JP2006113550A - 偏光選択的ブレーズド回折光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 所与の幾何学的経路に沿って延び、それぞれがその延長方向(R1,R2,R3)に垂直なある幅(g1,g2,g3)を有する複数の隣接するブレーズ構造(3,4,5)を備える偏光選択的ブレーズド回折光学素子(1)であって、電磁放射線の2つの相互に直交する偏光状態のうちの一方に対してブレーズ効果が最適になるように選択される偏光選択的ブレーズド回折光学素子。
【選択図】図1
Description
しかし、今までのところ、半径方向または方位角方向に偏光した光を生成するのは非常に複雑な作業であった。例えば、これらの偏光した光は、相互に直角方向に偏光しているTEM01およびTEM10エルミート・ガウス・モードを重畳することによりレーザ共振器内、またはマッハ−ツェンダー・タイプの干渉計を使用することによりビーム経路内で生成することができる。また、モード形成ホログラフィおよび複屈折素子を使用することもできる。
サブ構造、それ故、光学素子も、例えば、半導体製造の周知の方法により容易に製造することができる。
延長方向に垂直に間隔を置いて設置することもできる。個々のサブ構造は隣接することもできるし、または延長方向に間隔を有することもできる。
本発明による回折光学素子の好ましい実施形態の場合には、個々のサブ構造を備える領域の他に、上記光学素子は、少なくともほぼランプ形のプロファイルを有する従来のブレーズ構造を含むもう1つの領域を有する。ブレーズ構造が個々のサブ構造と一緒に環状の幾何学的形状を形成している場合には、従来のブレーズ構造を有する領域は、好適には、素子の中心に、すなわちブレーズ周期(延長方向に垂直)が画像形成するためのブレーズド回折光学素子で最大になる場所に配置することが好ましい。
個々のサブ構造は、キャリアの頂面上に隆起した形を備えることができる。しかし、また、個々のサブ構造をキャリア(例えば、平らな頂面を有する)内に埋め込むこともできるし、側面を囲んでいるキャリア材料の屈折率とは異なる屈折率を有することもできる。
より詳細には、回折光学素子は、可視スペクトル領域、赤外線領域または紫外線領域内に波長を有する電磁放射線用に設計することができる。
するように位相素子を設置することができる。上記厚さは、特に、2πの位相遅延が360度のところで達成されるように選択される。もちろん、位相素子も、ビーム上に他の局所的に変化する位相変位を与えるように配置することもできる。
個々のサブ構造6、7、8の高さhは、ブレーズ効果が最適になるように選択される。格子幅が広く、入射がほとんど垂直な場合には、高さhは式(max(neff)−min(neff))h=λから近似により入手される。ここで、λは電磁放射線の波長であり、max(neff)およびmin(neff)は、それぞれ所望の偏光(TEまたはTM偏光)に対する実効屈折率の最大値および最小値である。
のサブ構造6、7および8は、屈折率n1を有する下層10および屈折率n2を有する上層11により形成される。下層10は高さh1を有し、上層11は高さh2を有する。さらに、もう1つの層12は、下層10の領域間に配置されている。層12は、屈折率n3を有する材料から形成され、高さh3を有する。実際には、h3=h2およびn2=n3のこのような構造は、例えば、図9に示すような下層10を最初に形成することにより形成することができる。その後で、1回のコーティング・ステップが実行されるが、理想的には図8の構造になることが望ましい。
残りの自由なパラメータは、充填割合fおよびサブ・ラムダ波長パターンの波長標準化格子周期sg/λである。下層においては、充填割合fは、屈折率n1を有する材料で満たされる格子周期の一部を示す。上層においては、屈折率n2を有する材料に適用される。異なる標準化格子周期sg/λの場合に充填割合fが変化すると、neff TMがいつでもneff TEより大きいこと、およびfの領域が存在することを理解することができるだろう。この場合、neff TMまたはneff TEは、プラトー類似のプロファイルを示し、それ故、あるf領域内においてはfからほとんど独立している。例えば、sg/λ=0.2の場合には、0.5<f<1の間のTM偏光は、ほとんどfから独立している。同時に、図10に示すように、TE偏光はこの領域内で大きく増大する。この図は、TEおよびTM偏光に対する充填割合fへの実効屈折率neffの依存性を示す。対向プロファイルはsg/λ=0.5からのものである。この場合、図13に示すように、0<f<0.5の領域内のTE偏光に対してプラトー類似のプロファイルが存在し、上記領域内でTM偏光に対して大きな増大が見られる。
部のところの最大neff TE=1.86が適用されるように、充填割合を決定した。個々の層の高さhは、ブレーズ状態から入手される。
も選択しなければならない。
Claims (16)
- 所与の幾何学的経路に沿って延び、それぞれがその延長方向(R1,R2,R3)に垂直なある幅(g1,g2,g3)を有する複数の隣接するブレーズ構造(3,4,5)を備える偏光選択的ブレーズド回折光学素子(1)であって、
前記幅が、前記回折光学素子(1)が設計される電磁放射線の波長(λ)より長く、前記各ブレーズ構造が、前記延長方向(R1,R2,R3)に所定の周期(sg)により相互に隣接して配置される複数の個々のサブ構造(6,7,8)を備え、前記サブ構造が前記ブレーズ効果を提供し、それぞれが、上から見た場合、前記延長方向(R1,R2,R3)に平行なその寸法が、前記延長方向(R1,R2,R3)に垂直に変化するが、前記電磁放射線の波長(λ)より常に小さく、前記延長方向(R1,R2,R3)に垂直なその最大寸法が、前記電磁放射線の波長(λ)より大きい閉じた幾何学的表面の形をしていて、前記周期(sg)に対する前記延長方向(R1,R2,R3)の前記個々の構造(6,7,8)の充填割合(f)が、前記延長方向(R1,R2,R3)に垂直な位置の関数として、前記電磁放射線の2つの相互に直交する偏光状態のうちの一方に対して前記ブレーズ効果が最適になるように選択される偏光選択的ブレーズド回折光学素子。 - 前記個々のサブ構造(6,7,8)が、第1の屈折率(n1)を有する第1の層(10)、および前記第1の屈折率(n1)とは異なる第2の屈折率(n2)を有する第2の層(11)を備え、前記第2の層(11)が前記第1の層(10)上に配置されている請求項1に記載の素子。
- 前記第2の屈折率(n2)を有する第3の層(12)が、前記第1の層(10)の範囲内の前記個々のサブ構造(6,7,8)間に配置されている請求項2に記載の素子。
- 前記第2および第3の層の高さが等しい請求項3に記載の素子。
- 個々の構造(12)が前記個々のサブ構造間に配置され、前記個々の構造(12)が、第3の屈折率(n3)を有する第3の層(12)および第4の屈折率(n4)を有する第4の層を備える請求項2に記載の素子。
- 前記充填割合が0〜1の全領域をカバーしないように、前記充填割合が選択される前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- 前記充填割合でカバーされる範囲の大きさが、0.7以下である前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- 前記2つの直交偏光状態が直線偏光状態である前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- 前記一方の偏光状態の前記電磁放射線に対する前記実効屈折率の所定のプロファイルになるように、前記充填割合が選択される前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- 前記ブレーズ構造(3,4,5)の前記幅(g1,g2,g3)が、前記素子(1)が画像形成特性を有するように変化する前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- 前記隣接するブレーズ構造(3,4,5)が、上から見た場合、それぞれリングの形をしている前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- ブレーズ構造の前記個々のサブ構造(6,7,8)が、それぞれ回転対称になるように配置される前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- 前記所定の幾何学的経路が、内蔵されていない経路ラインである請求項1〜8の何れか1項に記載の素子。
- 前記回折素子の前後に、前記回折素子上に入射するかまたは前記回折素子からの前記電磁ビームの位相変位を局所的に変化させる位相素子を配置することができる前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- 偏光素子が前記回折素子の前に配置され、前記偏光素子が前記回折素子への前記電磁ビームの少なくとも一部を前記一方の直交偏光状態に予め偏光する前記請求項の何れか1項に記載の素子。
- 前記請求項の何れか1項に記載の少なくとも1つの偏光選択的ブレーズド回折光学素子(1)を備える対物レンズ。
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