な電極等に接続するものとする。
この後、半導体ウエハをダイジングラインに沿って分断し、固体撮像素子の半導体チップを得る。
このようにして形成した固体撮像素子では、トレンチ溝に形成した多結晶シリコン膜に正の電圧を印加することで、トレンチ溝の内壁部分のP型エピタキシャル層がN型に反転し、内部領域のP型エピタキシャル層に対してトレンチ溝の周辺部分が等価的にチャネルストップとして機能する。これにより、チップ端面には電位差をもつPN接合部が露出せず、リーク電流の問題を回避でき、また、P型エピタキシャル層によって深い位置にオーバーフロードレインを形成でき、感度のよい固体撮像素子となる。
この後、半導体ウエハをダイジングラインに沿って分断し、固体撮像素子の半導体チップを得る。
このようにして形成した固体撮像素子では、トレンチ溝に形成した多結晶シリコン膜に正の電圧を印加することで、トレンチ溝の内壁部分のP型エピタキシャル層がN型に反転し、内部領域のP型エピタキシャル層に対してトレンチ溝の周辺部分が等価的にチャネルストップとして機能する。これにより、チップ端面には電位差をもつPN接合部が露出せず、リーク電流の問題を回避でき、また、P型エピタキシャル層によって深い位置にオーバーフロードレインを形成でき、感度のよい固体撮像素子となる。
図1〜図4は本発明の実施例による固体撮像素子の製造工程を示す断面図である。なお、各図は、1つの半導体チップを示しているが、実際は半導体ウエハをダイジングする前の状態であるものとする。
まず、図1(A)において、半導体ウエハ100は、N型基板(N型エピタキシャル層)110の上にP型エピタキシャル層120が形成されており、この半導体ウエハ100にトレンチ溝130を形成した状態を示している。なお、N型基板110には、例えばN型導電層の上にN型エピタキシャル層を成長させたものを用いる。また、トレンチ溝130は、例えばフォトリソグラフィとエッチングを用いて形成するが、その形成方法としては特に限定しないものとする。
まず、図1(A)において、半導体ウエハ100は、N型基板(N型エピタキシャル層)110の上にP型エピタキシャル層120が形成されており、この半導体ウエハ100にトレンチ溝130を形成した状態を示している。なお、N型基板110には、例えばN型導電層の上にN型エピタキシャル層を成長させたものを用いる。また、トレンチ溝130は、例えばフォトリソグラフィとエッチングを用いて形成するが、その形成方法としては特に限定しないものとする。
図1(B)はトレンチ溝130の形成パターン例を示している。図示のように、完成した固体撮像素子の半導体チップには、多数の画素を2次元状に配列した画素アレイ部(イメージエリア)141、水平レジスタ142、及び周辺回路143等が形成されるが、本例のトレンチ溝130は、半導体チップの外周の内側(すなわち、ダイジングラインの内側)に沿って方形状の環状に形成されている。
なお、トレンチ溝130は、図1(A)に示すように、P型エピタキシャル層120を貫通してN型基板110まで到達してN層が露出するように形成されており、具体的には4μm程度の深さで形成され、P型エピタキシャル層120を完全に分断している。
なお、トレンチ溝130は、図1(A)に示すように、P型エピタキシャル層120を貫通してN型基板110まで到達してN層が露出するように形成されており、具体的には4μm程度の深さで形成され、P型エピタキシャル層120を完全に分断している。
次に、図2において、トレンチ溝130の内面にシリコン酸化膜150を形成する。このシリコン酸化膜150は、例えばMOSトランジスタのゲート酸化膜と同一膜を用いて同時工程で形成するものであり、例えばエピタキシャル層の表面を熱酸化してシリコン酸化膜を形成した後、不要な領域の酸化膜をフォトリソグラフィ及びエッチング等によって除去したものであり、トレンチ溝130には内面にだけ酸化膜が残った状態とする。
次に、図3において、全面に導電性多結晶シリコン膜160を堆積し、図4に示すように、トレンチ溝130に沿って不要部分を除去する。なお、この多結晶シリコン膜160は、例えばMOSトランジスタのゲート電極膜と同一膜を用いて同時工程で形成するものであり、例えばCVD等によって全面に形成した多結晶シリコン膜を、フォトリソグラフィ及びエッチング等によって所望のパターンに形成する。
トレンチ溝130の周辺では、トレンチ溝130の内部(すなわち、シリコン酸化膜150の内側)からトレンチ溝130の縁部に至る領域に形成されている。具体的には、溝部の外側に1〜2μm程度はみ出した状態で形成されている。
次に、図3において、全面に導電性多結晶シリコン膜160を堆積し、図4に示すように、トレンチ溝130に沿って不要部分を除去する。なお、この多結晶シリコン膜160は、例えばMOSトランジスタのゲート電極膜と同一膜を用いて同時工程で形成するものであり、例えばCVD等によって全面に形成した多結晶シリコン膜を、フォトリソグラフィ及びエッチング等によって所望のパターンに形成する。
トレンチ溝130の周辺では、トレンチ溝130の内部(すなわち、シリコン酸化膜150の内側)からトレンチ溝130の縁部に至る領域に形成されている。具体的には、溝部の外側に1〜2μm程度はみ出した状態で形成されている。
次に、P型エピタキシャル層120の上に固体撮像素子を構成する各素子(光電変換部やMOSトランジスタ等)を形成し、さらに配線等の上層膜を形成するが、この際、トレンチ溝130の多結晶シリコン膜160には、後述する正の電圧を印加するための電極等を接続するようにし、また、内側のP型エピタキシャル層120には接地電位に接続するように配線する。この後、ダイジングを行い、半導体ウエハを固体撮像素子のチップに分割する。
このように形成した固体撮像素子において、実際の使用時にトレンチ溝130の多結晶シリコン膜160に周辺回路の電源供給部(給電手段)から例えば5V程度の正の電圧を印加することにより、トレンチ溝130の内壁のP層120AがN型に反転し、内側のP型エピタキシャル層120に対するチャネルストップとして機能する。これにより、あたかもN層内にP型ウェル層を形成したのと等価の構成を得ることができ、深い位置にオーバーフロードレインを形成することが可能となる。また、チップ端面には、電位差を有するPN接合部が露出することを回避でき、リーク電流の発生を抑制できる。
なお、本発明は以上の実施例に限定されず、適宜変形が可能である。例えば、絶縁膜や導電膜の膜種は、シリコン酸化膜や多結晶シリコン膜以外のものを用いることが可能である。
なお、本発明は以上の実施例に限定されず、適宜変形が可能である。例えば、絶縁膜や導電膜の膜種は、シリコン酸化膜や多結晶シリコン膜以外のものを用いることが可能である。
100……半導体ウエハ、110……N型基板、120……P型エピタキシャル層、130……トレンチ溝、141……画素アレイ部、142……水平レジスタ、143……周辺回路、150……シリコン酸化膜、160……導電性多結晶シリコン膜。
Claims (12)
- 第1導電型層を含む半導体チップと、
前記第1導電型層の上に形成された第2導電型エピタキシャル層と、
前記半導体チップの外周の内側に沿って前記第2導電型エピタキシャル層から第1導電型層に至る深さで環状に形成されたトレンチ溝と、
前記トレンチ溝の内面に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜の内面からトレンチ溝の縁部にかけて形成される導電膜と、
前記導電膜にトレンチ溝の内壁領域の第2導電型エピタキシャル層を第1導電型に反転させる電圧を印加する給電手段と、
前記第2導電型エピタキシャル層のトレンチ溝の内側領域に形成される画素アレイ部及び回路部と、
を有することを特徴とする固体撮像素子。 - 前記半導体チップは第1導電層上に第1導電型エピタキシャル層を成長させて形成され、その上に前記第2導電型エピタキシャル層を成長させたものであることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記絶縁膜は前記第2導電型エピタキシャル層に形成されるMOSトランジスタのゲート絶縁膜と同一膜を用いて形成されることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記導電膜は前記第2導電型エピタキシャル層に形成されるMOSトランジスタのゲート電極膜と同一膜を用いて形成されることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記第1導電型はN型であり、前記第2導電型はP型であり、前記電圧は正の電圧であることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 前記絶縁膜が熱酸化膜であることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子。
- 半導体ウエハの第1導電型層の上に第2導電型エピタキシャル層を形成する工程と、
前記半導体ウエハのダイジングラインの内側領域に前記第2導電型エピタキシャル層から第1導電型層に至る深さの環状のトレンチ溝を形成する工程と、
前記トレンチ溝の内面に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の内面からトレンチ溝の縁部にかけて導電膜を形成する工程と、
前記第2導電型エピタキシャル層のトレンチ溝の内側領域に固体撮像素子を形成する工程と、
前記半導体ウエハをダイジングラインに沿って分断する工程と、
を有することを特徴とする固体撮像素子の製造方法。 - 前記半導体ウエハは第1導電層上に第1導電型エピタキシャル層を成長させ、その上に前記第2導電型エピタキシャル層を成長させることを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記絶縁膜を前記第2導電型エピタキシャル層に形成されるMOSトランジスタのゲート絶縁膜と同時形成することを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記導電膜を前記第2導電型エピタキシャル層に形成されるMOSトランジスタのゲート電極膜と同時形成することを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記第1導電型はN型であり、前記第2導電型はP型であることを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子の製造方法。
- 前記絶縁膜を熱酸化によって形成することを特徴とする請求項7記載の固体撮像素子の製造方法。
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