JP2006117671A - ジベンゾイルメタン誘導体、特定のアミドオイル、及び前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物を含む光保護組成物;光安定化方法 - Google Patents
ジベンゾイルメタン誘導体、特定のアミドオイル、及び前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物を含む光保護組成物;光安定化方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明の主題の一つによれば、化粧品的に許容可能な支持体中に、
(a)ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも一つのUVスクリーニング剤、及び
(b)式(I)の少なくとも一つのアミド単位を構造中に含む少なくとも一つのオイル;
(c)前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品または皮膚科学組成物が提案される。
【選択図】なし
Description
(a)ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも一つのUVスクリーニング剤、及び
(b)以下により詳細に定義される式(I)の少なくとも一つのアミド単位を構造中に含む少なくとも一つのオイル;
(c)前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品または皮膚科学組成物が提案される。
a)25℃で液体;
b)25℃で水不溶性または水非混和性;
c)乳化特性を有さない
を同時に有するいずれかの化合物を意味する。
− 2-メチルジベンゾイルメタン;
− 4-メチルジベンゾイルメタン;
− 4-イソプロピルジベンゾイルメタン;
− 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン;
− 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン;
− 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン;
− 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン;
− 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン;
− 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン。
− R1基は、飽和または不飽和の、脂肪族、環式脂肪族、または環状の、2から30の炭素原子、好ましくは2から22の炭素原子(両端を含む)を含む、任意に官能化された一価の炭化水素ベースの基を表し;
− R2、R3、及びR4基は、同一でも異なっても良く、水素、あるいは飽和または不飽和の、脂肪族、環式脂肪族、または環状の、1から30の炭素原子、好ましくは1から22の炭素原子(両端を含む)を含む、任意に官能化された一価の炭化水素ベースの基を表し;及び
− mは1または2である]。
R1が直鎖状または分枝状のC2−C22アルキル基;直鎖状または分枝状のC2−C22アルケニル基;アリール基を表し;
R2が水素原子あるいは直鎖状または分枝状のC1−C6アルキル基を表し;
R3が水素原子あるいは直鎖状または分枝状のC1−C6アルキル基を表し;
R4が直鎖状または分枝状のC1−C10アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状のC2−C10アルケニル基、あるいはステロール基を表すもの。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン、β−アラニン、N−ブチル−β−アラニン、アミノ酪酸、アミノカプロン酸、サルコシン、及びN−メチル−β−アラニン。
(1)下式のイソプロピルN-ラウロイルサルコシナート:
(i)ナフタレン誘導体、例えば米国特許第5 993 789号、第6 113 931号、第6 126 925号、及び第6 284 916号に記載のもの;
(ii)4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体、または4-ヒドロキシシンナマート誘導体、例えば特許出願WO 03/007 906に記載のもの;
(iii)フルオレン誘導体、例えば米国特許出願第2004 00579912号、第2004 00579914号、第2004 00579916号、及び第2004 062 726号に記載のもの;
(iv)ピペリジノール塩、例えば特許出願WO 03/007 906に記載のもの;
(v)これらの混合物。
(i)下式(II)のジエステル:
[式中、
− R5基は、同一でも異なっても良く、直鎖状または分枝状のC1−C22アルキル基を表し;
− R6及びR7基は、同一でも異なっても良く、直鎖状または分枝状のC1−C6アルキレン基を表し;
− k及びlは1から100、好ましくは1から10、より好ましくは2から7の数である]。
Aはカルボニル官能基を含む二つの一価基を含む、UV放射を吸収する発色団基であり;
R8は水素、直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状C1−C8アルコキシ基を表し、
R9は直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基を表す]。
R8は水素、直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状C1−C8アルコキシ基を表し、
R9は水素、あるいは直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基を表し、
R10は−C(O)CH3、−CO2R12、−C(O)NH2、及び−C(O)N(R13)2から選択され、
XはOまたはNHを表し、
R11は直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基を表し、
R12は直鎖状または分枝状C1−C20アルキル基を表し、
R13はそれぞれ独立に直鎖状または分枝状C1−C18アルキル基を表す]。
R10は−CO2R12を表し、
R11は直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基を表し、
R12は直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基を表し、
XはOを表す]。
− R14、R15、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、及びR32基は、同一でも異なっても良く、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;アミノまたはシアノ基;下式のエステル基を表し;
− R33及びR38基は、同一でも異なっても良く、置換されたまたはされていないジフェニルメチレン;置換されたまたはされていない9H-フルオレンを表し;
− R39基は、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30ヒドロキシアルキル;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;任意に置換されたエーテル;アミノ基を表し;
− R40及びR41基は、互いに独立に、水素、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30ヒドロキシアルキル;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;アミノ基、シアノ、ヒドロキシル、アミドまたはイミド、ハロゲン、任意に置換されたエーテル、エステル、またはウレタンを表し;
q、r、s、及びtは1から100の数であり;
a、b、c、d、e、及びfは0から4の数であり;
uは0から100の数である]。
R1は水素またはメチルを表し;
xは1または2であり;
1)xが1に等しい場合、
R2は水素;C1−C18アルキル基;C2−C18アルケニル基;プロパルギル基;グリシジル基;1から20の酸素原子で中断されたC2−C50アルキル基であって、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたもの;カルボキシル基または−COOZ基で置換されたC1−C4アルキル基を表し、
式中、Zは水素、C1−C4アルキル、フェニル、(COO−)pMp+基で置換されたC1−C4アルキルを表し、
式中、pは1から3の整数であり、Mは周期表の1、2及び3族から得られる金属イオン、またはZn、Cu、Ni若しくはCoであり、あるいは別法としてMはNP+(R”)4であり、R”はC1−C8アルキルまたはベンジルである;
2)xが2である場合、
R’はC1−C12アルキレン基;C4−C12アルケニレン基;キシリレン基;1から20の酸素原子で中断されたC1−C50アルキレン基で、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたものを表し;
Yは有機または鉱物アニオンを表し;
カチオンyの総電荷はアニオンzの総電荷に等しい]。
例えばCiba-Geigy社によりTinoguard QまたはTinoguard S-FXの名称で市販されている製品が挙げられる。
PABA、
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
ISP社により"Escalol 507"の名称で特に市販されているエチルヘキシルジメチルPABA、
グリセリルPABA、
BASF社により"Uvinul P25"の名称で市販されているPEG-25PABA。
Rona/EM Industries社により"Eusolex HMS"の名称で市販されているホモサラート、
Harrmann and Reimer社により"Neo Heliopan"の名称で市販されているエチルヘキシルサリチラート、
Scher社により"Dipsal"の名称で市販されているジプロピレングリコールサリチラート、
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan TS"の名称で市販されているTEAサリチラート。
BASF社により"Univul N539"の商標名で特に市販されているオクトクリレン、
BASF社により"Uvinul N35"の商標名で特に市販されているエトクリレン。
BASF社により"Uvinul 400"の商標名で市販されているベンゾフェノン-1、
BASF社により"Uvinul D50"の商標名で市販されているベンゾフェノン-2、
BASF社により"Uvinul M40"の商標名で市販されているベンゾフェノン-3またはオキシベンゾン、
BASF社により"Uvinul MS40"の商標名で市販されているベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
Norquay社により"Helisorb 11"の商標名で市販されているベンゾフェノン-6、
American Cyanamid社により"Spectra-Sorb UV-24"の商標名で市販されているベンゾフェノン-8、
BASF社によりの商標名で市販されているベンゾフェノン-9、
ベンゾフェノン-12、
BASF社により"Uvinul A Plus"の商標名で市販されているジエチルアミノフヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート。
Chimex社により"Mexoryl SD"の名称で製造されている3-ベンジリデンカンファー、
Merck社により"Eusolex 6300"の名称で市販されている4-メチルベンジリデンカンファー、
Chimex社により"Mexoryl SL"の名称で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
Chimex社により"Mexoryl SO"の名称で製造されているカンファーベンズアルコニウムメトスルファート、
Chimex社により"Mexoryl SX"の名称で製造されているテレフタリリデンカンファースルホン酸、
Chimex社により"Mexoryl SW"の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
Merck社により"Eusolex 232"の商標名で特に市販されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan AP"の商標名で市販されている二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート。
Rhodia Chimie社により"Silatrizole"の名称で市販されているドロメトリゾールトリシロキサン、
Fairmount Chemical社により"MIXXIM BB/100"の商標名で固体形態で、またはCiba Specialty Chemicals社により"Tinosorb M"の商標名で水性分散物として微粉化形態で市販されている、メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール。
Ciba-Geigy社により"Tinosorb S"の商標名で市販されているビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン、
BASF社により"Uvinul T150"の商標名で特に市販されているエチルヘキシルトリアゾン、
Sigma 3V社により"Uvasorb HEB"の商標名で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン。
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan MA"の商標名で市販されているメンチルアントラニラート。
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
Hoffmann LaRoche社により"Parsol SLX"の商標名で市販されている、例えばポリシリコーン-15といった、ベンザルマロナート官能基を含むポリオルガノシロキサン。
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタンジエン。
Sigma 3V社によりUvasorb K2Aの名称で市販されている2,4-ビス[5-(1-ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン
並びにこれらの混合物。
好ましい更なる有機光保護剤は以下のものから選択される:
エチルヘキシルサリチラート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンカンファースルホン酸、
二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
エチレンヘキシルトリアゾン、
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びこれらの混合物。
− シリカ及びアルミナ、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 500 SA"及び"Microtitanium Dioxide MT 100 SA"の製品、並びにTioxide社製の"Tioveil Fin"、"Tioveil OP"、"Tioveil MOTG"、及び"Tioveil IPM"の製品、
− アルミナ及びアルミニウムステアラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 T"の製品、
− アルミナ及びアルミニウムラウラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 S"の製品、
− 酸化鉄及び鉄ステアラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 F"の製品、
− シリカ、アルミナ、及びシリコーン、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 SAS"、"Microtitanium Dioxide MT 600 SAS"、及び"Microtitanium Dioxide MT 500 SAS"の製品、
− ナトリウムヘキサメタホスファート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 150 W"の製品、
− オクチルトリメトキシシラン、例えばDegussa社製の"T-805"の製品、
− アルミナ及びステアリン酸、例えばKemira社製の"UVT-M160"の製品、
− アルミナ及びグリセロール、例えばKemira社製の"UVT-M212"の製品、
− アルミナ及びシリコーン、例えばKemira社製の"UVT-M262"の製品。
− Sunsmart社により"Z-Cote"の名称で市販されている製品;
− Elementis社により"Nanox"の名称で市販されている製品;
− Nanophase Technologies社により"Nanogard WCD 2025"の名称で市販されている製品。
− Toshibi社により"Zinc Oxide CS-5"の名称で市販されている製品(ポリメチルハイドロゲンシロキサンで被覆されたZnO);
− Nanophase Technologies社により"Nanogard Zinc Oxide FN"の名称で市販されている製品(Finsolv TN、C12−C15アルキルベンゾアート中の40%分散物として);
− Daito社により"Daitopersion ZN-30"及び"Daitopersion ZN-50"の名称で市販されている製品(シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散物、シリカとポリメチルハイドロゲンシロキサンで被覆された30%または50%のナノ酸化亜鉛を含む);
− Daikin社により"NFD Ultrafine ZNO"の名称で市販されている製品(シクロペンタシロキサン中の分散物として、パーフルオロアルキルホスファートと、パーフルオロアルキルエチルに基づくコポリマーとで被覆されたZnO);
− Shin-Etsu社により"SPD-Z1"の名称で市販されている製品(シクロジメチルシロキサン中に分散された、シリコーングラフト化アクリルポリマーで被覆されたZnO);
− ISP社により"Escalol Z100"の名称で市販されている製品(エチルヘキシルメトキシシンナマート/PVP-ヘキサデセン/メチコーンコポリマー混合物中に分散されたアルミナ処理化ZnO);
− Fuji Pigment社により"Fuji ZNO-SMS-10"の名称で市販されている製品(シリカとポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたZnO);
− Elementis社により"Nanox Gel TN"の名称で市販されている製品(ヒドロキシステアリン酸重縮合物を有するC12−C15アルキルベンゾアート中に55%の濃度で分散されたZnO)。
− 抗汚染剤及び/またはフリーラジカル捕獲剤;
− 脱色素剤及び/または色素沈着促進剤;
− 抗グリケーション剤;
− NOシンターゼインヒビター;
− 皮膚または表皮巨大分子の合成の刺激剤及び/またはその分解の防止剤;
− 線維芽細胞増殖の刺激剤;
− ケラチノサイト増殖の刺激剤;
− 筋弛緩剤;
− 引き締め剤;
− 角質溶解剤;
− 保湿剤;
− 抗炎症剤;
− 細胞のエネルギー代謝への作用剤;
− 駆虫剤;
− サブスタンスPまたはCGRPアンタゴニスト。
以下の化合物が調製され、量は重量パーセンテージを表す。
全ての成分を含む水性相(B相)を、ウォーターバスで80℃に加熱する。全ての成分を含む脂肪相(A相)をウォーターバスで80℃に加熱する。ローターステイター(Moritz社製の機械)で攪拌しながらA相をB相に乳化する。C相を取り込ませ、穏やかに攪拌しながら混合物を室温に冷却する。製造の最後で所望の値にpHを調節するために、トリエタノールアミンを導入する。
Claims (49)
- 化粧品的に許容可能な支持体中に、
(a)ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも一つのUVスクリーニング剤、及び
(b)下式(I)の少なくとも一つのアミド単位を構造中に含む少なくとも一つのオイル:
− R1基は、飽和または不飽和の、脂肪族、環式脂肪族、または環状の、2から30の炭素原子、好ましくは2から22の炭素原子(両端を含む)を含む、任意に官能化された一価の炭化水素ベースの基を表し;
− R2、R3、及びR4基は、同一でも異なっても良く、水素、あるいは飽和または不飽和の、脂肪族、環式脂肪族、または環状の、1から30の炭素原子、好ましくは1から22の炭素原子(両端を含む)を含む、任意に官能化された一価の炭化水素ベースの基を表し;及び
− mは1または2である]
(c)前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物
を含むことを特徴とする、局所使用のための光保護組成物。 - 前記ジベンゾイルメタン誘導体が以下のもの:
− 2-メチルジベンゾイルメタン;
− 4-メチルジベンゾイルメタン;
− 4-イソプロピルジベンゾイルメタン;
− 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン;
− 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン;
− 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン;
− 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン;
− 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン;
− 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン
から選択される、請求項1に記載の組成物。 - 前記ジベンゾイルメタン誘導体が、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンまたはブチルメトキシジベンゾイルメタンである、請求項1または2に記載の組成物。
- 前記ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して0.01から10重量%、より好ましくは0.1から6重量%の範囲の含量で存在する、請求項1から3のいずれか一項に記載の組成物。
- 式(I)のオイルが以下のもの:
R1が直鎖状または分枝状のC2−C22アルキル基;直鎖状または分枝状のC2−C22アルケニル基;アリール基を表し;
R2が水素原子あるいは直鎖状または分枝状のC1−C6アルキル基を表し;
R3が水素原子あるいは直鎖状または分枝状のC1−C6アルキル基を表し;
R4が直鎖状または分枝状のC1−C10アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状のC2−C10アルケニル基、あるいはステロール基を表す
から選択される、請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。 - 式(I)のオイルが、R1(CO)−基がトルイル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、リノール酸、リノレン酸、オレイン酸、イソステアリン酸、2-エチルヘキサン酸、ココナッツオイル脂肪酸、パーム実オイル脂肪酸によって形成される群から選択される酸(これらの酸はヒドロキシ基を含むことも可能である)のアシル基であるものから選択される、請求項5に記載の組成物。
- 式(I)のオイルが、アミノ酸エステルの−N(R2)CH(R3)(CH2)m(CO)−の部分が、以下のアミノ酸:
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、プロリン、ヒドロキシプロリン、β−アラニン、N−ブチル−β−アラニン、アミノ酪酸、アミノカプロン酸、サルコシン、及びN−メチル−β−アラニン
に対応するものから選択される化合物から選択される、請求項5または6に記載の組成物。 - 式(I)のオイルが、OR4基に対応するアミノ酸エステルの部分がメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、tert-ブタノール、イソブタノール、3-メチル-1-ブタノール、2-メチル-1-ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール、2-エチルヘキサノール、デカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、ベヘニルアルコール、ホホバアルコール、2-ヘキサデシルアルコール、2-オクチルドデカノール、及びイソステアリルアルコールによって形成される群から選択されるアルコールから得られる化合物から選択される、請求項5から7のいずれか一項に記載の組成物。
- 少なくとも一つのアミド官能基を構造中に含むオイルが、本発明に係る組成物中に、組成物の全重量に対して好ましくは0.1から40重量%、より好ましくは1から20重量%の範囲の濃度で存在する、請求項1から9のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物が、40kcal/molから70kcal/molの範囲の励起三重項エネルギーを有する、請求項1から10のいずれか一項に記載の組成物。
- 前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物が以下のもの:
(i)ナフタレン誘導体;
(ii)4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体;
(iii)フルオレン誘導体;
(iv)ピペリジノール塩;
(v)これらの混合物
から選択される、請求項1から11のいずれか一項に記載の組成物。 - 式(II)、(III)または(IV)のナフタレン化合物が、2,6-ナフタレンジカルボン酸ジエステルまたはポリエステルである、請求項13に記載の組成物。
- 式(II)のナフタレン化合物が、2,6-ジエチルヘキシルナフタラートである、請求項14に記載の組成物。
- 式(IV)のナフタレン化合物が、2,6-ナフタレンジカルボン酸とトリプロピレングリコールのポリエステルであって、2-ブチルオクタノールでブロックされたもの、または2,6-ナフタレンジカルボン酸、トリプロピレングリコール、及びジエチレングリコールのポリエステルであって、2-エチルヘキサノールでブロックされたものから選択される、請求項14に記載の組成物。
- フルオレン誘導体が、下式(VI)、(VII)、(VIII)、(IX)、(X)、(XI)、(XII)、及び(XIII):
− R14、R15、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、及びR32基は、同一でも異なっても良く、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;アミノまたはシアノ基;下式のエステル基を表し;
− R33及びR38基は、同一でも異なっても良く、置換されたまたはされていないジフェニルメチレン;置換されたまたはされていない9H-フルオレンを表し;
− R39基は、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30ヒドロキシアルキル;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;任意に置換されたエーテル;アミノ基を表し;
− R40及びR41基は、互いに独立に、水素、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30ヒドロキシアルキル;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;アミノ基、シアノ、ヒドロキシル、アミドまたはイミド、ハロゲン、任意に置換されたエーテル、エステル、またはウレタンを表し;
q、r、s、及びtは1から100の数であり;
a、b、c、d、e、及びfは0から4の数であり;
uは0から100の数である]。
の一つに対応するもの、並びにこれらの化合物の混合物から選択される、請求項12に記載の組成物。 - 式(VI)の化合物が、R14及びR15基が分枝状C1−C15アルキル基を表す化合物である、請求項21に記載の組成物。
- 、式(VI)の化合物が、2-エチルヘキシル(9H-フルオレン-9-イリデン)アセタートの化合物である、請求項21に記載の組成物。
- 式(VII)の化合物が、R16及びR17基が分枝状C1−C15アルキル基を表す化合物である、請求項21に記載の化合物。
- 式(VII)の化合物が、ジイソプロピルフルオレンマロナート及びビス(2-エチルヘキシル)フルオレンマロナートの化合物から選択される、請求項24に記載の組成物。
- 式(VIII)の化合物が、R18及びR19基が分枝状C3−C20アルキル基を表す化合物、特に同時に2-エチルヘキシルを表す化合物である、請求項21に記載の組成物。
- 式(X)の化合物が、R22、R23、及びR24基が分枝状C1−C15アルキル基を表す化合物、とりわけR22及びR24基が同時に2-エチルヘキシルを表す化合物である、請求項21に記載の組成物。
- 式(XI)の化合物が、R25、R26、及びR27基が分枝状C1−C15アルキル基を表す化合物、とりわけR25及びR27基が同時に2-エチルヘキシルを表す化合物である、請求項21に記載の組成物。
- 式(XII)の化合物が、R34及びR36基がC1−C15アルキル基、特に2-メチルプロピル基を表し、R35が直鎖状C1−C15アルキル基、特にn-ブチル基を表し;R32及びR37基が同時にシアノ基を表し、R33及びR38基がジフェニルメチレン基を表す化合物である、請求項21に記載の組成物。
- 式(XIII)の化合物が、e及びfは0に等しく、R39基が分枝状C3−C20アルキル基またはC1−C15ヒドロキシアルキル基を表す化合物である、請求項21に記載の組成物。
- R39基が、ヒドロキシルエチル、1-ヒドロキシプロピル、2-ヒドロキシプロピル、1-ヒドロキシ-n-ブチル、1-ヒドロキシ-1-メチルプロピル、1-ヒドロキシ-2,2-ジメチルプロピル、及び2-ヒドロキシ-2-メチルプロピルから選択されるヒドロキシアルキルを表す、請求項31に記載の組成物。
- 式(XIII)の化合物が、2-エチルヘキシルシアノ(9H-フルオレン-9-イリデン)アセタート(またはオクトフルオレン)の化合物である、請求項31に記載の組成物。
- ピペリジノール塩が、下式(XIV)の化合物:
R1は水素またはメチルを表し;
xは1または2であり;
1)xが1に等しい場合、
R2は水素;C1−C18アルキル基;C2−C18アルケニル基;プロパルギル基;グリシジル基;1から20の酸素原子で中断されたC2−C50アルキル基であって、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたもの;カルボキシル基または−COOZ基で置換されたC1−C4アルキル基を表し、
式中、Zは水素、C1−C4アルキル、フェニル、(COO−)pMp+基で置換されたC1−C4アルキルを表し、
式中、pは1から3の整数であり、Mは周期表の1、2及び3族から得られる金属イオン、またはZn、Cu、Ni若しくはCoであり、あるいは別法としてMはNP+(R”)4基であり、R”はC1−C8アルキルまたはベンジルである;
2)xが2である場合、
R’はC1−C12アルキレン基;C4−C12アルケニレン基;キシリレン基;1から20の酸素原子で中断されたC1−C50アルキレン基で、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたものを表し;
Yは有機または鉱物アニオンを表し;
カチオンyの総電荷はアニオンzの総電荷に等しい]
から選択される、請求項12に記載の組成物。 - 式(XIV)の化合物が、R1及びR2が水素を表し、x=1であり、Yがシトラートアニオンを表す化合物から選択される、請求項34に記載の組成物。
- ジベンゾイルメタン誘導体の三重項エネルギーを受容可能な化合物が、組成物の全重量に対して0.1から25重量%、好ましくは0.2から10重量%、より好ましくは0.2から7重量%の範囲の含量で存在する、請求項1から36のいずれか一項に記載の組成物。
- 更に水溶性または脂溶性または一般的に使用される化粧品溶媒に不溶性である、他のUVA活性及び/またはUVB活性有機または鉱物光保護剤を含むことを特徴とする、請求項1から37のいずれか一項に記載の組成物。
- 更なる有機光保護剤が、アントラニラート;サリチル酸誘導体;カンファー誘導体;ベンゾフェノン誘導体;β,β-ジフェニルアクリラート誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンザルマロナート誘導体;ベンズイミダゾール誘導体;イミダゾリン;ビス-ベンザゾリル誘導体;p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体;メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;ベンゾキサゾール誘導体;スクリーニングポリマー及びスクリーニングシリコーン;α-アルキルスチレンベースのダイマー誘導体;4,4-ジアリールブタンジエン、並びにこれらの混合物から選択される、請求項38に記載の組成物。
- 有機UVスクリーニング剤が以下の化合物:
エチルヘキシルサリチラート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンカンファースルホン酸、
二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
エチレンヘキシルトリアゾン、
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びこれらの混合物
から選択されることを特徴とする、請求項39に記載の組成物。。 - 更なる鉱物光保護剤が、処理化または非処理の金属酸化物の顔料またはナノ顔料であることを特徴とする、請求項38に記載の組成物。
- 前記顔料またはナノ顔料が、処理化または非処理の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム、または酸化セリウム、及びこれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項41に記載の組成物。
- 更に皮膚を人工的に日焼けさせる及び/または着色化するための少なくとも一つの薬剤
を含むことを特徴とする、請求項1から42のいずれか一項に記載の組成物。 - 更に脂肪物質、有機溶媒、イオン性または非イオン性の、親水性または親油性の増粘剤、柔軟剤、湿潤剤、不透明化剤、安定化剤、皮膚軟化剤、シリコーン、消泡剤、香料、防腐剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、両イオン性または両性界面活性剤、活性剤、フィラー、ポリマー、噴射剤、及び酸性化剤または塩基性化剤から選択される少なくとも一つのアジュバントを含む、請求項1から43のいずれか一項に記載の組成物。
- 皮膚、唇、爪、毛髪、睫毛、眉毛、及び/または頭皮の美容処理用製品を製造するための、請求項1から44のいずれか一項に記載の組成物の使用。
- 皮膚、唇、爪、毛髪、及び/または頭皮のケア製品を製造するための、請求項1から44のいずれか一項に記載の組成物の使用。
- メイクアップ製品を製造するための、請求項1から44のいずれか一項に記載の組成物の使用。
- 少なくとも一つのアミド単位を構造中に含むオイルと、請求項1から44のいずれか一項に定義された前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物との組合せを介した、UV放射に対する請求項1から44のいずれか一項に定義されたジベンゾイルメタン誘導体の光安定化方法。
- ジベンゾイルメタン誘導体のUV光に対する安定化を改良するための、請求項1から44のいずれか一項に定義された少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体を含む化粧品または皮膚科学的組成物における、少なくとも一つのアミド単位を構造中に含むオイルと、請求項1から44のいずれか一項に定義されたジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物との組み合わせの使用。
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