JP2006133153A - Radiation image conversion panel using photostimulable phosphor and manufacturing method thereof - Google Patents

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JP2006133153A JP2004324738A JP2004324738A JP2006133153A JP 2006133153 A JP2006133153 A JP 2006133153A JP 2004324738 A JP2004324738 A JP 2004324738A JP 2004324738 A JP2004324738 A JP 2004324738A JP 2006133153 A JP2006133153 A JP 2006133153A
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Takafumi Yanagida
貴文 柳多
Sunao Arimoto
直 有本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation image conversion panel with well-balanced sharpness and coating property while holding high sensitivity that is a radiation image conversion panel using columnar crystals of an alkali halide-based photostimulable phosphor in a phosphor layer. <P>SOLUTION: The radiation image conversion panel comprises at least an undercoat layer, a photostimulable phosphor layer, and a protective layer laminated on a support body in this order, the phosphor layer being composed of columnar crystals of the alkali halide-based photostimulable phosphor. The excitation light reflectance on the photostimulable phosphor layer side of the support body is 80% or more, and an intermediate layer has an excitation light transmittance of 50% or more and 100% or less, and a film thickness of 0.1-10 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、輝尽性蛍光体を用いた放射線画像変換パネルおよびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a radiation image conversion panel using a photostimulable phosphor and a manufacturing method thereof.

近年、輝尽性蛍光体を利用した放射線画像変換パネルにより、放射線像を画像化する方法が用いられるようになってきた。   In recent years, a method of imaging a radiation image has been used by a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor.

この放射線像変換方法に用いられる放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層には、放射線吸収率及び光変換率が高いこと、画像の粒状性がよく、高鮮鋭性であることが要求される。   The stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel used in this radiation image conversion method is required to have high radiation absorption rate and light conversion rate, good image graininess, and high sharpness. .

これらの感度や画質に関する複数の因子を調整して感度、画質を改良するため、これまで様々な検討がされてきた。それらの中、放射線画像の鮮鋭性改善の為の手段として、例えば形成される輝尽性蛍光体の形状そのものをコントロールし、感度及び鮮鋭性の改良を図る試みがされている。   In order to improve the sensitivity and image quality by adjusting a plurality of factors related to sensitivity and image quality, various studies have been conducted so far. Among them, as a means for improving the sharpness of a radiographic image, for example, an attempt is made to improve the sensitivity and sharpness by controlling the shape of the photostimulable phosphor formed itself.

その試みの1つとして、例えば特開昭61−142497号公報等には微細な凹凸パターンを有する支持体上に輝尽性蛍光体を堆積させ形成した、微細な擬柱状ブロックからなる輝尽性蛍光体層を用いる方法がある。   As one of the attempts, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-142497 discloses a photostimulability composed of fine pseudo-columnar blocks formed by depositing a photostimulable phosphor on a support having a fine uneven pattern. There is a method using a phosphor layer.

又、特開昭61−142500号公報に記載されているように微細なパターンを有する支持体上に、輝尽性蛍光体を堆積させて得た柱状ブロック間のクラックをショック処理を施して更に発達させた輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルを用いる方法、更には、特開昭62−39737号公報に記載されたような、支持体の面に形成された輝尽性蛍光体層にその表面側から亀裂を生じさせ擬柱状とした放射線画像変換パネルを用いる方法、更には、特開昭62−110200号公報に記載のように、支持体の上面に蒸着により空洞を有する輝尽性蛍光体層を形成した後、加熱処理によって空洞を成長させ亀裂を設ける方法等も提案されている。   Further, as described in JP-A-61-142500, a crack between columnar blocks obtained by depositing a photostimulable phosphor on a support having a fine pattern is further subjected to a shock treatment. A method using a radiation image conversion panel having a developed stimulable phosphor layer, and further a stimulable phosphor formed on the surface of a support as described in JP-A-62-39737 A method of using a radiation image conversion panel in which a layer is cracked from its surface side to form a pseudo-columnar shape, and further, as described in JP-A-62-110200, a brightness having a cavity by vapor deposition on the upper surface of a support. There has also been proposed a method in which a cavity is grown by heat treatment and a crack is formed after forming the stimulable phosphor layer.

又、気相堆積法によって支持体(以下、基板ともいう)上に、支持体の法線方向に対し一定の傾きをもった細長い柱状結晶を形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルが提案されている(例えば、特許文献1を参照)。   Radiation image conversion having a photostimulable phosphor layer on a support (hereinafter also referred to as a substrate) formed by a vapor deposition method on which elongated columnar crystals having a certain inclination with respect to the normal direction of the support are formed. A panel has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

これらの輝尽性蛍光体層の形状をコントロールする試みにおいては、いずれも輝尽性蛍光体層を柱状とすることで、輝尽励起光(輝尽発光)の横方向への拡散を抑える(柱状結晶界面において反射を繰り返しながら支持体面まで到達する)ことができるため、輝尽発光による画像の鮮鋭性を著しく増大させることができるという特徴がある。   In attempts to control the shape of these photostimulable phosphor layers, all of the photostimulable phosphor layers are made columnar to suppress the lateral diffusion of photostimulated excitation light (stimulated luminescence) ( Therefore, it is possible to remarkably increase the sharpness of an image due to stimulated light emission.

これらの気相成長(堆積)により形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいては、前記感度と鮮鋭性の関係が向上するが、また、擬柱状或いは柱状の輝尽性蛍光体結晶からなる蛍光体層に更に低屈折率層を組み合わせることによって、放射線画像変換パネル中の層界面での反射や屈折を抑え、画質を更に向上させるなどの試みがされている(例えば、特許文献2を参照)。   In the radiation image conversion panel having the photostimulable phosphor layer formed by vapor phase growth (deposition), the relationship between the sensitivity and the sharpness is improved, but the pseudo-columnar or columnar photostimulable phosphor is also used. Attempts have been made to further improve image quality by suppressing reflection and refraction at the layer interface in the radiation image conversion panel by further combining a low-refractive index layer with a phosphor layer made of crystals (for example, patent documents). 2).

しかしながら、これらの柱状輝尽性蛍光体結晶からなる蛍光体層は、細長い柱状の結晶を基板上に形成しているため、基板への付着性(接着性)が充分でない場合があり、形成後、剥離しやすく、耐久性の改良が必要であった。特に高反射性支持体を使用すると膜付き性が劣化する傾向が顕著であった(例えば、特許文献3を参照)。
特開平2−58000号公報 特開平1−131498号公報 特開2004−251883号公報
However, since the phosphor layer composed of these columnar photostimulable phosphor crystals is formed with elongated columnar crystals on the substrate, the adhesion (adhesiveness) to the substrate may not be sufficient. It was easy to peel off and it was necessary to improve durability. In particular, when a highly reflective support is used, the tendency of the film-attaching property to deteriorate is remarkable (see, for example, Patent Document 3).
JP-A-2-58000 Japanese Patent Laid-Open No. 1-1131498 JP 2004-251883 A

本発明の目的は、蛍光体層にアルカリハライド系輝尽性蛍光体の柱状結晶体を用いた放射線画像変換パネルの特徴である高感度を保持し、かつ、高い鮮鋭性と膜付き性のバランスがとれた放射線画像変換パネル、および放射線画像変換パネルの製造方法を提供することである。   The object of the present invention is to maintain the high sensitivity characteristic of a radiation image conversion panel using columnar crystals of alkali halide-based stimulable phosphors in the phosphor layer, and to balance high sharpness and film-forming properties. The present invention provides a radiation image conversion panel and a method for manufacturing the radiation image conversion panel.

本発明の発明者等は鋭意検討した結果、本発明の目的は、下記構成のいずれかにより達成されることがわかった。
(請求項1)
支持体上に少なくとも下引層、輝尽性蛍光体層、保護層をこの順に積層してなり、かつ該蛍光体層がアルカリハライド系輝尽性蛍光体の柱状結晶体より構成されている放射線画像変換パネルにおいて、前記支持体の輝尽性蛍光体層側の励起光反射率が80%以上であり、中間層の励起光透過率が50%以上、100%以下でかつ膜厚が0.1〜10μmである、ことを特徴とする放射線画像変換パネル。
(請求項2)
前記下引層の膜厚が、支持体の輝尽性蛍光体層側に設けられている全構成層の膜厚に対して、0.1〜20%であることを特徴とする請求項1記載の放射線画像変換パネル。
(請求項3)
前記アルカリハライド系輝尽性蛍光体の柱状結晶体が、CsBr系柱状結晶により構成されていることを特徴とする請求項1記載の放射線画像変換パネル。
(請求項4)
請求項1〜3のいずれか1項記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、支持体上に下引層を塗布し乾燥させた後、蒸着法により輝尽性蛍光体層を形成することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
As a result of intensive studies by the inventors of the present invention, it has been found that the object of the present invention can be achieved by any of the following configurations.
(Claim 1)
Radiation in which at least an undercoat layer, a stimulable phosphor layer, and a protective layer are laminated in this order on a support, and the phosphor layer is composed of columnar crystals of an alkali halide-based stimulable phosphor In the image conversion panel, the excitation light reflectance of the support on the side of the stimulable phosphor layer is 80% or more, the excitation light transmittance of the intermediate layer is 50% or more and 100% or less, and the film thickness is 0. A radiation image conversion panel characterized by having a thickness of 1 to 10 μm.
(Claim 2)
The film thickness of the undercoat layer is 0.1 to 20% with respect to the film thickness of all the constituent layers provided on the photostimulable phosphor layer side of the support. The radiation image conversion panel described.
(Claim 3)
The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the columnar crystal of the alkali halide stimulable phosphor is composed of a CsBr columnar crystal.
(Claim 4)
In the manufacturing method of the radiographic image conversion panel of any one of Claims 1-3, after applying a subbing layer on a support body and drying, forming a photostimulable phosphor layer by a vapor deposition method. A method for producing a radiation image conversion panel.

本発明により、蛍光体層にアルカリハライド系輝尽性蛍光体の柱状結晶体を用いた放射線画像変換パネルの特徴である高感度を保持し、かつ、鮮鋭性と膜付き性のバランスがとれた放射線画像変換パネル、および放射線画像変換パネルの製造方法を提供することができる。   According to the present invention, high sensitivity, which is a feature of the radiation image conversion panel using columnar crystals of alkali halide photostimulable phosphors in the phosphor layer, is maintained, and the balance between sharpness and film-forming properties is achieved. A radiation image conversion panel and a method for manufacturing the radiation image conversion panel can be provided.

本発明を構成する化合物、層構成、製造方法等につき以下さらに説明する。   The compound, layer structure, production method and the like constituting the present invention will be further described below.

〔支持体(基材)〕
本発明の支持体は通常放射線画像変換パネルに使用される、例えば、アルミニウム、石英ガラス、プラスティック樹脂等が用いられるが、本発明の効果をより奏する点では、アルミニウムを主成分とする金属基板、CFRP、アラミド積層板が好ましく用いられる。
[Support (base material)]
The support of the present invention is usually used for a radiation image conversion panel, for example, aluminum, quartz glass, plastic resin, etc. are used. However, in terms of achieving the effects of the present invention, a metal substrate mainly composed of aluminum, CFRP and an aramid laminate are preferably used.

ただし、高感度を達成するためには、支持体の輝尽性蛍光体層側の励起光反射率が80%以上である必要があり、これ以下になると放射線画像変換パネルとしての感度が低下する。   However, in order to achieve high sensitivity, the excitation light reflectance on the photostimulable phosphor layer side of the support needs to be 80% or more, and if it is less than this, the sensitivity as a radiation image conversion panel is lowered. .

〔下引層(中間層)〕
また、支持体表面がポリマーコート処理されている等、下引層(中間層ともいう)を有することが本発明の効果をより奏するので好ましい。中間層の膜厚は0.1〜10μmであり、励起光透過率が50%以上、100%以下である必要がある。また、下引層の膜厚が、支持体の輝尽性蛍光体層側に設けられている全構成層の膜厚に対して、0.1〜20%であることが望ましい。
[Undercoat layer (intermediate layer)]
In addition, it is preferable to have an undercoat layer (also referred to as an intermediate layer) such that the surface of the support is polymer-coated, since the effects of the present invention are further exhibited. The film thickness of the intermediate layer is 0.1 to 10 μm, and the excitation light transmittance needs to be 50% or more and 100% or less. Moreover, it is desirable that the thickness of the undercoat layer is 0.1 to 20% with respect to the thickness of all the constituent layers provided on the photostimulable phosphor layer side of the support.

上記ポリマーコート処理に使用されるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、誘導体ゼラチン、コロイド状アルブミン、カゼイン等の蛋白質;カルボキシメチルセルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース化合物;寒天、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖誘導体;合成親水性コロイド例えばポリビニルアルコール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸共重合体、ポリアクリルアミド又はこれらの誘導体及び部分加水分解物、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルニトリル、ポリアクリル酸エステル等のビニル重合体及びその共重合体、ロジン、シェラック等の天然物及びその誘導体、その他多くの合成樹脂類が挙げられる。   Examples of the binder used in the polymer coating treatment include proteins such as gelatin, derivative gelatin, colloidal albumin, and casein; cellulose compounds such as carboxymethyl cellulose, diacetyl cellulose, and triacetyl cellulose; agar, sodium alginate, starch derivatives, and the like. Synthetic hydrophilic colloids such as polyvinyl alcohol, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid copolymers, polyacrylamide or derivatives and partial hydrolysates thereof, polyvinyl acetate, polyacrylonitrile, polyacrylic acid esters And other vinyl polymers and copolymers thereof, natural products such as rosin and shellac and derivatives thereof, and many other synthetic resins.

又、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル及びその誘導体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、ポリオレフィン、オレフィン−酢酸ビニル共重合体等のエマルジョンも使用することができる。その他カーボネート系、ポリエステル系、ウレタン系、エポキシ系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン及びポリピロールのごとき有機半導体も使用することができる。また、これらのバインダーは2種以上を混合して使用することもできる。   Also used are emulsions of styrene-butadiene copolymer, polyacrylic acid, polyacrylate ester and derivatives thereof, polyvinyl acetate, vinyl acetate-acrylate copolymer, polyolefin, olefin-vinyl acetate copolymer, etc. be able to. Other organic semiconductors such as carbonates, polyesters, urethanes, epoxy resins, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride and polypyrrole can also be used. Moreover, these binders can also be used in mixture of 2 or more types.

〔輝尽性蛍光体層〕
本発明の輝尽性蛍光体層は、アルカリハライド系輝尽性蛍光体の柱状結晶体で構成されてる。構成されているとは、輝尽性蛍光体層がその他の成分を含有していてもよいが、アルカリハライド系輝尽性蛍光体の柱状結晶体が主要な成分であるという意味であり、全輝尽性蛍光体層質量中、少なくとも50質量%以上を占めているという意味である。
[Stimulable phosphor layer]
The photostimulable phosphor layer of the present invention is composed of a columnar crystal of an alkali halide photostimulable phosphor. The composition means that the stimulable phosphor layer may contain other components, but the columnar crystal of the alkali halide stimulable phosphor is the main component, It means that it accounts for at least 50% by mass or more in the stimulable phosphor layer mass.

アルカリハライド系輝尽性蛍光体であれば、特に限定はないが、特に下記一般式(1)で表されるものが好ましい。   The alkali halide photostimulable phosphor is not particularly limited, but is preferably represented by the following general formula (1).

一般式(1) M1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
〔式中、M1はLi、Na、K、RbおよびCsから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、CuおよびNiから選ばれる少なくとも一種の二価金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、GaおよびInから選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X′およびX″は各々F原子、Cl原子、Br原子およびI原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、Aは、Eu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgから選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。〕
次に、本発明に好ましく用いられる前記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体について説明する。
The general formula (1) M 1 X · aM 2 X '2 · bM 3 X "3: eA
[Wherein M 1 is at least one alkali metal atom selected from Li, Na, K, Rb and Cs, and M 2 is selected from Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu and Ni. At least one kind of divalent metal atom selected, M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al , At least one trivalent metal atom selected from Ga and In, and X, X ′ and X ″ are each at least one halogen atom selected from F atom, Cl atom, Br atom and I atom, A is at least one metal selected from Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and Mg An atom, and a, , E is respectively represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.]
Next, the stimulable phosphor represented by the general formula (1) preferably used in the present invention will be described.

前記一般式(1)で表される輝尽性蛍光体において、MIは、Na、K、Rb及びCs等の各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子を表し、中でもRb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ土類金属原子が好ましく、更に好ましくはCs原子である。 In the photostimulable phosphor represented by the general formula (1), M I represents at least one alkali metal atom selected from each atom such as Na, K, Rb and Cs. At least one alkaline earth metal atom selected from each atom is preferred, and a Cs atom is more preferred.

2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNi等の各原子から選ばれる少なくとも1種の二価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのは、Be、Mg、Ca、Sr及びBa等の各原子から選ばれる二価の金属原子である。 M 2 represents at least one divalent metal atom selected from atoms such as Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu, and Ni, and among them, Be, Mg are preferably used. , A divalent metal atom selected from atoms such as Ca, Sr and Ba.

3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びIn等の各原子から選ばれる少なくとも1種の三価の金属原子を表すが、中でも好ましく用いられるのはY、Ce、Sm、Eu、Al、La、Gd、Lu、Ga及びIn等の各原子から選ばれる三価の金属原子である。 M 3 is at least selected from each atom such as Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga and In. One kind of trivalent metal atom is represented, and among these, trivalent metal atoms selected from each atom such as Y, Ce, Sm, Eu, Al, La, Gd, Lu, Ga and In are preferred. is there.

AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子である。中でも好ましいのはEu金属原子である。   A is at least one selected from the atoms of Eu, Tb, In, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu, and Mg. Metal atom. Of these, an Eu metal atom is preferable.

輝尽性蛍光体の輝尽発光輝度向上の観点から、X、X′及びX″はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子を表すが、F、Cl及びBrから選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子が好ましく、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子が更に好ましい。   From the viewpoint of improving the photostimulable emission brightness of the photostimulable phosphor, X, X ′, and X ″ each represent at least one halogen atom selected from F, Cl, Br, and I atoms. At least one halogen atom selected from Br is preferable, and at least one halogen atom selected from Br and I atoms is more preferable.

中でも本発明に用いられる輝尽性蛍光体として、CsBr系輝尽性蛍光体、例えばCsBr:Euが好ましい。   Among these, as the stimulable phosphor used in the present invention, a CsBr-based stimulable phosphor such as CsBr: Eu is preferable.

本発明の一般式(1)で表される輝尽性蛍光体は、例えば以下に述べる製造方法により製造される。   The photostimulable phosphor represented by the general formula (1) of the present invention is produced, for example, by the production method described below.

蛍光体原料としては、例えば、
(a)NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、RbI、CsF、CsCl、CsBr及びCsIから選ばれる少なくとも1種の化合物が用いられる。
As a phosphor material, for example,
(A) At least one compound selected from NaF, NaCl, NaBr, NaI, KF, KCl, KBr, KI, RbF, RbCl, RbBr, RbI, CsF, CsCl, CsBr and CsI is used.

(b)MgF2、MgCl2、MgBr2、MgI2、CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、SrF2、SrCI2、SrBr2、SrI2、BaF2、BaCl2、BaBr2、BaBr2・2H2O、BaI2、ZnF2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、CdF2、CdCl2、CdBr2、CdI2、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI、NiF2、NiCl2、NiBr2及びNiI2の化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物が用いられる。 (B) MgF 2, MgCl 2 , MgBr 2, MgI 2, CaF 2, CaCl 2, CaBr 2, CaI 2, SrF 2, SrCI 2, SrBr 2, SrI 2, BaF 2, BaCl 2, BaBr 2, BaBr 2 2H 2 O, BaI 2 , ZnF 2 , ZnCl 2 , ZnBr 2 , ZnI 2 , CdF 2 , CdCl 2 , CdBr 2 , CdI 2 , CuF 2 , CuCl 2 , CuBr 2 , CuI, NiF 2 , NiCl 2 , NiBr At least one compound selected from 2 and NiI 2 compounds is used.

(c)AlCl3、GaBr3及びInCl3の化合物から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の化合物が用いられる。 (C) At least one compound selected from compounds of AlCl 3 , GaBr 3 and InCl 3 is used.

(d)賦活部の原料としては、Eu、Tb、In、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMg等の各原子から選ばれる金属原子を有する化合物が用いられる。   (D) As the raw material of the activation part, Eu, Tb, In, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na, Ag, Cu and A compound having a metal atom selected from each atom such as Mg is used.

また、一般式(I)で表される化合物において、aは0≦a<0.5、好ましくは0≦a<0.01、bは0≦b<0.5、好ましくは0≦b≦10-2、eは0<e≦0.2、好ましくは0<e≦0.1である。 In the compound represented by the general formula (I), a is 0 ≦ a <0.5, preferably 0 ≦ a <0.01, and b is 0 ≦ b <0.5, preferably 0 ≦ b ≦. 10 −2 and e are 0 <e ≦ 0.2, preferably 0 <e ≦ 0.1.

上記輝尽性蛍光体を得るには、その数値範囲の混合組成になるように前記(a)〜(d)の蛍光体原料を秤量し、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて充分に混合する。   In order to obtain the photostimulable phosphor, the phosphor materials (a) to (d) are weighed so as to have a mixed composition in the numerical range, and sufficiently mixed using a mortar, ball mill, mixer mill or the like. To do.

尚、一度焼成した後、焼成物を電気炉から取り出して粉砕し、しかる後、焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填して電気炉に入れ、前記と同じ焼成条件で再焼成を行えば蛍光体の発光輝度を更に高めることができる、また、焼成物を焼成温度より室温に冷却する際、焼成物を電気炉から取り出して空気中で放冷することによっても所望の蛍光体を得ることができるが、焼成時と同じ、弱還元性雰囲気もしくは中性雰囲気のままで冷却してもよい。また、焼成物を電気炉内で加熱部より冷却部へ移動させて、弱還元性雰囲気、中性雰囲気もしくは弱酸化性雰囲気で急冷することにより、得られた蛍光体の輝尽による発光輝度をより一層高めることができる。   Once fired, the fired product is taken out of the electric furnace and pulverized. After that, the fired powder is again filled in a heat-resistant container and placed in the electric furnace, and then fired again under the same firing conditions as above. The luminous brightness of the body can be further increased, and when the fired product is cooled to the room temperature from the firing temperature, the desired phosphor can also be obtained by removing the fired product from the electric furnace and allowing it to cool in the air. However, it may be cooled in the same weak reducing atmosphere or neutral atmosphere as in the firing. In addition, by moving the fired product from the heating unit to the cooling unit in an electric furnace and quenching in a weak reducing atmosphere, neutral atmosphere or weak oxidizing atmosphere, the emission luminance due to the phosphor phosphors obtained can be increased. It can be further increased.

また、本発明の輝尽性蛍光体層は気相成長法によって形成される。   Further, the photostimulable phosphor layer of the present invention is formed by a vapor phase growth method.

輝尽性蛍光体の気相成長法としては蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、その他を用いることができる。   Vapor deposition methods, sputtering methods, CVD methods, ion plating methods, and others can be used as the vapor phase growth method of the photostimulable phosphor.

本発明においては、例えば、以下の方法が挙げられる。   In the present invention, for example, the following methods can be mentioned.

第1の方法の蒸着法は、まず、支持体を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とする。 In the vapor deposition method of the first method, first, after the support is installed in the vapor deposition apparatus, the inside of the apparatus is evacuated to a degree of vacuum of about 1.333 × 10 −4 Pa.

次いで、前記輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて前記支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに成長させる。   Next, at least one of the photostimulable phosphor is heated and evaporated by a resistance heating method, an electron beam method, or the like to grow the photostimulable phosphor on the surface of the support to a desired thickness.

この結果、結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層が形成されるが、前記蒸着工程では複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。   As a result, a photostimulable phosphor layer containing no binder is formed, but it is also possible to form the photostimulable phosphor layer in a plurality of times in the vapor deposition step.

また、前記蒸着工程では複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。   In the vapor deposition step, it is possible to co-evaporate using a plurality of resistance heaters or electron beams to synthesize the desired photostimulable phosphor on the support and simultaneously form the photostimulable phosphor layer. is there.

蒸着終了後、必要に応じて前記輝尽性蛍光体層の支持体側とは反対の側に保護層を設けることにより本発明の放射線画像変換パネルが製造される。尚、保護層上に輝尽性蛍光体層を形成した後、支持体を設ける手順をとってもよい。   After vapor deposition is completed, the radiation image conversion panel of the present invention is manufactured by providing a protective layer on the side opposite to the support side of the photostimulable phosphor layer as necessary. In addition, after forming a photostimulable phosphor layer on a protective layer, a procedure for providing a support may be taken.

さらに、前記蒸着法においては、蒸着時、必要に応じて被蒸着体(支持体、保護層又は中間層)を冷却あるいは加熱してもよい。   Furthermore, in the vapor deposition method, the vapor deposition target (support, protective layer or intermediate layer) may be cooled or heated as necessary during vapor deposition.

また、蒸着終了後輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。また、前記蒸着法においては必要に応じてO2、H2等のガスを導入して蒸着する反応性蒸着を行ってもよい。 Further, the stimulable phosphor layer may be heat-treated after the vapor deposition. In the vapor deposition method, reactive vapor deposition may be performed in which vapor deposition is performed by introducing a gas such as O 2 or H 2 as necessary.

第2の方法としてのスパッタリング法は、蒸着法と同様、保護層又は中間層を有する支持体をスパッタリング装置内に設置した後、装置内を一旦排気して1.333×10-4Pa程度の真空度とし、次いでスパッタリング用のガスとしてAr、Ne等の不活性ガスをスパッタリング装置内に導入して1.333×10-1Pa程度のガス圧とする。次に、前記輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより、前記支持体上に輝尽性蛍光体層を所望の厚さに成長させる。 In the sputtering method as the second method, like the vapor deposition method, after a support having a protective layer or an intermediate layer is placed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is once evacuated to about 1.333 × 10 −4 Pa. The degree of vacuum is set, and then an inert gas such as Ar or Ne is introduced into the sputtering apparatus as a sputtering gas to obtain a gas pressure of about 1.333 × 10 −1 Pa. Next, a stimulable phosphor layer is grown on the support to a desired thickness by sputtering using the stimulable phosphor as a target.

前記スパッタリング工程では蒸着法と同様に各種の応用処理を用いることができる。   Various applied treatments can be used in the sputtering step as in the vapor deposition method.

第3の方法としてCVD法があり、又、第4の方法としてイオンプレーティング法がある。   The third method is a CVD method, and the fourth method is an ion plating method.

また、前記気相成長における輝尽性蛍光体層の成長速度は0.05〜300μm/分であることが好ましい。成長速度が0.05μm/分未満の場合には本発明の放射線画像変換パネルの生産性が低く好ましくない。また成長速度が300μm/分を越える場合には成長速度のコントロールがむずかしく好ましくない。   The growth rate of the stimulable phosphor layer in the vapor phase growth is preferably 0.05 to 300 μm / min. When the growth rate is less than 0.05 μm / min, the productivity of the radiation image conversion panel of the present invention is low, which is not preferable. If the growth rate exceeds 300 μm / min, it is difficult to control the growth rate.

放射線画像変換パネルを、前記の真空蒸着法、スパッタリイング法などにより得る場合には、結着剤が存在しないので輝尽性蛍光体の充填密度を増大でき、感度、解像力の上で好ましい放射線画像変換パネルが得られ、好ましい。   When the radiation image conversion panel is obtained by the above-described vacuum deposition method, sputtering method, etc., since there is no binder, the packing density of the photostimulable phosphor can be increased, which is preferable in terms of sensitivity and resolution. An image conversion panel is obtained and preferred.

蒸着を行うるつぼは蒸着方式を抵抗加熱方式、ハロゲン加熱方式EB(エレクトロンビーム)方式などの加熱方式によって異なる。   The crucible for vapor deposition differs depending on the heating method such as resistance heating method, halogen heating method EB (electron beam) method and the like.

前記輝尽性蛍光体層の膜厚は、放射線画像変換パネルの使用目的によって、また輝尽性蛍光体の種類により異なるが、本発明に記載の効果を得る観点から50μm〜1mmが好ましく、より好ましくは50〜800μmである。   The film thickness of the photostimulable phosphor layer varies depending on the purpose of use of the radiation image conversion panel and the type of stimulable phosphor, but is preferably 50 μm to 1 mm from the viewpoint of obtaining the effects described in the present invention. Preferably it is 50-800 micrometers.

本発明においては、柱状結晶間の間隙に結着剤等充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層の補強となるほか、高光吸収の物質、高光反射率の物質等を充填してもよい、これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。   In the present invention, the gap between the columnar crystals may be filled with a filler or the like, and the stimulable phosphor layer may be reinforced, and a high light absorption substance, a high light reflectance substance or the like may be filled. In addition to providing the reinforcing effect, this is effective in reducing the light diffusion in the lateral direction of the stimulated excitation light incident on the stimulable phosphor layer.

高反射率の物質とは、輝尽励起光(500〜900nm、特に600〜800nm)に対する反射率の高い物質のことをいい、例えば、アルミニウム、マグネシウム、銀、インジウム、その他の金属等、白色顔料及び緑色〜赤色領域の色材を用いることができる。白色顔料は輝尽発光も反射することができる。   A highly reflective substance refers to a substance having a high reflectivity with respect to stimulated excitation light (500 to 900 nm, particularly 600 to 800 nm). For example, white pigments such as aluminum, magnesium, silver, indium, and other metals In addition, a color material in the green to red region can be used. White pigments can also reflect stimulated emission.

白色顔料としては、例えば、TiO2(アナターゼ型、ルチル型)、MgO、PbCO3・Pb(OH)2、BaSO4、Al23、M(II)FX(但し、M(II)はBa、Sr及びCaの各原子から選ばれるの少なくとも一種の原子であり、XはCl原子又はBr原子である。)、CaCO3、ZnO、Sb23、SiO2、ZrO2、リトポン(BaSO4・ZnS)、珪酸マグネシウム、塩基性珪硫酸塩、塩基性燐酸鉛、珪酸アルミニウムなどがあげられる。 Examples of the white pigment include TiO 2 (anatase type, rutile type), MgO, PbCO 3 · Pb (OH) 2 , BaSO 4 , Al 2 O 3 , M (II) FX (where M (II) is Ba). , Sr, and Ca, and X is a Cl atom or a Br atom.), CaCO 3 , ZnO, Sb 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , lithopone (BaSO 4 ZnS), magnesium silicate, basic silicate, basic lead phosphate, aluminum silicate and the like.

これらの白色顔料は隠蔽力が強く、屈折率が大きいため、光を反射したり、屈折させることにより輝尽発光を容易に散乱し、得られる放射線画像変換パネルの感度を顕著に向上させることができる。   These white pigments have a strong hiding power and a high refractive index, so that it is possible to easily scatter scattered light by reflecting or refracting light, and to significantly improve the sensitivity of the resulting radiation image conversion panel. it can.

また、高光吸収率の物質としては、例えば、カーボンブラック、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化鉄など及び青の色材が用いられる。このうちカーボンブラックは輝尽発光も吸収する。   In addition, as a material having a high light absorption rate, for example, carbon black, chromium oxide, nickel oxide, iron oxide, and the like and a blue color material are used. Among these, carbon black absorbs stimulated light emission.

また、色材は、有機又は無機系色材のいずれでもよい。   The color material may be either an organic or inorganic color material.

有機系色材としては、例えば、ザボンファーストブルー3G(ヘキスト製)、エストロールブリルブルーN−3RL(住友化学製)、D&CブルーNo.1(ナショナルアニリン製)、スピリットブルー(保土谷化学製)、オイルブルーNo.603(オリエント製)、キトンブルーA(チバガイギー製)、アイゼンカチロンブルーGLH(保土ヶ谷化学製)、レイクブルーAFH(協和産業製)、プリモシアニン6GX(稲畑産業製)、ブリルアシッドグリーン6BH(保土谷化学製)、シアンブルーBNRCS(東洋インク製)、ライオノイルブルーSL(東洋インク製)等が用いられる。   Examples of organic colorants include Zavon First Blue 3G (Hoechst), Estrol Brill Blue N-3RL (Sumitomo Chemical), D & C Blue No. 1 (made by National Aniline), Spirit Blue (made by Hodogaya Chemical), Oil Blue No. 1 603 (made by Orient), Kitten Blue A (made by Ciba Geigy), Eisen Katyron Blue GLH (made by Hodogaya Chemical), Lake Blue AFH (made by Kyowa Sangyo), Primocyanin 6GX (made by Inabata Sangyo), Brill Acid Green 6BH (Hodogaya) Chemical Blue), Cyan Blue BNRCS (Toyo Ink), Lionoyl Blue SL (Toyo Ink), etc. are used.

また、カラーインデクスNo.24411、23160、74180、74200、22800、23154、23155、24401、14830、15050、15760、15707、17941、74220、13425、13361、13420、11836、74140、74380、74350、74460等の有機系金属錯塩色材もあげられる。   In addition, the color index No. 24411, 23160, 74180, 74200, 22800, 23154, 23155, 24401, 14830, 15050, 15760, 15707, 17941, 74220, 13425, 13361, 13420, 11836, 74140, 74380, 74350, 74460, etc. There are also materials.

無機系色材としては群青、例えば、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、TiO2−ZnO−Co−NiO系等の無機顔料があげられる。 Examples of the inorganic color material include inorganic pigments such as ultramarine, for example, cobalt blue, cerulean blue, chromium oxide, and TiO 2 —ZnO—Co—NiO.

輝尽性蛍光体層を蒸着させるためには、支持体上に下引層を塗布し乾燥させた後、各種蒸着法により輝尽性蛍光体層を形成するのが好ましい。   In order to deposit the stimulable phosphor layer, it is preferable to form the stimulable phosphor layer by various deposition methods after applying the undercoat layer on the support and drying it.

なお、輝尽性蛍光体層を気相成長法にて形成させるには、代表的には図いのごとき蒸着装置を用いる。   In order to form the photostimulable phosphor layer by a vapor phase growth method, typically, a vapor deposition apparatus as shown in the figure is used.

図1において、1は蒸着装置、2は真空チャンバー、3は支持体回転機構(支持体回転機能)、4は支持体であり、さらに5が蒸発源、6が支持体表面温度制御ヒーターである。また、d1は支持体4と蒸発源5の間の距離である。 In FIG. 1, 1 is a vapor deposition apparatus, 2 is a vacuum chamber, 3 is a support rotating mechanism (support rotating function), 4 is a support, 5 is an evaporation source, and 6 is a support surface temperature control heater. . D 1 is the distance between the support 4 and the evaporation source 5.

〔保護層〕
また、本発明の輝尽性蛍光体層は保護層を有している。
[Protective layer]
The photostimulable phosphor layer of the present invention has a protective layer.

保護層は保護層用塗布液を輝尽性蛍光体層上に直接塗布して形成してもよいし、あらかじめ別途形成した保護層を輝尽性蛍光体層上に設置してもよい。あるいは別途形成した保護層上に輝尽性蛍光体層を形成し、支持体と設置する手段を採ってもよい。   The protective layer may be formed by directly coating a protective layer coating solution on the photostimulable phosphor layer, or a protective layer separately formed in advance may be installed on the photostimulable phosphor layer. Alternatively, a stimulable phosphor layer may be formed on a separately formed protective layer, and a means for setting with the support may be employed.

保護層の材料としては、酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリデン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ三フッ化−塩化エチレン、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体等の通常の保護層用材料が用いられる。他に透明なガラス基板を保護層としてもちいることもできる。   Materials for the protective layer include cellulose acetate, nitrocellulose, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyester, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyvinylidene chloride, nylon, polytetrafluoroethylene, polytrifluoride-chloride. Usual protective layer materials such as ethylene, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer are used. In addition, a transparent glass substrate can be used as a protective layer.

また、この保護層は蒸着法、スパッタリング法等により、SiC、SiO2、SiN、Al23等の無機物質を積層して形成してもよい。 In addition, this protective layer may be formed by laminating inorganic substances such as SiC, SiO 2 , SiN, Al 2 O 3 by vapor deposition, sputtering, or the like.

さらに、これら保護層の層厚は0.1〜2000μmが好ましい。   Furthermore, the thickness of these protective layers is preferably 0.1 to 2000 μm.

〔放射線画像変換パネルの使用法〕
本発明の輝尽性蛍光体の発光波長域は通常300〜500nmであり、一方輝尽励起波長域は500〜900nmであることが多い。最近、診断装置のダウンサイジング化が進み、放射画像変換パネルの画像読み取りに用いられる励起波長は高出力で、且つ、コンパクト化が容易な半導体レーザが好まれ、そのレーザ光の波長は680nmであることが多く、本発明の放射線画像変換パネルに組み込まれた輝尽性蛍光体は、680nmの励起波長を用いた時に、極めて良好な鮮鋭性を示すものであることが好ましい。
[How to use the radiation image conversion panel]
The emission wavelength range of the photostimulable phosphor of the present invention is usually 300 to 500 nm, while the stimulated excitation wavelength range is often 500 to 900 nm. Recently, downsizing of diagnostic devices has progressed, and a semiconductor laser that has a high output and is easy to make compact is preferred as an excitation wavelength used for reading an image of a radiation image conversion panel. The wavelength of the laser beam is 680 nm. In many cases, the photostimulable phosphor incorporated in the radiation image conversion panel of the present invention preferably exhibits extremely good sharpness when an excitation wavelength of 680 nm is used.

即ち、本発明の輝尽性蛍光体はいずれも500nm以下に主ピークを有する発光を示し、輝尽励起光の分離が容易でしかも受光器の分光感度とよく一致するため、効率よく受光できる結果、受像系の感度を高めることができる。   That is, all of the photostimulable phosphors of the present invention emit light having a main peak at 500 nm or less, the photostimulated excitation light is easily separated, and coincides well with the spectral sensitivity of the light receiver, so that light can be received efficiently. The sensitivity of the image receiving system can be increased.

レーザとしては、例えば、He−Neレーザ、He−Cdレーザ、Arイオンレーザ、Krイオンレーザ、N2レーザ、YAGレーザ及びその第2高調波、ルビーレーザ、半導体レーザ、各種の色素レーザ、銅蒸気レーザ等の金属蒸気レーザ等がある。通常はHe−NeレーザやArイオンレーザのような連続発振のレーザが望ましいが、パネル1画素の走査時間とパルスを同期させればパルス発振のレーザを用いることもできる。 Examples of lasers include He—Ne laser, He—Cd laser, Ar ion laser, Kr ion laser, N 2 laser, YAG laser and its second harmonic, ruby laser, semiconductor laser, various dye lasers, copper vapor There are metal vapor lasers such as lasers. Normally, a continuous wave laser such as a He—Ne laser or an Ar ion laser is desirable, but a pulsed laser can also be used if the scanning time and pulse of one pixel of the panel are synchronized.

また、特開昭59−22046号に示されるような、発光の遅延を利用して分離する方法によるときは、連続発振レーザを用いて変調するよりもパルス発振のレーザを用いる方が好ましい。   In addition, when using a method of separating light emission delay as disclosed in JP-A-59-22046, it is preferable to use a pulsed laser rather than a continuous wave laser.

上記の各種レーザ光源の中でも、半導体レーザは小型で安価であり、しかも変調器が不要であるので特に好ましく用いられる。   Among the various laser light sources described above, the semiconductor laser is particularly preferably used because it is small and inexpensive and does not require a modulator.

例えば、輝尽励起波長が500〜900nmで輝尽発光波長が300〜500nmにあるような実用上好ましい組合わせの場合、フィルタとしては例えば東芝社製C−39、C−40、V−40、V−42、V−44、コーニング社製7−54、7−59、スペクトロフィルム社製BG−1、BG−3、BG−25、BG−37、BG−38等の紫〜青色ガラスフィルタを用いることができる。又、干渉フィルタを用いると、ある程度、任意の特性のフィルタを選択して使用できる。光電変換装置としては、光電管、光電子倍増管、フォトダイオード、フォトトランジスタ、光導電素子等光量の変化を電子信号の変化に変換し得るものなら何れでもよい。   For example, in the case of a practically preferable combination in which the photostimulation excitation wavelength is 500 to 900 nm and the photostimulation emission wavelength is 300 to 500 nm, examples of the filter include C-39, C-40, and V-40 manufactured by Toshiba Corporation. Purple-blue glass filters such as V-42, V-44, Corning 7-54, 7-59, Spectrofilm BG-1, BG-3, BG-25, BG-37, BG-38, etc. Can be used. If an interference filter is used, a filter having an arbitrary characteristic can be selected and used to some extent. Any photoelectric conversion device may be used as long as it can convert a change in light quantity into a change in electronic signal, such as a photoelectric tube, a photomultiplier tube, a photodiode, a phototransistor, or a photoconductive element.

以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、無論、本発明の実施態様はこれらに限定されない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but it is needless to say that the embodiments of the present invention are not limited to these examples.

(実施例)
《放射線画像変換パネル試料1〜12(試料No.1〜12)の作製》
以下に示すように、0.5mm厚のアルミニウム板支持体の表面(平均表面粗さ0.02μm)に、ポリエステルをバー塗布機にて乾燥後の膜厚1.0μmの下引層を塗布して、70℃の熱風中にて乾燥した。
(Example)
<< Preparation of Radiation Image Conversion Panel Samples 1-12 (Sample Nos. 1-12) >>
As shown below, an undercoat layer having a film thickness of 1.0 μm after drying polyester with a bar coater was applied to the surface of an aluminum plate support having a thickness of 0.5 mm (average surface roughness of 0.02 μm). And dried in hot air at 70 ° C.

次に、図1で示した蒸着装置により、輝尽性蛍光体(CsBr:Eu)を用いて200μmの輝尽性蛍光体層を形成した。   Next, a stimulable phosphor layer having a thickness of 200 μm was formed using the stimulable phosphor (CsBr: Eu) by the vapor deposition apparatus shown in FIG.

真空チャンバー内を一旦排気した後、Arガスを導入して1.0×10-2Paとなるように真空度を調整し、支持体の表面温度を100℃となるように保持しながら、輝尽性蛍光体層の膜厚が400μmとなるまで蒸着を行ない放射線像変換パネル試料を作製した。 After evacuating the vacuum chamber, Ar gas is introduced and the degree of vacuum is adjusted to 1.0 × 10 −2 Pa and the surface temperature of the support is kept at 100 ° C. Vapor deposition was performed until the film thickness of the stimulable phosphor layer reached 400 μm to prepare a radiation image conversion panel sample.

なお図1に示した蒸着装置においては、支持体中心と直交する法線上に蒸着源を配置することとし支持体と蒸着源との距離d1(60cm)とした。蒸着中は支持体を回転させながら蒸着操作を行なった。 In the vapor deposition apparatus shown in FIG. 1, the vapor deposition source is disposed on the normal line orthogonal to the center of the support, and the distance d 1 (60 cm) between the support and the vapor deposition source is set. During the vapor deposition, the vapor deposition operation was performed while rotating the support.

次いで、保護層として四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体の薄層(膜厚2.0μm)で、輝尽性蛍光体層表面を覆い、乾燥空気の雰囲気内で支持体及び保護層周縁部を接着剤で封入して、蛍光体層が密閉された構造の放射線像変換パネル試料1を得た。   Next, the surface of the photostimulable phosphor layer is covered with a thin layer of tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (film thickness: 2.0 μm) as a protective layer, and the support and protective layer in an atmosphere of dry air The peripheral edge portion was sealed with an adhesive to obtain a radiation image conversion panel sample 1 having a structure in which the phosphor layer was sealed.

次に、表1に示すように、支持体の励起光反射率、下引層の膜厚、励起光透過率を変更した以外は放射線画像変換パネル試料1(試料No.1)と同様にして、放射線画像変換パネル試料2〜12(試料No.2〜12)を作製した。   Next, as shown in Table 1, the procedure was the same as that of the radiation image conversion panel sample 1 (sample No. 1) except that the excitation light reflectance of the support, the thickness of the undercoat layer, and the excitation light transmittance were changed. Radiation image conversion panel samples 2 to 12 (sample Nos. 2 to 12) were produced.

なお、試料No.11および12の下引層励起光透過率を低下させるには、カーボンブラックを必要量添加した。   Sample No. In order to lower the underlayer excitation light transmittance of 11 and 12, a necessary amount of carbon black was added.

また、支持体面の励起光反射率を変えるためには、支持体面の平均表面粗さを若干粗くした。   Further, in order to change the excitation light reflectance of the support surface, the average surface roughness of the support surface was slightly roughened.

《性能特性の評価》
下記の項目につき評価を行った。
<Evaluation of performance characteristics>
The following items were evaluated.

解像力(MTF)
鮮鋭性については、変調伝達関数(MTF)を求め評価した。
Resolution (MTF)
The sharpness was evaluated by obtaining a modulation transfer function (MTF).

各放射線画像変換パネルにCTFチャートを貼りつけた後、80kVpのX線を10mR(被写体までの距離;1.5m)照射した後、蛍光体層Aを有する面側から半導体レーザ光(690nm、パネル上でのパワー40mW)を照射して、直径100μmの半導体レーザ光でCTFチャートを走査し、読みとって求めた。表1の記載の値は、0.5lp/mmにおける放射線画像変換パネル1のMTF値を100とし、各パネルについて相対値で求めたものである。   After a CTF chart was attached to each radiation image conversion panel, 80 kVp X-rays were irradiated with 10 mR (distance to the subject; 1.5 m), and then a semiconductor laser beam (690 nm, panel from the surface side having the phosphor layer A) The power was 40 mW), the CTF chart was scanned with a semiconductor laser beam having a diameter of 100 μm, and read. The values described in Table 1 are obtained as relative values for each panel, with the MTF value of the radiation image conversion panel 1 at 0.5 lp / mm being 100.

輝度
輝尽性発光強度を測定した。
Luminance Stimulated luminescence intensity was measured.

評価は放射線像変換パネル全面に、管電圧80kVpのX線を照射し、パネルを100mWの半導体レーザー(680nm)で走査して励起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を光電子増倍管(浜松ホトニクス製:光電子増倍管R1305)を用い受光して電気信号に変換し、アナログ/デジタル変換して磁気テープにより記録した。   Evaluation is performed by irradiating the entire surface of the radiation image conversion panel with X-rays having a tube voltage of 80 kVp, scanning the panel with a 100 mW semiconductor laser (680 nm) and exciting the photoluminescence multiplier emitted from the phosphor layer. (Hamamatsu Photonics: Photomultiplier tube R1305) received light and converted into an electrical signal, analog / digital converted, and recorded on a magnetic tape.

記録したハードディスクをコンピューターで分析して、ハードディスクに記録されているX線平面画像のシグナル値から輝尽発光強度を求めた。   The recorded hard disk was analyzed with a computer, and the stimulated emission intensity was determined from the signal value of the X-ray planar image recorded on the hard disk.

結果は、試料No.1を100とした相対値で示した。   The result is Sample No. The relative value with 1 being 100 is shown.

膜付き性
放射線像変換パネルの表面に、格子状にカミソリで支持体面に達するまで傷を付け、セロテープ(登録商標)を圧着し、急激に引き剥がし剥離面積で5段階評価した。
Film-coated property The surface of the radiation image conversion panel was scratched in a lattice shape until reaching the support surface with a razor, and a cello tape (registered trademark) was pressure-bonded, peeled off rapidly, and evaluated according to a five-step peel area.

1 接着力は非常に弱く、完全に100%以上の面積が剥離する
2 50%以上100%未満の面積が剥離する
3 20%以上50%未満の面積が剥離する
4 接着力は強く、5%以上20%未満の面積が剥離する
5 接着力は非常に強く、剥離面積は5%未満か全く剥離されない
尚、評価4以上であれば実用上十分に膜付きが強いと見なせる。
1 Adhesive strength is very weak, 100% or more area peels completely 2 2 50% or more, less than 100% peels 3 3 20% or more, less than 50% peels 4 Adhesive strength is strong 5% The area less than 20% peels off. 5 Adhesive strength is very strong, and the peeled area is less than 5% or not peeled at all. If the evaluation is 4 or more, it can be considered that the film is sufficiently strong for practical use.

上記で得られた試料1〜12について、その評価結果を下記表1に示す。   The evaluation results of the samples 1 to 12 obtained above are shown in Table 1 below.

Figure 2006133153
Figure 2006133153

表1から明らかなように、本発明内の試料が本発明外(比較)の試料に比して明らかに優れていることがわかる。   As is apparent from Table 1, it can be seen that the sample in the present invention is clearly superior to the sample outside the present invention (comparative).

本発明の輝尽性蛍光体層の形成に用いる蒸着装置の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the vapor deposition apparatus used for formation of the photostimulable phosphor layer of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 蒸着装置
2 真空チャンバー
3 支持体回転機構(支持体回転機能)
4 支持体
5 蒸発源
6 支持体表面温度制御ヒーター
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Deposition apparatus 2 Vacuum chamber 3 Support body rotation mechanism (support body rotation function)
4 Support 5 Evaporation Source 6 Support Surface Temperature Control Heater

Claims (4)

支持体上に少なくとも下引層、輝尽性蛍光体層、保護層をこの順に積層してなり、かつ該蛍光体層がアルカリハライド系輝尽性蛍光体の柱状結晶体より構成されている放射線画像変換パネルにおいて、前記支持体の輝尽性蛍光体層側の励起光反射率が80%以上であり、中間層の励起光透過率が50%以上、100%以下でかつ膜厚が0.1〜10μmである、ことを特徴とする放射線画像変換パネル。 Radiation in which at least an undercoat layer, a stimulable phosphor layer, and a protective layer are laminated in this order on a support, and the phosphor layer is composed of columnar crystals of an alkali halide-based stimulable phosphor In the image conversion panel, the excitation light reflectance of the support on the side of the stimulable phosphor layer is 80% or more, the excitation light transmittance of the intermediate layer is 50% or more and 100% or less, and the film thickness is 0. A radiation image conversion panel characterized by having a thickness of 1 to 10 μm. 前記下引層の膜厚が、支持体の輝尽性蛍光体層側に設けられている全構成層の膜厚に対して、0.1〜20%であることを特徴とする請求項1記載の放射線画像変換パネル。 The film thickness of the undercoat layer is 0.1 to 20% with respect to the film thickness of all the constituent layers provided on the photostimulable phosphor layer side of the support. The radiation image conversion panel described. 前記アルカリハライド系輝尽性蛍光体の柱状結晶体が、CsBr系柱状結晶により構成されていることを特徴とする請求項1記載の放射線画像変換パネル。 The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the columnar crystal of the alkali halide stimulable phosphor is composed of a CsBr columnar crystal. 請求項1〜3のいずれか1項記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、支持体上に下引層を塗布し乾燥させた後、蒸着法により輝尽性蛍光体層を形成することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 In the manufacturing method of the radiographic image conversion panel of any one of Claims 1-3, after applying a subbing layer on a support body and drying, forming a photostimulable phosphor layer by a vapor deposition method. A method for producing a radiation image conversion panel.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN105972410A (en) * 2016-06-22 2016-09-28 苏州市盛百威包装设备有限公司 Infrared phototube bracket for packaging industry

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