JP2006128714A - 真空処理室の蓋体開閉機構および蓋体開閉方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 蓋体開閉機構200は、車輪201aを備えて自走することで複数の真空処理装置100間を移動可能な台車201と、台車201上に設けられ、垂直状態と水平状態との間で屈曲可能な可動レール202aを備えた一対のレール202と、このレール202上を移動する可動軸受け部203を備えており、一対の可動軸受け部203を蓋体15の一対の支持軸16に嵌合させ、蓋体15を鉛直上方に浮上させて基体部14から離間させ、次に、蓋体15を支持した可動軸受け部203を台車201上に移動させることにより、基体部14の上部を開放させる。
【選択図】図6
Description
移動可能な台車と、
前記台車上に備えられ、前記蓋体を支持する支持部と、
を具備したことを特徴とする、真空処理室の蓋体開閉機構を提供する。
移動可能な台車を備え、複数の前記真空処理室に共通して設けられた蓋体開閉機構を、目的とする前記真空処理室に正対する位置に移動させ、
次に、前記蓋体開閉機構により前記蓋体を上方に浮上させて前記基体部から離間させ、
次に、前記蓋体を前記台車上に移動させて前記基体部を開放することを特徴とする、真空処理室の蓋体開閉方法を提供する。
[第1の実施形態]
図1は本発明の第1の実施形態に係る基板搬送装置が適用される真空処理装置の外観を示す斜視図、図2は本発明の第1の実施形態に係る基板搬送装置が適用される真空処理装置における真空予備室および真空処理室を示す断面図、図3は本発明の第1の実施形態に係る基板搬送装置を示す斜視図、図4および図5はその断面図である。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
図8は本発明の第2の実施形態に係る基板搬送装置を示す垂直断面図、図9は本発明の第2の実施形態に係る基板搬送装置の縮退状態を示す図、図10は発明の第2の実施形態に係る基板搬送装置の伸長状態を示す図である。なお、図9および図10はいずれも(a)は側面図、(b)は平面図である。
14……基体部
15……蓋体
16……支持軸
20……ロードロック室
30,40……ゲートバルブ
50……大気側搬送機構
60……真空ポンプ
70,170,300……基板搬送装置
70a……駆動モータ
70b……駆動ベルト
71……ベースプレート
71a,72a〜73a……スライドレール
71b……開口部
71c,72c〜73c……プーリ
71d,72d〜73d……ベルト
71e……固定部材
72,73,74……スライドプレート
72b〜73b……開口部
72e〜73e,72f〜73f……固定部材
74a……スライドピック部
74b……スライドベアリング部
100……真空処理装置
171,271,271′……ベース部
172,272,272′……スライドアーム
173,273,273′……スライドピック
174,273,274′……モータ
180,280……駆動伝達機構
181……スライドアーム駆動部
182……スライドピック駆動部
183……駆動プーリ
184……駆動ベルト
186……軸
187……プーリ(第1プーリ)
190……第1ベルト
191……第1係止部材
192……プーリ(第2プーリ)
195……第2ベルト
196……第2係止部材
270……下段搬送機構部
270′……上段搬送機構部
280′……第1駆動伝達機構
290……第2駆動伝達機構
G……基板
Claims (11)
- 基体部と該基体部に着脱自在に設けられた蓋体とを有する真空処理室において前記蓋体を開閉する真空処理室の蓋体開閉機構であって、
移動可能な台車と、
前記台車上に備えられ、前記蓋体を支持する支持部と、
を具備したことを特徴とする、真空処理室の蓋体開閉機構。 - 複数の前記真空処理室に共通して配備されるものであることを特徴とする、請求項1に記載の真空処理室の蓋体開閉機構。
- 前記支持部は、前記蓋体を支持しつつ鉛直方向に浮上させて前記基体部から離間させることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の真空処理室の蓋体開閉機構。
- 前記支持部は、前記蓋体を支持しつつ前記台車上に移動させて前記基体部を開放させるものであることを特徴とする、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の真空処理室の蓋体開閉機構。
- 前記支持部は、前記台車上で、前記蓋体を回転可能に支持するものであることを特徴とする、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の真空処理室の蓋体開閉機構。
- 前記支持部は、前記台車上に設けられた一対のレール上を移動するものであることを特徴とする、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の真空処理室の蓋体開閉機構。
- 前記支持部は、前記蓋体に設けられた支持軸と嵌合することを特徴とする、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の真空処理室の蓋体開閉機構。
- 前記真空処理室は、平面ディスプレイ基板を処理するものであることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の真空処理室の蓋体開閉機構。
- 基体部と該基体部に着脱自在に設けられた蓋体とを有する真空処理室において前記蓋体を開閉する真空処理室の蓋体開閉方法であって、
移動可能な台車を備え、複数の前記真空処理室に共通して設けられた蓋体開閉機構を、目的とする前記真空処理室に正対する位置に移動させ、
次に、前記蓋体開閉機構により前記蓋体を上方に浮上させて前記基体部から離間させ、
次に、前記蓋体を前記台車上に移動させて前記基体部を開放することを特徴とする、真空処理室の蓋体開閉方法。 - さらに、前記台車上に移動した前記蓋体を回転させることを特徴とする、請求項9に記載の真空処理室の蓋体開閉方法。
- さらに、回転させた前記蓋体をロックすることを特徴とする、請求項10に記載の真空処理室の蓋体開閉方法。
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