JP2006140220A - Low-reflectivity conductive film, electromagnetic wave shielding film, and electromagnetic wave shielding translucent window material - Google Patents

Low-reflectivity conductive film, electromagnetic wave shielding film, and electromagnetic wave shielding translucent window material Download PDF

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信吾 大野
Teruo Miura
映生 三浦
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shielding translucent window material having a mesh-like conductive pattern of narrow line width and high numerical aperture. <P>SOLUTION: Dots 7 are printed on a transparent film 1 using a material soluble to solvent, such as water. An anti-glare layer 2, a metal layer 3 and an anti-glare layer 4 are then formed sequentially so as to cover the dots 7 on the film 1 and the exposed surface of all the films between the dots 7. Subsequently, the film 1 is cleaned with a solvent, such as water. A metal layer 3, having conductive pattern anti-glare layers 2 and 4 consisting of layers 2, 3 and 4 formed in the region between dots, is thereby left on the film 1. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明はPDP(プラズマディスプレーパネル)の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料(例えば貼着用フィルム)等として有用な低反射性導電膜と、この低反射性導電膜よりなる電磁波シールド膜と、この電磁波シールド膜を備えた電磁波シールド性光透過窓材に関する。   The present invention relates to a low-reflective conductive film useful as a front filter of a PDP (plasma display panel), a window material (for example, a sticking film) of a building such as a hospital that requires an electromagnetic wave shield, and the like. The present invention relates to an electromagnetic wave shielding film made of a film and an electromagnetic wave shielding light transmitting window material provided with the electromagnetic wave shielding film.

近年、OA機器や通信機器等の普及にともない、これらの機器から発生する電磁波が問題視されるようになっている。即ち、電磁波の人体への影響が懸念され、また、電磁波による精密機器の誤作動等が問題となっている。   In recent years, with the spread of OA equipment, communication equipment, etc., electromagnetic waves generated from these equipment have been regarded as a problem. That is, there are concerns about the influence of electromagnetic waves on the human body, and malfunctions of precision equipment due to electromagnetic waves are problematic.

そこで、従来、OA機器のPDPの前面フィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性の窓材が開発され、実用に供されている。このような窓材はまた、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。   Thus, conventionally, a window material having an electromagnetic shielding property and a light transmission property has been developed and put into practical use as a front filter of a PDP of an OA device. Such a window material is also used as a window material for a precision device installation place such as a hospital or a laboratory in order to protect the precision device from electromagnetic waves such as a mobile phone.

従来の電磁波シールド性光透過窓材は、主に、金網のような導電性メッシュ材又は透明導電性フィルムをアクリル板等の透明基板の間に介在させて一体化した構成とされている。   Conventional electromagnetic shielding light-transmitting window materials are mainly configured by integrating a conductive mesh material such as a wire mesh or a transparent conductive film between transparent substrates such as acrylic plates.

従来の電磁波シールド性光透過窓材に用いられている導電性メッシュは、一般に線径10〜500μmで5〜500メッシュ程度のものであり、開口率は75%未満である。   The conductive mesh used for the conventional electromagnetic shielding light transmitting window material is generally about 5 to 500 mesh with a wire diameter of 10 to 500 μm, and the aperture ratio is less than 75%.

従来用いられている導電性メッシュは、一般に、メッシュを構成する導電性繊維の線径が太いものは目が粗く、線径が細くなると目が細かくなっている。これは、線径の太い繊維であれば、目の粗いメッシュとすることは可能であるが、線径の細い繊維で目の粗いメッシュを形成することは非常に困難であることによる。   As for the conductive mesh used conventionally, generally the thing of the wire diameter of the conductive fiber which comprises a mesh is coarse, and when a wire diameter becomes thin, it will become fine. This is because if the fiber has a large wire diameter, it is possible to form a coarse mesh, but it is very difficult to form a coarse mesh with a thin wire diameter.

このため、このような導電性メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材では、光透過率の良いものでも、高々70%程度であり、良好な光透過性を得ることができないという欠点があった。   For this reason, in the conventional electromagnetic wave shielding light transmission window material using such a conductive mesh, even if the light transmittance is good, it is at most about 70%, and it is not possible to obtain good light transmittance. was there.

また、従来の導電性メッシュでは、電磁波シールド性光透過窓材を取り付ける発光パネルの画素ピッチとの関係で、モアレ(干渉縞)が発生し易いという問題もあった。   In addition, the conventional conductive mesh has a problem that moire (interference fringes) is likely to occur due to the pixel pitch of the light emitting panel to which the electromagnetic wave shielding light transmitting window material is attached.

透明導電性フィルムを併用することで光透過性と電磁波シールド性とを両立させることが考えられるが、透明導電性フィルムは、筐体との導通をとることが容易ではないという不具合がある。   Although it is conceivable to achieve both light transmittance and electromagnetic wave shielding properties by using a transparent conductive film in combination, the transparent conductive film has a problem that it is not easy to establish conduction with the housing.

即ち、導電性メッシュであれば、上述の如く、導電性メッシュの周縁部を透明基板周縁部からはみ出させ、このはみ出し部分を折り曲げ、この折り曲げた部分から筐体との導通を図ることができるが、透明導電性フィルムでは、その周縁部を透明基板周縁部からはみ出させて折り曲げると、この折り目部分でフィルムが裂けてしまい、筐体との導通をとることができない。   That is, in the case of a conductive mesh, as described above, the peripheral portion of the conductive mesh can be protruded from the peripheral portion of the transparent substrate, the protruding portion can be bent, and conduction from the bent portion can be achieved. In the transparent conductive film, when the peripheral edge of the transparent conductive film protrudes from the peripheral edge of the transparent substrate and is bent, the film is torn at the crease and cannot be electrically connected to the casing.

また、透明導電性フィルムの代りに、一方の透明基板の接着面に透明導電性膜を直接成膜することも考えられるが、この場合には、透明導電性膜が他方の透明基板で覆われてしまい、透明導電性膜から筐体への導通を図ることができない。   In addition, instead of the transparent conductive film, it may be possible to form a transparent conductive film directly on the adhesive surface of one transparent substrate. In this case, the transparent conductive film is covered with the other transparent substrate. As a result, conduction from the transparent conductive film to the housing cannot be achieved.

従って、透明導電性膜フィルムを用いる場合には、例えば、透明基板に貫通孔を形成して透明導電性フィルムとの導通路を設けるなどの設計変更が必要となり、電磁波シールド性光透過窓材の組み立てや筐体への組み込み作業が複雑となる。   Therefore, when using a transparent conductive film, for example, a design change such as forming a through hole in a transparent substrate and providing a conductive path with the transparent conductive film is required. Assembly and assembly into the housing become complicated.

また特に、PDP等に用いる場合には、表示面が平面であることから、外光が差し込んだ際に広い範囲で反射した光が同時に観察者の目に入り、眩しさにより画面が見難くなることから、視認性が劣るという問題があった。   In particular, when used for a PDP or the like, since the display surface is flat, light reflected in a wide range when external light is inserted enters the eyes of an observer at the same time, and the screen is difficult to see due to glare. Therefore, there was a problem that visibility was inferior.

このような問題点を解決し、モアレ現象を防止すると共に、光透過性、電磁波シールド性、熱線(近赤外線)カット性、防眩性がいずれも極めて良好な電磁波シールド性光透過窓材とするために、金属層と防眩層とを積層させた電磁波シールド性光透過窓材が特開2002−374094号に記載されている。同号では、防眩層は黒又は暗色系インキにより形成されている。
特開2002−374094号公報
Solving these problems, preventing the moire phenomenon, and providing an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material that has extremely good light transmittance, electromagnetic wave shielding properties, heat ray (near infrared) cutting properties, and antiglare properties. Therefore, an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which a metal layer and an antiglare layer are laminated is described in JP-A-2002-374094. In the same reference, the antiglare layer is formed of black or dark ink.
JP 2002-374094 A

上記のインクとしては、バインダー(インクメジウム)に顔料微粒子を分散させたものが用いられているが、この微粒子のインク中での分散状態を保つためにインクの粘性を十分に高くしておく必要がある。このため、インク線幅を著しく小さくすることはできず、開口率も著しく大きくすることはできなかった。   As the above ink, a binder (ink medium) in which pigment fine particles are dispersed is used. In order to keep the fine particles dispersed in the ink, the viscosity of the ink needs to be sufficiently high. There is. For this reason, the ink line width cannot be remarkably reduced, and the aperture ratio cannot be remarkably increased.

なお、防眩層を金属層の黒化処理により形成することも考えられているが、処理に手間がかかりコスト高であると共に、金属層の一方の面しか黒化処理することができない。   In addition, although it is also considered that the antiglare layer is formed by a blackening treatment of the metal layer, the treatment is troublesome and expensive, and only one surface of the metal layer can be blackened.

本発明は、防眩性に優れると共に、線幅が十分に小さく、開口率も著しく高くすることができる低反射性導電膜と、この低反射性導電膜を有した電磁波シールド膜及び電磁波シールド性光透過窓材を提供することを目的とする。   The present invention provides a low-reflective conductive film that is excellent in anti-glare properties, has a sufficiently small line width, and can have a significantly high aperture ratio, and an electromagnetic shielding film and an electromagnetic shielding property having the low-reflective conductive film. An object is to provide a light transmission window material.

本発明(請求項1)の低反射性導電膜は、透明基板上に所定パターンにて積層状に形成された防眩層及び金属層を備えてなる低反射性導電膜において、該防眩層が可視光吸収性金属酸化物よりなることを特徴とするものである。   The low reflective conductive film of the present invention (Invention 1) is a low reflective conductive film comprising an antiglare layer and a metal layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate, and the antiglare layer. Is made of a visible light absorbing metal oxide.

請求項2の低反射性導電膜は、請求項1において、該導電層は、Au,Ag,Cu及びAlの少なくとも1種の金属又は合金よりなることを特徴とするものである。   The low reflective conductive film according to claim 2 is characterized in that, in claim 1, the conductive layer is made of at least one metal or alloy of Au, Ag, Cu and Al.

請求項3の低反射性導電膜は、請求項1又は2において、該金属酸化物の金属の少なくとも一部がAg,Cu及びCrの少なくとも1種であることを特徴とするものである。   The low reflective conductive film according to claim 3 is characterized in that, in claim 1 or 2, at least a part of the metal of the metal oxide is at least one of Ag, Cu and Cr.

請求項4の低反射性導電膜は、請求項1ないし3のいずれか1項において、前記金属片を構成する金属の酸化物により前記防眩層が構成されていることを特徴とするものである。   A low-reflective conductive film according to a fourth aspect is characterized in that, in any one of the first to third aspects, the antiglare layer is composed of an oxide of a metal constituting the metal piece. is there.

請求項5の低反射性導電膜は、請求項1ないし4のいずれか1項において、前記防眩層はスパッタ薄膜よりなることを特徴とするものである。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the low reflective conductive film according to any one of the first to fourth aspects, wherein the antiglare layer is formed of a sputtered thin film.

請求項6の低反射性導電膜は、請求項1ないし5のいずれか1項において、前記防眩層は金属層の片面又は両面に形成されていることを特徴とするものである。   The low reflective conductive film according to claim 6 is characterized in that, in any one of claims 1 to 5, the antiglare layer is formed on one side or both sides of a metal layer.

請求項7の低反射性導電膜は、請求項1ないし6のいずれか1項において、前記パターンはストライプパターン又はメッシュパターンであることを特徴とするものである。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the low reflective conductive film according to any one of the first to sixth aspects, wherein the pattern is a stripe pattern or a mesh pattern.

本発明(請求項8)の電磁波シールド膜は、低反射性導電膜よりなる電磁波シールド膜において、該低反射性導電膜が請求項1ないし7のいずれか1項に記載の低反射性導電膜であることを特徴とするものである。   The electromagnetic wave shielding film of the present invention (invention 8) is an electromagnetic wave shielding film made of a low reflective conductive film, and the low reflective conductive film according to any one of claims 1 to 7. It is characterized by being.

本発明(請求項9)の電磁波シールド性光透過窓材は、透明基板上に電磁波シールド膜が設けられた電磁波シールド性光透過窓材において、該電磁波シールド膜が請求項1ないし8のいずれか1項に記載の電磁波シールド膜であることを特徴とするものである。   The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention (invention 9) is an electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which an electromagnetic wave shielding film is provided on a transparent substrate, and the electromagnetic wave shielding film is any one of claims 1 to 8. It is an electromagnetic wave shielding film described in item 1.

本発明は、金属層に積層する防眩層を可視光吸収性金属酸化物により形成したものであるから、スパッタ法などにより微細なパターンを容易に且つ高精度にて形成することができる。この線幅を小さくすることにより、開口率を大きくとることができる。   In the present invention, since the antiglare layer to be laminated on the metal layer is formed of a visible light absorbing metal oxide, a fine pattern can be easily formed with high accuracy by a sputtering method or the like. By reducing this line width, the aperture ratio can be increased.

本発明によれば、金属層の両面に防眩層を設けることも可能である。   According to the present invention, it is possible to provide an antiglare layer on both surfaces of the metal layer.

なお、金属層の金属と防眩層の金属酸化物の金属とを同一金属とすることにより、防眩層を極めて容易に成膜することができる。   Note that the antiglare layer can be formed very easily by using the same metal for the metal of the metal layer and the metal oxide of the antiglare layer.

以下、図面を参照して実施の形態について説明する。   Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.

図1は本発明の実施の形態に係る電磁波シールド性光透過窓材の拡大断面図、図2はその製造方法を示す断面図である。   FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a manufacturing method thereof.

この電磁波シールド10は、透明フィルム1と、この透明フィルム1上に所定パターンにて形成された防眩層2、金属層3及び防眩層4とを有する。   The electromagnetic wave shield 10 includes a transparent film 1 and an antiglare layer 2, a metal layer 3, and an antiglare layer 4 formed on the transparent film 1 in a predetermined pattern.

この電磁波シールドを製造するには、図2(a),(b)のように透明フィルム1上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてドット7を印刷する。次いで、図2(c)の通り、このフィルム1のドット7上及びドット7間のフィルム露出面のすべてを覆うように防眩層2、金属層3及び防眩層4を順次に形成する。次に、このフィルム1を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。   In order to manufacture this electromagnetic wave shield, dots 7 are printed on the transparent film 1 using a material soluble in a solvent such as water as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). Next, as shown in FIG. 2C, the antiglare layer 2, the metal layer 3, and the antiglare layer 4 are sequentially formed so as to cover all the exposed surfaces of the film 1 on the dots 7 and between the dots 7. Next, the film 1 is washed with a solvent such as water. At this time, if necessary, dissolution accelerating means such as ultrasonic irradiation, rubbing with a brush, sponge or the like may be used in combination.

これにより、図2(d)の通り、可溶性のドット7が溶解し、このドット7上の層2,3,4もフィルム1から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された層2,3,4よりなる導電性パターン防眩層2,4付きの金属層3がフィルム1上に残る。この導電性パターンは、ドット7間の領域を占めるものであるから、全体としてはメッシュ状となる。   Thereby, as shown in FIG. 2D, the soluble dots 7 are dissolved, and the layers 2, 3, and 4 on the dots 7 are also peeled off from the film 1 and removed. Then, the metal layer 3 with the conductive pattern antiglare layers 2 and 4 formed of the layers 2, 3 and 4 formed in the region between the dots remains on the film 1. Since this conductive pattern occupies the area between the dots 7, it has a mesh shape as a whole.

従って、ドット7間の間隙を狭くしておくことにより、線幅の小さいメッシュ状の導電性パターンが形成される。また、各ドット7の面積を広くすることにより、開口率の大きなメッシュ状の導電性パターンが形成される。ドット7を形成するための前記水等に対して可溶な印刷材料は、微粒子を分散させる必要のないものであり、低粘性のもので足りる。この低粘性の印刷材料によれば、微細なドットパターンとなるようにドットを印刷することができる。   Therefore, by reducing the gap between the dots 7, a mesh-like conductive pattern with a small line width is formed. Further, by increasing the area of each dot 7, a mesh-like conductive pattern having a large aperture ratio is formed. The printing material soluble in water or the like for forming the dots 7 does not need to disperse the fine particles, and a low viscosity material is sufficient. According to this low-viscosity printing material, dots can be printed so as to have a fine dot pattern.

なお、上記図2(d)の工程の後、必要に応じ仕上げ洗浄(リンス)し、乾燥することにより、電磁波シールド性光透過窓材が得られる。また、ドットの代わりにストライプパターンを印刷することにより、ストライプ状の導電性パターンを高精度に形成することができる。   In addition, after the process of the said FIG.2 (d), an electromagnetic wave shielding light transmissive window material is obtained by carrying out finish washing | cleaning (rinsing) as needed and drying. In addition, by printing a stripe pattern instead of dots, a stripe-shaped conductive pattern can be formed with high accuracy.

次に、上記の各材料の好適例について説明する。   Next, suitable examples of each of the above materials will be described.

透明フィルム1としては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、アクリル板、ポリカーボネート(PC)、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくは、PET、PC、PMMAが挙げられる。   As the transparent film 1, polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic plate, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate film, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene , Ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane, etc., preferably PET, PC, PMMA.

この透明フィルムの厚さは、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合1μm〜5mm程度とされる。   The thickness of the transparent film varies depending on the use of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material, but is usually about 1 μm to 5 mm.

フィルム1上に形成するドットは印刷により形成されることが好ましい。印刷材料としては、ドットを除去させる溶剤に対して可溶な材料の溶液が用いられる。このドットを除去させる溶剤としては、有機溶剤であってもよいが、安価であると共に、環境への影響の点からして水が好ましい。水は、通常の水のほか、酸、アルカリ又は界面活性剤を含んだ水溶液であってもよい。この印刷材料には、印刷仕上り状況を確認し易くするために顔料や染料を混ぜてもよい。   The dots formed on the film 1 are preferably formed by printing. As the printing material, a solution of a material that is soluble in a solvent for removing dots is used. The solvent for removing the dots may be an organic solvent, but water is preferable because it is inexpensive and has an impact on the environment. The water may be an aqueous solution containing an acid, an alkali or a surfactant in addition to normal water. This printing material may be mixed with a pigment or a dye to make it easy to check the print finish.

溶剤をこのように水とする関係からして、ドット形成材料としては水溶性の高分子材料が好ましくは、具体的にはポリビニルアルコールなどが好適である。   In view of the relationship that the solvent is water, the dot-forming material is preferably a water-soluble polymer material, and specifically, polyvinyl alcohol or the like is preferred.

ドット7は、それらの間のフィルム露出領域がメッシュ状又はストライプ状となるように印刷される。好ましくは、このフィルム露出領域の線幅が30μm以下となるように印刷される。印刷手法としてはグラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷が好適であるが、細線化のためにはグラビア印刷が好適である。   The dots 7 are printed so that the film exposure area between them becomes a mesh shape or a stripe shape. Preferably, the film exposure region is printed so that the line width is 30 μm or less. As a printing method, gravure printing, screen printing, inkjet printing, and electrostatic printing are suitable, but gravure printing is suitable for thinning.

ドットの場合、その形状は、円、楕円、角形など伝意であるが、角形とくに正方形であることが好ましい。   In the case of dots, the shape is a tradition such as a circle, an ellipse, or a square, but is preferably a square, particularly a square.

ドット又はストライプの印刷厚みは、特に限定されるものではないが、通常は0.1〜5μm程度とされる。   The printing thickness of the dots or stripes is not particularly limited, but is usually about 0.1 to 5 μm.

ドット又はストライプの印刷後、好ましくは乾燥し、次いで防眩層2、金属層3、防眩層4を順次に形成する。防眩層2,4は可視光吸収性を有した金属酸化物により形成される。この金属酸化物としては、Ag,Cu,Crの少なくとも1種の酸化物が好適である。   After the printing of the dots or stripes, it is preferably dried, and then the antiglare layer 2, the metal layer 3, and the antiglare layer 4 are sequentially formed. The antiglare layers 2 and 4 are formed of a metal oxide having visible light absorption. As this metal oxide, at least one oxide of Ag, Cu, and Cr is suitable.

金属層3は、低抵抗のAu,Ag,Cu,Alの少なくとも1種の金属又は合金よりなることが好適である。   The metal layer 3 is preferably made of at least one metal or alloy of low resistance Au, Ag, Cu, and Al.

これらの層2,3,4はスパッタリングにより形成されることが好ましい。金属酸化物よりなる防眩層2,4を形成するためのスパッタリングとしては、反応性スパッタリング、デュアルカソードスパッタリングが好適である。これらのスパッタリングは、プラズマ発光コントロール法により制御されて行われてもよい。   These layers 2, 3 and 4 are preferably formed by sputtering. As sputtering for forming the antiglare layers 2 and 4 made of a metal oxide, reactive sputtering and dual cathode sputtering are suitable. Such sputtering may be performed under the control of a plasma emission control method.

本発明では、防眩層2,4を構成する金属酸化物の金属と金属層を構成する金属とを同一としてもよい。このようにすれば、スパッタリング工程において、酸素の供給を制御するだけで、同一装置内にて同一のターゲットを用いて防眩層2、金属層3、防眩層4をこの順に連続して成膜することができる。なお、この層2,3,4により低反射性導電膜が構成されている。   In the present invention, the metal of the metal oxide constituting the antiglare layers 2 and 4 and the metal constituting the metal layer may be the same. In this way, in the sputtering process, the antiglare layer 2, the metal layer 3, and the antiglare layer 4 are continuously formed in this order by using the same target in the same apparatus only by controlling the supply of oxygen. Can be membrane. The layers 2, 3, and 4 constitute a low reflective conductive film.

防眩層2,4の厚みは、100〜10000Å特に、100〜1000Åが好ましい。100Å未満であると、光の反射防止効果が充分でないことがある。10000Åを超えると、パターンを除去するのが困難となり、又、斜視した際の見かけ上の開口率が低下することがある。   The thickness of the antiglare layers 2 and 4 is preferably 100 to 10000 mm, particularly preferably 100 to 1000 mm. If it is less than 100 mm, the light antireflection effect may not be sufficient. If it exceeds 10,000 mm, it is difficult to remove the pattern, and the apparent aperture ratio when viewed in perspective may be reduced.

金属層3の厚みは、0.5〜100μm程度が好ましい。この厚みが、0.5μm未満であると、電磁波シールド性能が充分でないことがある。一方、100μmを超えると、得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚みに影響を及ぼすと共に、視野角を狭くしてしまうことがある。   The thickness of the metal layer 3 is preferably about 0.5 to 100 μm. When this thickness is less than 0.5 μm, electromagnetic wave shielding performance may not be sufficient. On the other hand, when the thickness exceeds 100 μm, the thickness of the obtained electromagnetic shielding light-transmitting window material is affected and the viewing angle may be narrowed.

この層2,3,4の形成後、前記の通り、溶剤好ましくは水を用いてドット7を除去し、必要に応じ乾燥して電磁波シールド性光透過窓材とされる。   After the formation of the layers 2, 3 and 4, as described above, the dots 7 are removed using a solvent, preferably water, and dried as necessary to obtain an electromagnetic wave shielding light transmitting window material.

上記実施の形態では防眩層2,4が設けられているが、防眩層2のみ又は防眩層4のみが設けられてもよい。   Although the antiglare layers 2 and 4 are provided in the above embodiment, only the antiglare layer 2 or only the antiglare layer 4 may be provided.

実施の形態に係る電磁波シールド性光透過窓材の断面図である。It is sectional drawing of the electromagnetic wave shielding light transmission window material which concerns on embodiment. 実施の形態に係る電磁波シールド性光透過窓材の製造方法を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the manufacturing method of the electromagnetic wave shielding light transmission window material which concerns on embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 フィルム
2,4 防眩層
3 金属層
7 ドット
10 電磁波シールド性光透過窓材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film 2, 4 Anti-glare layer 3 Metal layer 7 Dot 10 Electromagnetic shielding light transmission window material

Claims (9)

透明基板上に所定パターンにて積層状に形成された防眩層及び金属層を備えてなる低反射性導電膜において、
該防眩層が可視光吸収性金属酸化物よりなることを特徴とする低反射性導電膜。
In a low reflective conductive film comprising an antiglare layer and a metal layer formed in a laminated pattern in a predetermined pattern on a transparent substrate,
A low reflective conductive film, wherein the antiglare layer is made of a visible light absorbing metal oxide.
請求項1において、該金属層は、Au,Ag,Cu及びAlの少なくとも1種の金属又は合金よりなることを特徴とする低反射性導電膜。   2. The low reflective conductive film according to claim 1, wherein the metal layer is made of at least one metal or alloy of Au, Ag, Cu, and Al. 請求項1又は2において、該金属酸化物の金属の少なくとも一部がAg,Cu及びCrの少なくとも1種であることを特徴とする低反射性導電膜。   3. The low reflective conductive film according to claim 1, wherein at least a part of the metal of the metal oxide is at least one of Ag, Cu, and Cr. 請求項1ないし3のいずれか1項において、前記金属層を構成する金属の酸化物により前記防眩層が構成されていることを特徴とする低反射性導電膜。   4. The low-reflective conductive film according to claim 1, wherein the antiglare layer is composed of an oxide of a metal constituting the metal layer. 5. 請求項1ないし4のいずれか1項において、前記防眩層はスパッタ薄膜よりなることを特徴とする低反射性導電膜。   5. The low-reflective conductive film according to claim 1, wherein the antiglare layer is formed of a sputtered thin film. 請求項1ないし5のいずれか1項において、前記防眩層は金属層の片面又は両面に形成されていることを特徴とする低反射性導電膜。   6. The low reflective conductive film according to claim 1, wherein the antiglare layer is formed on one side or both sides of a metal layer. 請求項1ないし6のいずれか1項において、前記パターンはストライプパターン又はメッシュパターンであることを特徴とする低反射性導電膜。   The low reflective conductive film according to claim 1, wherein the pattern is a stripe pattern or a mesh pattern. 低反射性導電膜よりなる電磁波シールド膜において、該低反射性導電膜が請求項1ないし7のいずれか1項に記載の低反射性導電膜であることを特徴とする電磁波シールド膜。   An electromagnetic wave shielding film comprising a low reflective conductive film, wherein the low reflective conductive film is the low reflective conductive film according to any one of claims 1 to 7. 透明基板上に電磁波シールド膜が設けられた電磁波シールド性光透過窓材において、該電磁波シールド膜が請求項1ないし8のいずれか1項に記載の電磁波シールド膜であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。   9. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material in which an electromagnetic wave shielding film is provided on a transparent substrate, wherein the electromagnetic wave shielding film is the electromagnetic wave shielding film according to any one of claims 1 to 8. Light transmission window material.
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