JP2002374094A - Electromagnetic wave shielding light transmitting window material and its producing method - Google Patents
Electromagnetic wave shielding light transmitting window material and its producing methodInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ＰＤＰ（プラズマ
ディスプレーパネル）の前面フィルタや、病院等の電磁
波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用
フィルム）等として有用な、電磁波シールド性光透過窓
材の製造方法等に関し、特に、透明基板上に導電パター
ンを形成して得られる電磁波シールド性光透過窓材及び
その製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding property useful as a front filter of a plasma display panel (PDP) or a window material (for example, a sticking film) of a building requiring an electromagnetic wave shielding such as a hospital. The present invention relates to a method for manufacturing a light-transmitting window material and the like, and particularly to an electromagnetic-shielding light-transmitting window material obtained by forming a conductive pattern on a transparent substrate and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、ＯＡ機器や通信機器等の普及に伴
い、これらの機器から発生する電磁波が問題視されてお
り、特に、電磁波の人体への影響、精密機器の誤差動等
が問題とされている。2. Description of the Related Art In recent years, with the spread of OA equipment and communication equipment, electromagnetic waves generated from these equipment have been regarded as a problem. In particular, the effects of the electromagnetic wave on the human body and the error movement of precision equipment have become problems. Have been.
【０００３】前記問題を解決するため、ＯＡ機器におけ
るＰＤＰの前面フィルタとして、電磁波シールド性を有
し、かつ、光透過性の電磁波シールド性光透過窓材が開
発され、実用化されている。このような窓材は、携帯電
話等の電磁波から精密機器を保護することから、病院や
研究室等の精密機器設置場所における窓材としても利用
されている。しかし、これらは、主に、金網のような導
電性メッシュ材や、透明導電性フィルムをアクリル板等
の透明基板の間に介在させて一体化したものであった。In order to solve the above-mentioned problem, an electromagnetic wave shielding and light transmitting window material having electromagnetic wave shielding and light transmitting properties has been developed and put to practical use as a front filter of a PDP in OA equipment. Such a window material is also used as a window material in places where precision equipment is installed, such as hospitals and laboratories, for protecting precision equipment from electromagnetic waves such as mobile phones. However, these were mainly integrated with a conductive mesh material such as a wire mesh or a transparent conductive film interposed between transparent substrates such as an acrylic plate.
【０００４】前記導電性メッシュは、一般に、線径が１
０〜５００μｍで５〜５００メッシュ程度であり、開口
率が低く、線径の太い繊維であれば目の粗いメッシュと
することは可能であるが、線径の細い繊維で目の粗いメ
ッシュを形成することは非常に困難であった。このた
め、このような導電性メッシュを用いた電磁波シールド
性光透過窓材では、光透過率に優れるものでも光透過率
が７０％程度であり、優れた光透過性を得ることができ
ないという問題があった。また、電磁波シールド性光透
過窓材を取り付ける発光パネルにおける画素ピッチとの
関係で、モアレ（干渉縞）が発生し易いという問題もあ
った。Generally, the conductive mesh has a wire diameter of 1 mm.
It is about 5 to 500 mesh at 0 to 500 μm, the opening ratio is low, and it is possible to use a coarse fiber mesh for a fiber with a large wire diameter, but a coarse mesh is formed with a fiber with a small wire diameter. It was very difficult to do. For this reason, in the electromagnetic wave shielding light transmitting window material using such a conductive mesh, even if it has excellent light transmittance, the light transmittance is about 70%, and it is not possible to obtain excellent light transmittance. was there. There is also a problem that moire (interference fringes) is likely to occur due to the relationship with the pixel pitch in the light emitting panel to which the electromagnetic wave shielding light transmitting window material is attached.
【０００５】前記透明導電性フィルムを用いることで、
光透過性及び電磁波シールド性を両立させる技術におい
ては、透明導電性フィルムでは筐体との導通をとること
が容易ではないという問題があった。即ち、導電性メッ
シュであれば、導電性メッシュの周縁部を透明基板の周
縁部からはみ出させ、このはみ出し部分を折り曲げ、折
り曲げた部分から筐体との導通を図ることができるが、
透明導電性フィルムでは、その周縁部を透明基板周縁部
からはみ出させて折り曲げると、折り曲げた部分でフィ
ルムが裂けてしまい、筐体との導通をとることができな
いという問題があった。[0005] By using the transparent conductive film,
In the technology for achieving both the light transmittance and the electromagnetic wave shielding property, there is a problem that it is not easy for the transparent conductive film to conduct with the housing. That is, if it is a conductive mesh, the periphery of the conductive mesh protrudes from the periphery of the transparent substrate, and the protruding portion is bent, and conduction with the housing can be achieved from the bent portion.
In the case of the transparent conductive film, when the peripheral portion is bent out of the peripheral portion of the transparent substrate, the film is torn at the bent portion, and there is a problem that conduction with the housing cannot be obtained.
【０００６】また、透明導電性フィルムを用いる代わり
に、一方の透明基板の接着面に透明導電性膜を直接成膜
する技術も考えられる。しかしこの場合には、透明導電
性膜が他方の透明基板で覆われてしまい、透明導電性膜
から筐体への導通を図ることができない。[0006] Instead of using a transparent conductive film, a technique of directly forming a transparent conductive film on the bonding surface of one transparent substrate is also conceivable. However, in this case, the transparent conductive film is covered with the other transparent substrate, and conduction from the transparent conductive film to the housing cannot be achieved.
【０００７】従って、透明導電性フィルムを用いる場合
には、例えば、透明基板に貫通孔を形成して透明導電性
フィルムとの導通路を設ける等の設計変更が必要とな
り、電磁波シールド性光透過窓材の組み立てや筐体への
組み込み作業が複雑となることから問題があった。Therefore, when a transparent conductive film is used, it is necessary to change the design, for example, by forming a through hole in a transparent substrate to provide a conduction path with the transparent conductive film. There is a problem because the work of assembling the materials and assembling them into the housing becomes complicated.
【０００８】また特に、ＰＤＰ等に用いる場合には、表
示面が平面であることから、外光が差し込んだ際に広い
範囲で反射した光が同時に観察者の目に入り、眩しさに
より画面が見難くなることから、視認性が劣るという問
題があった。近年、技術の発達により、光透過性及び電
磁波シールド性に優れると共に、防眩性に優れ、視認性
に優れる電磁波シールド性光透過窓材が要求されてい
る。In particular, when used for a PDP or the like, since the display surface is flat, light reflected in a wide range at the same time when external light enters enters the eyes of an observer, and the screen becomes dim due to glare. There is a problem that visibility is inferior because it is difficult to see. In recent years, with the development of technology, there is a demand for an electromagnetic wave shielding light-transmitting window material that is excellent in light transmittance and electromagnetic wave shielding property, is excellent in antiglare properties, and is excellent in visibility.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、モアレ現象を防止すると共
に、光透過性、電磁波シールド性、熱線（近赤外線）カ
ット性、及び、防眩性、視認性に優れた電磁波シールド
性光透過窓材及びその効率的な製造方法を提供すること
を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and achieve the following objects. In other words, the present invention is an electromagnetic wave shielding light transmitting window material which is excellent in light transmittance, electromagnetic wave shielding property, heat ray (near infrared ray) cutting property, antiglare property and visibility while preventing the moire phenomenon, and its efficiency. It is intended to provide a simple manufacturing method.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段としては、以下の通りである。即ち、 ＜１＞ 透明基板上に、少なくとも、溶剤に可溶な物質
を用いてパターンを形成し、該溶剤に不溶な防眩層を形
成し、該溶剤に不溶な導電層を形成した後、該溶剤によ
り、パターンと、パターン上に形成された防眩層及び導
電層とを除去することを特徴とする電磁波シールド性光
透過窓材の製造方法である。 ＜２＞ 防眩層が、黒又は暗色系インキを含む前記＜１
＞に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法であ
る。 ＜３＞ 黒又は暗色系インキが、樹脂を含む前記＜１＞
又は＜２＞に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造
方法である。Means for solving the above problems are as follows. That is, <1> on a transparent substrate, at least, a pattern is formed using a substance soluble in a solvent, an anti-glare layer insoluble in the solvent is formed, and a conductive layer insoluble in the solvent is formed. A method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, comprising removing a pattern and an antiglare layer and a conductive layer formed on the pattern using the solvent. <2> The anti-glare layer according to the item <1>, wherein the anti-glare layer contains a black or dark ink.
> The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material described in (1). <3> The above <1>, wherein the black or dark ink contains a resin.
Or a method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to <2>.
【００１１】＜４＞ 防眩層が、印刷により形成された
前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の電磁波シール
ド性光透過窓材の製造方法である。 ＜５＞ 防眩層の厚み（パターン上に形成された防眩層
の厚みを指す。本発明において、以下同様である。）
が、１００〜１００００Åである前記＜１＞から＜４＞
のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造
方法である。 ＜６＞ 防眩層が、導電性である前記＜１＞から＜５＞
のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造
方法である。 ＜７＞ 溶剤が、水である前記＜１＞から＜６＞のいず
れかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法で
ある。<4> The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of <1> to <3>, wherein the antiglare layer is formed by printing. <5> Thickness of the antiglare layer (refers to the thickness of the antiglare layer formed on the pattern. In the present invention, the same applies hereinafter).
Is from 100 to 10000 °, from <1> to <4>
5. The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of the above. <6> The anti-glare layer is electrically conductive, from <1> to <5>.
5. The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of the above. <7> The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of <1> to <6>, wherein the solvent is water.
【００１２】＜８＞ 溶剤に可溶な物質が、水溶性樹脂
である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の電磁波
シールド性光透過窓材の製造方法である。 ＜９＞ 水溶性樹脂が、ポリビニルアルコールである前
記＜８＞に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方
法である。 ＜１０＞ パターンが、ドット状のパターンであり、印
刷により形成される前記＜１＞から＜９＞のいずれかに
記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法である。 ＜１１＞ 導電層が、メッキ及び塗布のいずれかにより
形成される前記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の
電磁波シールド性光透過窓材の製造方法である。<8> The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of <1> to <7>, wherein the substance soluble in the solvent is a water-soluble resin. <9> The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to <8>, wherein the water-soluble resin is polyvinyl alcohol. <10> The method according to any one of <1> to <9>, wherein the pattern is a dot-like pattern, and the electromagnetic wave shielding light transmitting window material is formed by printing. <11> The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of <1> to <10>, wherein the conductive layer is formed by plating or coating.
【００１３】＜１２＞ 導電層が、導電性金属粒子を含
む前記＜１＞から＜１１＞のいずれかに記載の電磁波シ
ールド性光透過窓材の製造方法である。 ＜１３＞ 前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の
電磁波シールド性光透過窓材の製造方法により得られる
ことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材である。 ＜１４＞ 開口率が７５％以上である前記＜１３＞に記
載の電磁波シールド性光透過窓材である。 ＜１５＞ 透明基板上に、少なくとも、防眩層及び導電
層をこの順に有し、該防眩層及び導電層が、開口率７５
％以上の格子状の層であることを特徴とする電磁波シー
ルド性光透過窓材である。<12> The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of <1> to <11>, wherein the conductive layer contains conductive metal particles. <13> An electromagnetic wave shielding light transmitting window material obtained by the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of <1> to <12>. <14> The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to <13>, wherein the aperture ratio is 75% or more. <15> On a transparent substrate, at least an antiglare layer and a conductive layer are provided in this order, and the antiglare layer and the conductive layer have an aperture ratio of 75
% Or more of a lattice-shaped layer, which is a light-transmitting window material having electromagnetic shielding properties.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 ［電磁波シールド性光透過窓材の製造方法］本発明の電
磁波シールド性光透過窓材の製造方法は、透明基板上
に、パターンを形成し、防眩層を形成し、導電層を形成
した後、パターンと、パターン上に形成された防眩層及
び導電層とを除去する方法である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. [Method of Manufacturing Electromagnetic Wave Shielding Light Transmitting Window Material] The method of manufacturing the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention comprises forming a pattern, forming an antiglare layer, and forming a conductive layer on a transparent substrate. , A pattern, and an antiglare layer and a conductive layer formed on the pattern.
【００１５】−透明基板− 前記透明基板の材質としては、透明（「可視光に対して
透明」を意味する。以下同様である。）であれば特に制
限はないが、例えば、ポリエステル、ポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹
脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリア
セテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン
架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、
セロファン等が挙げられる。これらの中でも、加工時の
負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透
明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。-Transparent Substrate-The material of the transparent substrate is not particularly limited as long as it is transparent (meaning "transparent to visible light". The same applies hereinafter). For example, polyester, polyethylene terephthalate, etc. (PET), polybutylene terephthalate,
Polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion-crosslinked ethylene-methacryl Acid copolymer, polyurethane,
Cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), and the like are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly high in transparency. preferable.
【００１６】前記透明基板の厚みとしては、電磁波シー
ルド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、一般的
には１μｍ〜５ｍｍ程度が好ましい。The thickness of the transparent substrate varies depending on the use of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material and the like, but is generally preferably about 1 μm to 5 mm.
【００１７】−パターンの形成− 前記パターンは、溶剤に可溶な物質を用いて形成され
る。本発明においては、このような溶媒に可溶な物質を
用いて、透明基板上にパターンを形成した後、該溶媒に
不溶な防眩層及び導電層を形成し、前記溶媒を用いて、
パターンと、パターン上に形成された防眩層及び導電層
と、を除去する。これにより、透明基板上で、パターン
が形成された領域以外の領域に形成された防眩層及び導
電層を残すことにより、透明基板上に、防眩層及び導電
層が形成された電磁波シールド性光透過窓材を好適に得
る。-Formation of Pattern- The pattern is formed using a substance soluble in a solvent. In the present invention, using a substance soluble in such a solvent, after forming a pattern on a transparent substrate, to form an anti-glare layer and a conductive layer insoluble in the solvent, using the solvent,
The pattern and the antiglare layer and the conductive layer formed on the pattern are removed. Accordingly, the anti-glare layer and the conductive layer formed on the transparent substrate are left on the region other than the region where the pattern is formed. A light transmitting window material is suitably obtained.
【００１８】従って、前記パターンの形成に使う材質
は、後の除去に用いる溶媒との関係で相対的に選択す
る。例えば、溶媒として水系溶媒を用いる場合には水溶
性物質が用いられ、溶媒として油系溶媒を用いる場合に
は油溶性物質が用いられる。前記溶媒としては、公知の
有機溶媒等も挙げられるが、安価で、環境への影響を考
慮すると、水が特に好ましい。該水としては、通常の水
（水道水、蒸留水、イオン交換水等）のほか、酸、アル
カリ、界面活性剤等を含んだ水溶液であってもよい。Therefore, the material used for forming the pattern is relatively selected in relation to the solvent used for the subsequent removal. For example, when an aqueous solvent is used as the solvent, a water-soluble substance is used, and when an oil-based solvent is used as the solvent, an oil-soluble substance is used. Examples of the solvent include known organic solvents, but water is particularly preferable when it is inexpensive and considers the effect on the environment. The water may be ordinary water (tap water, distilled water, ion-exchanged water, etc.) or an aqueous solution containing an acid, an alkali, a surfactant and the like.
【００１９】前記溶媒が水である場合、前記パターンの
形成に使う材質としては、水溶性樹脂等が好ましく、特
に、良好な水溶性を有する点で、ポリビニルアルコール
が好ましい。該パターンの形成に用いる材質には、所望
により、仕上がり状況を確認し易くするために顔料や染
料等を混合してもよい。When the solvent is water, the material used for forming the pattern is preferably a water-soluble resin or the like, and particularly preferably polyvinyl alcohol in that it has good water solubility. If desired, the material used for forming the pattern may be mixed with a pigment, a dye, or the like to make it easier to confirm the finished state.
【００２０】前記パターンの形成方法としては、特に制
限はなく、印刷、塗布、蒸着等の公知のパターン形成方
法が挙げられる。これらの中でも、より好適に、線幅が
小さくかつ開口率の高い導電層等を形成可能な点で、印
刷が好ましい。該印刷手法としては、グラビア印刷、ス
クリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷等が挙げ
られ、これらの中でも、より導電層等の細線化が可能な
点で、グラビア印刷が特に好ましい。該印刷において
は、格子状の防眩層及び導電層をより好適に形成可能な
点で、ネガ印刷により形成するのが特に好ましい。尚、
「開口率」とは、格子状の防眩層及び導電層における格
子の線幅、及び、１インチ幅に存在する格子（線）の数
から、計算により求めた値である。The method for forming the pattern is not particularly limited, and includes a known pattern forming method such as printing, coating, and vapor deposition. Among these, printing is more preferable because a conductive layer having a small line width and a high aperture ratio can be formed. Examples of the printing method include gravure printing, screen printing, ink jet printing, electrostatic printing, and the like. Among these, gravure printing is particularly preferable in that the conductive layer and the like can be made thinner. In the printing, it is particularly preferable to form the anti-glare layer and the conductive layer by negative printing from the viewpoint that the anti-glare layer and the conductive layer can be more suitably formed. still,
The “aperture ratio” is a value obtained by calculation from the line width of the grid in the grid-like antiglare layer and the conductive layer and the number of grids (lines) existing in one inch width.
【００２１】前記パターンの形状としては、特に制限は
なく、円、楕円、角形（四角形など）等のドット状のほ
か、ライン状、格子状等が挙げられるが、格子状の導電
層が好適に形成され、開口率がより高く格子の線幅がよ
り均一となる点で、四角形のドット状が好ましく、正方
形のドット状が特に好ましい。該ドットが四角形の場
合、その一辺の長さとしては、１００〜５００μｍ程度
が好ましく、ドット間の間隙としては、より線幅の小さ
い格子状の導電層等を形成し得る点で、狭いのが好まし
く、１〜５０μｍ程度が好ましく、得られる格子状の導
電層等における線幅が３０μｍ以下となる程度の間隙が
特に好ましい。前記パターンの厚みとしては、特に制限
はないが、０．１〜５μｍ程度が好ましい。The shape of the pattern is not particularly limited, and includes a dot shape such as a circle, an ellipse, and a square (such as a square), a line shape, a grid shape, and the like. A grid-shaped conductive layer is preferably used. A square dot shape is preferred, and a square dot shape is particularly preferred, in that it is formed and has a higher aperture ratio and a more uniform grid line width. When the dots are square, the length of one side is preferably about 100 to 500 μm, and the gap between the dots is narrow in that a grid-like conductive layer with a smaller line width can be formed. The gap is preferably about 1 to 50 μm, and particularly preferably a gap in which the line width of the obtained lattice-shaped conductive layer or the like is 30 μm or less. The thickness of the pattern is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 5 μm.
【００２２】前記パターンの形成に用いる材質には、導
電性微粒子等を分散させる必要がないため、該パターン
の形成に用いる材質は低粘度である。従って、前述のよ
うにパターン間の間隙を極めて小さくしたパターンが形
成される。パターン間の領域は、防眩層及び導電層が形
成される領域となるため、本発明においては、線幅が小
さく、微細で精密で、開口率の高い格子状の防眩層及び
導電層が好適に形成される。Since it is not necessary to disperse conductive fine particles or the like in the material used for forming the pattern, the material used for forming the pattern has a low viscosity. Therefore, a pattern in which the gap between the patterns is extremely small as described above is formed. Since the region between the patterns is a region where the anti-glare layer and the conductive layer are formed, in the present invention, the line width is small, fine and precise, and the grid-like anti-glare layer and the conductive layer having a high aperture ratio are formed. It is preferably formed.
【００２３】−防眩層の形成− 前記防眩層の材質としては、形成された防眩層が前記溶
剤に不溶であって、ＰＤＰ等の前面にフィルタとして用
いた際に、外光の反射を低減可能であれば特に制限はな
いが、例えば、黒又は暗色系インキ等が好適に挙げられ
る。該黒又は暗色系インキとしては、例えば、前記溶剤
が水である場合には、カーボンブラック等の無機顔料、
有機顔料、油性染料、分散染料等のほか、ウレタンやア
クリル樹脂等の樹脂に、顔料を分散させた加工顔料等が
挙げられる。これらの中でも、ウレタンやアクリル樹脂
等の樹脂に顔料を分散させた加工顔料等が特に好まし
い。また、電磁波のシールド性により優れる点で、防眩
層が導電性となるよう導電性物質を用いるのが特に好ま
しい。-Formation of anti-glare layer- The material of the anti-glare layer is such that when the formed anti-glare layer is insoluble in the solvent and used as a filter on the front surface of a PDP or the like, it reflects external light. There is no particular limitation as long as it can be reduced, but for example, black or dark-colored ink is preferably used. As the black or dark ink, for example, when the solvent is water, inorganic pigments such as carbon black,
In addition to organic pigments, oil-based dyes, disperse dyes, and the like, processed pigments in which a pigment is dispersed in a resin such as urethane or an acrylic resin, and the like are included. Among these, a processed pigment obtained by dispersing a pigment in a resin such as urethane or an acrylic resin is particularly preferable. In addition, it is particularly preferable to use a conductive substance so that the antiglare layer becomes conductive in terms of more excellent electromagnetic wave shielding properties.
【００２４】前記防眩層の形成方法としては、特に制限
はなく、印刷、塗布、蒸着等の公知の形成方法が挙げら
れる。これらの中でも、より好適に防眩層を形成可能な
点で、印刷により形成するのが好ましく、前記パターン
及び透明基板を全て覆うように全面ベタにより印刷する
のが特に好ましい。また、溶剤の浸透性を良くするため
に、細かいドット状に印刷して形成するのも好ましい。The method for forming the antiglare layer is not particularly limited, and may be a known method such as printing, coating, or vapor deposition. Among these, it is preferable to form by printing from the viewpoint that the antiglare layer can be more suitably formed, and it is particularly preferable to print the whole surface so as to cover the entire pattern and the transparent substrate. Further, in order to improve the permeability of the solvent, it is also preferable to form by printing in fine dots.
【００２５】前記防眩層の厚みとしては、１００〜１０
０００Åが好ましく、１００〜１０００Åがより好まし
い。前記厚みが、１００Å未満であると、光の反射防止
効果が充分でないことがある一方、１００００Åを超え
ると、パターンを除去するのが困難となり、又、斜視し
た際の見かけ上の開口率が低下することがある。The thickness of the antiglare layer is 100 to 10
000 ° is preferred, and 100-1000 ° is more preferred. If the thickness is less than 100 °, the effect of preventing light reflection may not be sufficient. On the other hand, if the thickness is more than 10,000 °, it becomes difficult to remove the pattern, and the apparent aperture ratio when obliquely viewed is reduced. May be.
【００２６】−導電層の形成− 前記導電層としては、前記溶剤に不溶であれば特に制限
はないが、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウ
ム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、
プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金、
或いはＩＴＯ等の導電性酸化物等を含んでいるのが好ま
しい。-Formation of Conductive Layer- The conductive layer is not particularly limited as long as it is insoluble in the solvent. For example, aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver,
Metals, alloys, such as platinum, copper, titanium, cobalt, and lead,
Alternatively, it preferably contains a conductive oxide such as ITO.
【００２７】前記導電層の厚みとしては、０．５〜１０
０μｍ程度が好ましい。前記厚みが、０．５μｍ未満で
あると、電磁波シールド性能が充分でないことがある一
方、１００μｍを超えると、得られる電磁波シールド性
光透過窓材の厚みに影響を及ぼすと共に、視野角を狭く
してしまうことがある。The thickness of the conductive layer is 0.5 to 10
About 0 μm is preferable. If the thickness is less than 0.5 μm, the electromagnetic wave shielding performance may not be sufficient.On the other hand, if it exceeds 100 μm, the thickness of the obtained electromagnetic wave shielding light transmitting window material is affected and the viewing angle is reduced. Sometimes.
【００２８】前記導電層の形成方法としては、特に制限
はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、真
空蒸着、化学蒸着等の気相メッキ法や、液相メッキ（電
解メッキ、無電解メッキ等）、印刷、塗布等が挙げられ
るが、気相メッキ（スパッタリング、イオンプレーティ
ング、真空蒸着、化学蒸着）及び液相メッキ等が好まし
い。前記導電層の形成の後、所望により、導電層上に前
記防眩層を更に形成することにより、導電層の両側に防
眩層が形成された電磁波シールド性光透過窓材を製造し
てもよい。The method for forming the conductive layer is not particularly limited, but includes a vapor phase plating method such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and chemical vapor deposition; a liquid phase plating (electrolytic plating, electroless plating, etc.); Printing, coating and the like are mentioned, but vapor phase plating (sputtering, ion plating, vacuum deposition, chemical vapor deposition), liquid phase plating and the like are preferable. After the formation of the conductive layer, if desired, by further forming the anti-glare layer on the conductive layer, it is possible to produce an electromagnetic wave shielding light transmitting window material having an anti-glare layer formed on both sides of the conductive layer Good.
【００２９】−除去− 前記除去においては、前記溶剤により、前記パターン
と、前記パターン上に形成された防眩層及び導電層と、
を除去する。前記除去の方法としては、前記パターン
と、前記パターン上に形成された防眩層及び導電層とを
好適に取り除くことができれば特に制限はないが、例え
ば、前記溶媒による洗浄等が挙げられる。該洗浄の際に
は、所望により、超音波照射ブラシ、スポンジ等の溶解
促進手段等を併用してもよい。前記除去により、溶媒に
可溶な物質で形成されたパターンが溶解し、更に、該パ
ターン上に形成された防眩層及び導電層がパターンの溶
解に伴い剥離し、パターン間の領域に形成された防眩層
及び導電層のみが剥離せずに残存し、所望により仕上げ
洗浄（リンス）し、乾燥させることにより、格子状の防
眩層及び導電層が透明基板上に形成された電磁波シール
ド性光透過窓材が得られる。-Removal- In the removal, the solvent, the antiglare layer and the conductive layer formed on the pattern,
Is removed. The method of the removal is not particularly limited as long as the pattern and the antiglare layer and the conductive layer formed on the pattern can be suitably removed, and examples thereof include washing with the solvent. At the time of the washing, if necessary, a dissolution promoting means such as an ultrasonic irradiation brush and a sponge may be used in combination. By the removal, the pattern formed of the substance soluble in the solvent is dissolved, further, the antiglare layer and the conductive layer formed on the pattern are peeled off with the dissolution of the pattern, and formed in the region between the patterns. Only the anti-glare layer and the conductive layer are left without being peeled off, and, if desired, are subjected to finish cleaning (rinsing) and dried, so that the grid-like anti-glare layer and the conductive layer are formed on a transparent substrate. A light transmitting window material is obtained.
【００３０】前記本発明の電磁波シールド性光透過窓材
の製造方法の一例を、図１〜４に基づき説明する。図１
〜４は、本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方
法を順次説明するための概略断面図である。本発明にお
いては、先ず、透明基板１上に、溶剤に可溶な物質を用
いてドット２を形成する（図１）。次に、該溶剤に不溶
な防眩層３を形成し（図２）、該溶剤に不溶で導電材を
含む導電層４ａを形成した後（図３）、該溶剤により、
ドット２と、ドット２上に形成された防眩層３及び導電
層４ａと、を除去することにより、電磁波シールド性光
透過窓材１０を得る（図４）。An example of a method for manufacturing the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG.
4 to 4 are schematic cross-sectional views for sequentially explaining a method of manufacturing the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention. In the present invention, first, dots 2 are formed on a transparent substrate 1 using a substance soluble in a solvent (FIG. 1). Next, an anti-glare layer 3 insoluble in the solvent is formed (FIG. 2), and a conductive layer 4a insoluble in the solvent and containing a conductive material is formed (FIG. 3).
By removing the dots 2 and the antiglare layer 3 and the conductive layer 4a formed on the dots 2, an electromagnetic wave shielding light transmitting window material 10 is obtained (FIG. 4).
【００３１】以上説明した本発明の電磁波シールド性光
透過窓材の製造方法によれば、モアレ現象を防止すると
共に、導電層の開口率が高く、光透過性、電磁波シール
ド性、熱線（近赤外線）カット性、及び、防眩性、視認
性に優れた電磁波シールド性光透過窓材を効率的に製造
することができる。According to the method of manufacturing the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention described above, the moire phenomenon is prevented, the aperture ratio of the conductive layer is high, the light transmitting property, the electromagnetic wave shielding property, the heat ray (near infrared ray) ) An electromagnetic wave shielding light transmitting window material having excellent cutability, antiglare property, and visibility can be efficiently manufactured.
【００３２】［電磁波シールド性光透過窓材］本発明の
電磁波シールド性光透過窓材は、前記本発明の電磁波シ
ールド性光透過窓材の製造方法により得られる。透明基
板、防眩層、及び、導電層としては、前記本発明の電磁
波シールド性光透過窓材の製造方法において述べたのと
総て同様である。所望により、導電層の上に更に防眩層
を有していてもよい。該本発明の電磁波シールド性光透
過窓材は、導電層等における開口率が高いため光透過性
が高く、防眩層を有するため反射が防止され視認性に優
れる。また、モアレ現象が防止され、電磁波シールド
性、熱線（近赤外線）カット性に優れる。[Electromagnetic Shielding Light Transmitting Window Material] The electromagnetic shielding light transmitting window material of the present invention can be obtained by the method for producing an electromagnetic shielding light transmitting window material of the present invention. The transparent substrate, the antiglare layer, and the conductive layer are all the same as those described in the method for producing the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention. If desired, an antiglare layer may be further provided on the conductive layer. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention has a high light transmittance due to a high aperture ratio in a conductive layer and the like, and has an antiglare layer so that reflection is prevented and visibility is excellent. Further, the moire phenomenon is prevented, and the electromagnetic wave shielding property and the heat ray (near infrared ray) cutting property are excellent.
【００３３】また本発明の電磁波シールド性光透過窓材
は、透明基板上に、少なくとも、防眩層及び導電層をこ
の順に有し、該防眩層及び導電層が、開口率７５％以上
の格子状の層である。該本発明の電磁波シールド性光透
過窓材を得る方法としては、製造効率、及び、得られる
電磁波シールド性光透過窓材における、防眩層及び導電
層の開口率に優れる点で、前記本発明の電磁波シールド
性光透過窓材の製造方法が特に好ましい。前記透明基
板、防眩層、及び、導電層としては、前記本発明の電磁
波シールド性光透過窓材の製造方法において述べたのと
総て同様である。所望により、導電層の上に更に防眩層
を有していてもよい。前記開口率としては、７５％以上
であることが必要であり、９０％以上が好ましい。前記
開口率が、７５％に満たないと、光透過性が不充分とな
る。Further, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention has at least an antiglare layer and a conductive layer in this order on a transparent substrate, and the antiglare layer and the conductive layer have an aperture ratio of 75% or more. It is a lattice-like layer. As a method for obtaining the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention, the manufacturing efficiency and the aperture ratio of the antiglare layer and the conductive layer in the obtained electromagnetic wave shielding light transmitting window material are excellent. The method for producing the electromagnetic wave shielding light transmitting window material is particularly preferable. The transparent substrate, the antiglare layer, and the conductive layer are all the same as those described in the method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention. If desired, an antiglare layer may be further provided on the conductive layer. The aperture ratio needs to be 75% or more, and preferably 90% or more. If the aperture ratio is less than 75%, the light transmittance becomes insufficient.
【００３４】図５は、本発明の電磁波シールド性光透過
窓材１０を正面から見た状態を表す概略構成図である。
図５で、電磁波シールド性光透過窓材１０は、透明基板
１上に、格子状の防眩層（不図示）及び導電層４ａをこ
の順に有する。FIG. 5 is a schematic diagram showing a state in which the electromagnetic wave shielding light transmitting window material 10 of the present invention is viewed from the front.
In FIG. 5, the electromagnetic wave shielding light transmitting window material 10 has a grid-like antiglare layer (not shown) and a conductive layer 4a on the transparent substrate 1 in this order.
【００３５】本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、
前述のように開口率が高いため光透過性に優れ、防眩層
を有するため防眩性、視認性に優れる。更に、モアレ現
象が防止され、電磁波シールド性、熱線（近赤外線）カ
ット性に優れるため、特に、ＰＤＰ（プラズマディスプ
レーパネル）の前面フィルタや、病院等の電磁波シール
ドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィル
ム）等として有用である。前記電磁波シールド性光透過
窓材を、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）として
用いる場合には、視認性の点で、防眩層が、透明基板上
において観察者側に配されるよう使用するのが好まし
い。The electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention comprises:
As described above, since the aperture ratio is high, the light transmittance is excellent, and since the antiglare layer is provided, the antiglare property and the visibility are excellent. Furthermore, since the moire phenomenon is prevented and the electromagnetic wave shielding property and the heat ray (near infrared ray) cutting property are excellent, the window material of a front filter of a PDP (plasma display panel) or a building such as a hospital requiring an electromagnetic wave shielding is particularly required. (For example, a sticking film). When the electromagnetic wave shielding light transmitting window material is used as a PDP (plasma display panel), it is preferable to use the antiglare layer so that the antiglare layer is disposed on the transparent substrate on the viewer side in terms of visibility. .
【００３６】[0036]
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定され
るものではない。EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.
【００３７】（実施例） −電磁波シールド性光透過窓材の製造− ポリエチレンテレフタレートフィルム（透明基板、厚
み：２５０μｍ）上に、ポリビニルアルコールの２０％
溶液を用いてドット状にパターンを印刷し、図１に示す
ように、透明基板１上に、ドット２を形成した。形成さ
れたドットは、１辺が２３４μｍの正方形状であり、ド
ット間の間隙は２０μｍ、ドットの厚みは２μｍであっ
た。また、ドットは、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に、正方格子状に規則的に配列させた。(Example)-Production of electromagnetic wave shielding light transmitting window material-Polyethylene terephthalate film (transparent substrate, thickness: 250 µm), 20% of polyvinyl alcohol
A pattern was printed in the form of dots using the solution, and dots 2 were formed on the transparent substrate 1 as shown in FIG. The formed dots had a square shape with one side of 234 μm, the gap between the dots was 20 μm, and the thickness of the dots was 2 μm. The dots were regularly arranged in a square lattice on a polyethylene terephthalate film.
【００３８】次に、その上に、ウレタン系黒インキを全
面ベタに印刷し、図２に示すように、防眩層３（ドット
２上の防眩層３における厚み：５００Å）を形成した。
その上に、アルミニウムを真空蒸着し、図３に示すよう
に、導電層４ａ（厚み：１０００Å）を形成した。その
後、水により、ドット２と、ドット上に形成された防眩
層３及び導電層４ｂと、を洗浄して除去し、図４に示す
ような電磁波シールド性光透過窓材１０を得た。Then, a black urethane-based ink was printed on the entire surface to form an anti-glare layer 3 (thickness of the anti-glare layer 3 on the dots 2 at 500 °) as shown in FIG.
Aluminum was vacuum deposited thereon to form a conductive layer 4a (thickness: 1000 °) as shown in FIG. Thereafter, the dots 2 and the antiglare layer 3 and the conductive layer 4b formed on the dots were washed and removed with water to obtain an electromagnetic wave shielding light transmitting window material 10 as shown in FIG.
【００３９】＜反射率の測定＞前記電磁波シールド性光
透過窓材の可視光反射率を以下のように測定した。結果
を表１に示す。日立分光光度計（Ｕ−４０００；「日立
製作所社製」）を用い、波長５５０ｎｍの光の５°正反
射測定を行い、鏡面ミラーの反射率を１００％としてサ
ンプルの可視光反射率を求めた。<Measurement of Reflectance> The visible light reflectance of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material was measured as follows. Table 1 shows the results. Using a Hitachi spectrophotometer (U-4000; manufactured by Hitachi, Ltd.), 5 ° regular reflection measurement of light having a wavelength of 550 nm was performed, and the visible light reflectance of the sample was determined by setting the reflectance of the mirror mirror to 100%. .
【００４０】＜開口率の測定＞前記電磁波シールド性光
透過窓材における導電層の開口率（％）を以下のように
測定・計算した。結果を表１に示す。 日立分光光度計（Ｕ−４０００；日立製作所社製）を用
い、波長５５０ｎｍの光線透過率を測定し、空気界面で
の反射によるロスをキャンセルし、開口率とした。<Measurement of Aperture Ratio> The aperture ratio (%) of the conductive layer in the electromagnetic wave shielding light transmitting window material was measured and calculated as follows. Table 1 shows the results. Using a Hitachi spectrophotometer (U-4000; manufactured by Hitachi, Ltd.), the light transmittance at a wavelength of 550 nm was measured, and the loss due to reflection at the air interface was canceled to obtain the aperture ratio.
【００４１】（比較例） −電磁波シールド性光透過窓材の製造− 実施例の「電磁波シールド性光透過窓材」において、防
眩層を形成しなかったほかは、実施例と同様にして、電
磁波シールド性光透過窓材を得た。即ち、ポリエチレン
テレフタレートフィルム（透明基板、厚み：２５０μ
ｍ）上に、ポリビニルアルコールの２０％溶液を用いて
ドット状に印刷し、図１に示すように、透明基板１上に
ドット２を形成（１辺が２３４μｍの正方形状、ドット
間の間隙：２０μｍ、ドットの厚み：２μｍ、正方格子
状に規則配列）し、その上に、アルミニウムを真空蒸着
し、図６に示すように導電層４ｂ（厚み：１０００Å）
を形成した。その後、水により、ドット２と、ドット上
に形成された導電層４ｂと、を洗浄して除去し、図７に
示すような電磁波シールド性光透過窓材１０’を得た。(Comparative Example)-Production of Electromagnetic Wave Shielding Light Transmitting Window Material-In the "electromagnetic wave shielding light transmitting window material" of Example, except that the antiglare layer was not formed, An electromagnetic shielding light transmitting window material was obtained. That is, a polyethylene terephthalate film (transparent substrate, thickness: 250 μm)
m), printed in the form of dots using a 20% solution of polyvinyl alcohol to form dots 2 on the transparent substrate 1 as shown in FIG. 1 (square shape with one side of 234 μm, gap between dots: 20 μm, dot thickness: 2 μm, regular arrangement in a square lattice), and aluminum is vacuum-deposited thereon, and as shown in FIG. 6, a conductive layer 4b (thickness: 1000 °)
Was formed. Thereafter, the dots 2 and the conductive layer 4b formed on the dots were washed and removed with water to obtain an electromagnetic wave shielding light transmitting window material 10 'as shown in FIG.
【００４２】＜反射率の測定＞前記電磁波シールド性光
透過窓材の可視光反射率を、実施例と同様にして測定し
た。結果を表１に示す。<Measurement of Reflectance> The visible light reflectance of the electromagnetic wave shielding light transmitting window material was measured in the same manner as in the example. Table 1 shows the results.
【００４３】＜開口率の測定＞前記電磁波シールド性光
透過窓材における導電層の開口率（％）を、実施例と同
様にして測定・計算した。結果を表１に示す。<Measurement of Aperture Ratio> The aperture ratio (%) of the conductive layer in the electromagnetic wave shielding light transmitting window material was measured and calculated in the same manner as in the example. Table 1 shows the results.
【００４４】[0044]
【表１】 [Table 1]
【００４５】実施例で得られた電磁波シールド性光透過
窓材は、反射率が低いため、防眩性、視認性に優れてお
り、また開口率が高いため光透過性に優れていることが
わかった。更に、電磁波シールド性、熱線（近赤外線）
カット性に優れ、モアレ現象が防止されていた。The electromagnetic wave shielding light transmitting window material obtained in the examples has a low reflectivity and therefore has excellent antiglare properties and visibility, and a high aperture ratio has excellent light transmitting properties. all right. Furthermore, electromagnetic wave shielding, heat rays (near infrared rays)
The cut property was excellent, and the moire phenomenon was prevented.
【００４６】[0046]
【発明の効果】本発明によれば、モアレ現象を防止する
と共に、光透過性、電磁波シールド性、熱線（近赤外
線）カット性、及び、防眩性、視認性に優れた電磁波シ
ールド性光透過窓材及びその効率的な製造方法を提供す
ることができる。According to the present invention, the moire phenomenon is prevented, and at the same time, the electromagnetic wave shielding light transmission excellent in light transmittance, electromagnetic wave shielding property, heat ray (near infrared ray) cutting property, antiglare property and visibility is achieved. A window material and an efficient manufacturing method thereof can be provided.
【図１】図１は、本発明の電磁波シールド性光透過窓材
の製造方法を説明するための概略図である。FIG. 1 is a schematic view for explaining a method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention.
【図２】図２は、本発明の電磁波シールド性光透過窓材
の製造方法を説明するための概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention.
【図３】図３は、本発明の電磁波シールド性光透過窓材
の製造方法を説明するための概略図である。FIG. 3 is a schematic view for explaining a method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention.
【図４】図４は、本発明の電磁波シールド性光透過窓材
の製造方法を説明するための概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention.
【図５】図５は、本発明の電磁波シールド性光透過窓材
を正面から見た状態を表す概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram illustrating a state in which the electromagnetic wave shielding light transmitting window material of the present invention is viewed from the front.
【図６】図６は、比較例の電磁波シールド性光透過窓材
の製造方法を説明するための概略図である。FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of a comparative example.
【図７】図７は、比較例の電磁波シールド性光透過窓材
の製造方法を説明するための概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material of a comparative example.
１ 透明基板 ２ ドット ３ 防眩層 ４ａ 導電層 ４ｂ 導電層 １０ 電磁波シールド性光透過窓材 １０’ 電磁波シールド性光透過窓材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Dot 3 Anti-glare layer 4a Conductive layer 4b Conductive layer 10 Electromagnetic wave shielding light transmitting window material 10 'Electromagnetic wave shielding light transmitting window material
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/00 ３０９ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ ５Ｇ４３５ ３１３ Ｈ０４Ｎ 5/72 Ａ Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者 吉川 雅人 東京都小平市上水本町３−16−15−102 Ｆターム(参考） 2E039 AC00 2K009 AA12 BB24 CC01 CC14 CC24 CC35 DD02 DD03 EE03 4F100 AA37B AB01C AB10C AB16C AK01B AK42A AK51B AR00A AR00B AR00C BA03 BA07 BA10A BA10C CA13B CC00B DE01C EH46 EH66C EH71 GB07 GB41 HB31B JG01B JG01C JN01A JN30B 5C058 DA02 DA08 5E321 AA23 AA46 BB22 BB23 BB25 BB41 BB44 CC16 GG05 GH01 5G435 AA01 AA17 BB06 GG11 GG33 GG43 HH03 HH05 HH12 KK07──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/00 309 G09F 9/00 313 5G435 313 H04N 5/72 A H04N 5/72 G02B 1/10 A ( 72) Inventor Masato Yoshikawa 3-16-15-102 Kamizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo F-term (reference) 2E039 AC00 2K009 AA12 BB24 CC01 CC14 CC24 CC35 DD02 DD03 EE03 4F100 AA37B AB01C AB10C AB16C AK01B AK42A AK51B AR00A AR00BA00 BA10A BA10C CA13B CC00B DE01C EH46 EH66C EH71 GB07 GB41 HB31B JG01B JG01C JN01A JN30B 5C058 DA02 DA08 5E321 AA23 AA46 BB22 BB23 BB25 BB41 BB44 CC16 GG05 GH01 H11 GG03 H11 GG03 H11 GG03 H11 GG03 A11
Claims (15)
な物質を用いてパターンを形成し、該溶剤に不溶な防眩
層を形成し、該溶剤に不溶な導電層を形成した後、該溶
剤により、パターンと、パターン上に形成された防眩層
及び導電層とを除去することを特徴とする電磁波シール
ド性光透過窓材の製造方法。At least a pattern is formed on a transparent substrate using a substance soluble in a solvent, an antiglare layer insoluble in the solvent is formed, and a conductive layer insoluble in the solvent is formed. A method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, comprising removing a pattern and an antiglare layer and a conductive layer formed on the pattern by using the solvent.
求項１に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方
法。2. The method according to claim 1, wherein the antiglare layer contains a black or dark color ink.
項１又は２に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造
方法。3. The method according to claim 1, wherein the black or dark ink contains a resin.
１から３のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓
材の製造方法。4. The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the antiglare layer is formed by printing.
である請求項１から４のいずれかに記載の電磁波シール
ド性光透過窓材の製造方法。5. The antiglare layer has a thickness of 100 to 10000 °.
The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of claims 1 to 4, wherein
のいずれかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造
方法。6. The anti-glare layer is electrically conductive.
The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to any one of the above.
れかに記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。7. The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the solvent is water.
請求項１から７のいずれかに記載の電磁波シールド性光
透過窓材の製造方法。8. The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the substance soluble in the solvent is a water-soluble resin.
ある請求項８に記載の電磁波シールド性光透過窓材の製
造方法。9. The method according to claim 8, wherein the water-soluble resin is polyvinyl alcohol.
り、印刷により形成される請求項１から９のいずれかに
記載の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。10. The method according to claim 1, wherein the pattern is a dot pattern and is formed by printing.
により形成される請求項１から１０のいずれかに記載の
電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。11. The method according to claim 1, wherein the conductive layer is formed by plating or coating.
項１から１１のいずれかに記載の電磁波シールド性光透
過窓材の製造方法。12. The method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1, wherein the conductive layer contains conductive metal particles.
電磁波シールド性光透過窓材の製造方法により得られる
ことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。13. An electromagnetic wave shielding light transmitting window material obtained by the method for manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to claim 1. Description:
に記載の電磁波シールド性光透過窓材。14. An aperture ratio of at least 75%.
2. The electromagnetic wave shielding light transmitting window material according to item 1.
び導電層をこの順に有し、該防眩層及び導電層が、開口
率７５％以上の格子状の層であることを特徴とする電磁
波シールド性光透過窓材。15. A transparent substrate having at least an antiglare layer and a conductive layer in this order, wherein the antiglare layer and the conductive layer are lattice-shaped layers having an aperture ratio of 75% or more. Electromagnetic wave shielding light transmitting window material.
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