JP2006133033A - 放射性汚染物の除染装置及び除染方法 - Google Patents
放射性汚染物の除染装置及び除染方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 本発明の放射性汚染物の除染装置は、中空円盤状の電極1と、該電極の一方の面に取り付けられたセラミックス製の円盤状の研磨材2と、前記電極に同軸に固定された導電性の回転軸3と、該回転軸を絶縁物13を介して保持すると共に回転駆動する駆動手段4と、前記回転軸の内部に形成された中空部に連通させて回転自在継手7を介して設けられた電解液の供給ノズル8と、前記回転軸に回転自在に設けられた電流供給端子11とを備え、前記電極は前記研磨材が取り付けられる面に電極内部の中空部に連通する複数の孔5を有し、前記回転軸の中空部と前記電極の中空部とを連通して形成されてなることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
(実施形態1)
図1に、本発明の一実施形態の放射性汚染物の除染装置の構成図を示す。同図に示すように、中空円盤状の電極1と、電極1の一方の円盤面に取り付けられた円盤状の研磨材2と、電極2に同軸に固定された導電性の回転軸3と、回転軸3を絶縁物を介して保持すると共に回転駆動する駆動手段4とを備えて、複合研磨装置として構成されている。電極1の研磨材2が取り付けられる面には、電極1の内部の中空部に連通する複数の孔5が穿設されている。この孔5は、電解液を研磨材2に浸透させるものであり、必要に応じて1〜複数個設ける。研磨材2としては、セラミックス製の研磨材が用いられ、研磨材2の下面の研磨面の中心部には凹部が形成されている。また、回転軸3の一方の端は電極1の内部に挿通して設けれ、回転軸3の中空部と電極1の中空部は孔6で連通されている。
(実施形態2)
図2に、本発明の他の実施形態の放射性汚染物の除染装置の構成図を示す。図において、図1実施形態と同一の部品には、同一の符号を付して説明を省略する。本実施形態が、図1実施形態と異なる点は、除染装置の移動操作を手動ではなく、機械により行うようにしたことにある。なお、図2は、建屋の壁面を除染する場合を例に示している。
2 研磨材
3 回転軸
4 駆動手段
5、6 孔
7 回転継手
8 電解液の供給ノズル
9 電解液供給装置
11 電流供給端子
12 直流電源
13 絶縁物
14 チャック
15 スピンドル
16 モータ
17 ケース
22 被研磨材
23 把持部
Claims (7)
- 中空円盤状の電極と、該電極の一方の面に取り付けられたセラミックス製の円盤状の研磨材と、前記電極に同軸に固定された導電性の回転軸と、該回転軸を絶縁物を介して保持すると共に回転駆動する駆動手段と、前記回転軸の内部に形成された中空部に連通させて回転自在継手を介して設けられた電解液の供給ノズルと、前記回転軸に回転自在に設けられた電気の供給端子とを備え、前記電極は前記研磨材が取り付けられる面に電極内部の中空部に連通する複数の孔を有し、前記回転軸の中空部と前記電極の中空部とを連通して形成されてなる放射性汚染物の除染装置。
- 前記研磨材は、円盤の外面中心部に凹部が設けられてなることを特徴とする請求項1に記載の放射性汚染物の除染装置。
- 前記駆動手段は、前記回転軸を絶縁物を介して把持するチャックと、該チャックに固定された回転円筒と、該回転円筒を回転駆動するモータと、これらを収納するケースと、該ケースに設けられた把持部とを有してなることを特徴とする請求項1乃至2に記載の放射性汚染物の除染装置。
- 前記把持部を把持する固定部を有し、前記ケースを3軸方向に移動自在に移動する走行手段を備えてなる請求項3に記載の放射性汚染物の除染装置。
- 前記電解液の流量を制御する制御手段を備えてなる請求項1乃至4のいずれか1項に記載の放射性汚染物の除染装置。
- 前記電極と前記回転軸がアルミニウムで形成され、前記電解液が水に可溶なリチウム塩であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の放射性汚染物の除染装置。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の除染装置を用いた放射性汚染物の除染方法であって、前記研磨材を除染対象物の表面に押し当て、前記電解液を供給して前記研磨材中に前記電解液を浸透させて除染対象物の表面を濡らし、前記電極と前記除染対象物の間に電流を流しながら、前記回転軸を回転して前記電極及び前記研磨材を回転させて前記除染対象物の表面を機械的及び電解的に研磨した後、前記除染対象物の表面の電解液を拭き取ってから放射線計測を行うことを特徴とする放射性汚染物の除染方法。
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WO2018181464A1 (ja) * | 2017-03-28 | 2018-10-04 | 株式会社Ihi | 生物付着抑制方法及び生物付着抑制装置 |
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