JP2006108487A - 窒化ガリウム系発光ダイオード - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 最底層がサファイヤ材質の基板で、基板の上のバッファ層の材質が窒化アルミニウムガリウムインジウムで、n型窒化ガリウム層がバッファ層の上に形成され、n型窒化ガリウム層の上の活性発光層の材質が窒化インジウムガリウムとされ、活性発光層の上のp型クラッド層の材質がマグネシウムドープ窒化アルミニウムインジウムとされ、p型クラッド層の上のp型コンタクト層の材質が窒化ガリウムとされ、p型コンタクト層の上のバリアバッファ層の材質が窒化マグネシウム或いは窒化マグネシウム/窒化インジウム或いは窒化マグネシウム/窒化インジウムガリウムとされ、バリアバッファ層の上の透明電極の材質がITOとされ、n型窒化ガリウム層の上のn型電極層の材質がTi/Al或いはCr/Auとされる。
【選択図】 図3
Description
サファイヤを材料とする基板と、
該基板の上に位置し、窒化アルミニウムガリウムインジウム(Al1-x-y Gax Iny N)、そのうち0≦x<1、0≦y<1、で形成されたバッファ層と、
該バッファ層の上に位置するn型窒化ガリウム(GaN)層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し窒化インジウムガリウム(InGaN)で形成された活性発光層と、
該活性発光層の上に位置し、マグネシウムドープ窒化アルミニウムインジウム(Al1-x Inx N)、そのうち0≦x<1、で形成されたp型クラッド層と、
該p型クラッド層の上に位置し、窒化ガリウム(GaN)で形成されたp型コンタクト層と、
該p型コンタクト層の上に位置し、窒化マグネシウム(MgN)で形成されたバリアバッファ層と、
該バリアバッファ層の上に位置し、ITOで形成された透明コンタクト層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し、Ti/Al或いはCr/Auで形成されたn型電極層と、
を具えたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項2の発明は、請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、バリアバッファ層の厚さが5Åから200Åの間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項3の発明は、請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、バリアバッファ層の成長温度が摂氏500度から1200度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項3の発明は、請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、バリアバッファ層の成長温度が摂氏500度から1200度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項4の発明は、請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の厚さが5000Å以下とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項5の発明は、請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の成長温度が摂氏100度から600度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項6の発明は、請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の材料が、n型透明導電酸化物層(TCO)或いはp型透明導電酸化物層(TCO)を包含し、
n型透明導電酸化物層(TCO)は、ITO、CTO、ZnO:Al、ZnGa.sub.2O.sub.4、SnO.sub2:Sb、Ga.sub2O.sub.3:Sn、Ga.sub.2O.sub.3:Sn,AgInO.sub.2:Sn,In.sub.2O.sub.3:Znを包含し、
p型透明導電酸化物層(TCO)は、CuAlO.sub.2、LaCuOS、NiO、CuGaO.sub.2、SrCu.sub.2O.sub.2を包含することを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項7の発明は、発光輝度を増した窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、
サファイヤを材料とする基板と、
該基板の上に位置し、窒化アルミニウムガリウムインジウム(Al1-x-y Gax Iny N)、そのうち0≦x<1、0≦y<1、で形成されたバッファ層と、
該バッファ層の上に位置するn型窒化ガリウム(GaN)層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し窒化インジウムガリウム(InGaN)で形成された活性発光層と、
該活性発光層の上に位置し、マグネシウムドープ窒化アルミニウムインジウム(Al1-x Inx N)、そのうち0≦x<1、で形成されたp型クラッド層と、
該p型クラッド層の上に位置し、窒化ガリウム(GaN)で形成されたp型コンタクト層と、
該p型コンタクト層の上に位置し、窒化マグネシウム/窒化インジウム(MgN/InN)で形成された短周期超格子バリアバッファ層と、
該バリアバッファ層の上に位置し、ITOで形成された透明コンタクト層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し、Ti/Al或いはCr/Auで形成されたn型電極層と、
を具えたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項8の発明は、請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、短周期超格子バリアバッファ層の材料が窒化マグネシウム/窒化インジウム(MgN/InN)で、且つその構造は、窒化マグネシウムが上で窒化インジウムが下であるか、或いは窒化マグネシウムが下で窒化インジウムが上であり、この構造の重複回数が2以上とされ、その厚さがそれぞれ5Åから200Åの間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項9の発明は、請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、短周期超格子バリアバッファ層(MgN/InN)の成長温度が摂氏500度から1200度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項10の発明は、請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の厚さが5000Å以下とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項11の発明は、請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の成長温度が摂氏100度から600度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項12の発明は、請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の材料が、n型透明導電酸化物層(TCO)或いはp型透明導電酸化物層(TCO)を包含し、
n型透明導電酸化物層(TCO)は、ITO、CTO、ZnO:Al、ZnGa.sub.2O.sub.4、SnO.sub2:Sb、Ga.sub2O.sub.3:Sn、Ga.sub.2O.sub.3:Sn,AgInO.sub.2:Sn,In.sub.2O.sub.3:Znを包含し、
p型透明導電酸化物層(TCO)は、CuAlO.sub.2、LaCuOS、NiO、CuGaO.sub.2、SrCu.sub.2O.sub.2を包含することを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項13の発明は、発光輝度を増した窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、
サファイヤを材料とする基板と、
該基板の上に位置し、窒化アルミニウムガリウムインジウム(Al1-x-y Gax Iny N)、そのうち0≦x<1、0≦y<1、で形成されたバッファ層と、
該バッファ層の上に位置するn型窒化ガリウム(GaN)層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し窒化インジウムガリウム(InGaN)で形成された活性発光層と、
該活性発光層の上に位置し、マグネシウムドープ窒化アルミニウムインジウム(Al1-x Inx N)、そのうち0≦x<1、で形成されたp型クラッド層と、
該p型クラッド層の上に位置し、窒化ガリウム(GaN)で形成されたp型コンタクト層と、
該p型コンタクト層の上に位置し、窒化マグネシウム/窒化インジウムガリウム(MgN/Inx Ga1-x N)で形成された短周期超格子バリアバッファ層と、
該バリアバッファ層の上に位置し、ITOで形成された透明コンタクト層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し、Ti/Al或いはCr/Auで形成されたn型電極層と、
を具えたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項14の発明は、請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、短周期超格子バリアバッファ層の材料が窒化マグネシウム/窒化インジウムガリウム(MgN/Inx Ga1-x N)で、且つその構造は、窒化マグネシウムが上で窒化インジウムガリウムが下であるか、或いは窒化マグネシウムが下で窒化インジウムガリウムが上であり、この構造の重複回数が2以上とされ、その厚さがそれぞれ5Åから200Åの間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項15の発明は、請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、短周期超格子バリアバッファ層の成長温度が摂氏500度から1200度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項16の発明は、請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の厚さが5000Å以下とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項17の発明は、請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の成長温度が摂氏100度から600度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
請求項18の発明は、請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の材料が、n型透明導電酸化物層(TCO)或いはp型透明導電酸化物層(TCO)を包含し、
n型透明導電酸化物層(TCO)は、ITO、CTO、ZnO:Al、ZnGa.sub.2O.sub.4、SnO.sub2:Sb、Ga.sub2O.sub.3:Sn、Ga.sub.2O.sub.3:Sn,AgInO.sub.2:Sn,In.sub.2O.sub.3:Znを包含し、
p型透明導電酸化物層(TCO)は、CuAlO.sub.2、LaCuOS、NiO、CuGaO.sub.2、SrCu.sub.2O.sub.2を包含することを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオードとしている。
n型透明導電酸化物層(TCO)、例えば、ITO、CTO、ZnO:Al、ZnGa.sub.2O.sub.4、SnO.sub2:Sb、Ga.sub2O.sub.3:Sn、Ga.sub.2O.sub.3:Sn,AgInO.sub.2:Sn,In.sub.2O.sub.3:Zn、或いは、p型透明導電酸化物層(TCO)、例えば、CuAlO.sub.2、LaCuOS、NiO、CuGaO.sub.2、SrCu.sub.2O.sub.2。
11 基板
12 バッファ層
13 アンドープn型窒化ガリウム層
14 n型窒化ガリウム層
15 多重量子井戸層
16 クラッド層
17 p型窒化ガリウム層
18 透明コンタクト層
19 透明コンタクト層
30 発光ダイオード
31 基板
32 バッファ層
33 n型窒化ガリウム層
34 活性発光層
35 p型クラッド層
36 p型コンタクト層
37 バリアバッファ層
38 透明コンタクト層
39 n型電極層
40 発光ダイオード
41 基板
42 バッファ層
43 n型窒化ガリウム層
44 活性発光層
45 p型クラッド層
46 p型コンタクト層
47 バリアバッファ層
48 透明コンタクト層
49 n型電極層
50 発光ダイオード
51 基板
52 バッファ層
53 n型窒化ガリウム層
54 活性発光層
55 p型クラッド層
56 p型コンタクト層
57 バリアバッファ層
58 透明コンタクト層
59 n型電極層
Claims (18)
- 発光輝度を増した窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、
サファイヤを材料とする基板と、
該基板の上に位置し、窒化アルミニウムガリウムインジウム(Al1-x-y Gax Iny N)、そのうち0≦x<1、0≦y<1、で形成されたバッファ層と、
該バッファ層の上に位置するn型窒化ガリウム(GaN)層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し窒化インジウムガリウム(InGaN)で形成された活性発光層と、
該活性発光層の上に位置し、マグネシウムドープ窒化アルミニウムインジウム(Al1-x Inx N)、そのうち0≦x<1、で形成されたp型クラッド層と、
該p型クラッド層の上に位置し、窒化ガリウム(GaN)で形成されたp型コンタクト層と、
該p型コンタクト層の上に位置し、窒化マグネシウム(MgN)で形成されたバリアバッファ層と、
該バリアバッファ層の上に位置し、ITOで形成された透明コンタクト層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し、Ti/Al或いはCr/Auで形成されたn型電極層と、
を具えたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。 - 請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、バリアバッファ層の厚さが5Åから200Åの間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、バリアバッファ層の成長温度が摂氏500度から1200度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の厚さが5000Å以下とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の成長温度が摂氏100度から600度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項1記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の材料が、n型透明導電酸化物層(TCO)或いはp型透明導電酸化物層(TCO)を包含し、
n型透明導電酸化物層(TCO)は、ITO、CTO、ZnO:Al、ZnGa.sub.2O.sub.4、SnO.sub2:Sb、Ga.sub2O.sub.3:Sn、Ga.sub.2O.sub.3:Sn,AgInO.sub.2:Sn,In.sub.2O.sub.3:Znを包含し、
p型透明導電酸化物層(TCO)は、CuAlO.sub.2、LaCuOS、NiO、CuGaO.sub.2、SrCu.sub.2O.sub.2を包含することを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。 - 発光輝度を増した窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、
サファイヤを材料とする基板と、
該基板の上に位置し、窒化アルミニウムガリウムインジウム(Al1-x-y Gax Iny N)、そのうち0≦x<1、0≦y<1、で形成されたバッファ層と、
該バッファ層の上に位置するn型窒化ガリウム(GaN)層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し窒化インジウムガリウム(InGaN)で形成された活性発光層と、
該活性発光層の上に位置し、マグネシウムドープ窒化アルミニウムインジウム(Al1-x Inx N)、そのうち0≦x<1、で形成されたp型クラッド層と、
該p型クラッド層の上に位置し、窒化ガリウム(GaN)で形成されたp型コンタクト層と、
該p型コンタクト層の上に位置し、窒化マグネシウム/窒化インジウム(MgN/InN)で形成された短周期超格子バリアバッファ層と、
該バリアバッファ層の上に位置し、ITOで形成された透明コンタクト層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し、Ti/Al或いはCr/Auで形成されたn型電極層と、
を具えたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。 - 請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、短周期超格子バリアバッファ層の材料が窒化マグネシウム/窒化インジウム(MgN/InN)で、且つその構造は、窒化マグネシウムが上で窒化インジウムが下であるか、或いは窒化マグネシウムが下で窒化インジウムが上であり、この構造の重複回数が2以上とされ、その厚さがそれぞれ5Åから200Åの間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、短周期超格子バリアバッファ層(MgN/InN)の成長温度が摂氏500度から1200度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の厚さが5000Å以下とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の成長温度が摂氏100度から600度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項7記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の材料が、n型透明導電酸化物層(TCO)或いはp型透明導電酸化物層(TCO)を包含し、
n型透明導電酸化物層(TCO)は、ITO、CTO、ZnO:Al、ZnGa.sub.2O.sub.4、SnO.sub2:Sb、Ga.sub2O.sub.3:Sn、Ga.sub.2O.sub.3:Sn,AgInO.sub.2:Sn,In.sub.2O.sub.3:Znを包含し、
p型透明導電酸化物層(TCO)は、CuAlO.sub.2、LaCuOS、NiO、CuGaO.sub.2、SrCu.sub.2O.sub.2を包含することを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。 - 発光輝度を増した窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、
サファイヤを材料とする基板と、
該基板の上に位置し、窒化アルミニウムガリウムインジウム(Al1-x-y Gax Iny N)、そのうち0≦x<1、0≦y<1、で形成されたバッファ層と、
該バッファ層の上に位置するn型窒化ガリウム(GaN)層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し窒化インジウムガリウム(InGaN)で形成された活性発光層と、
該活性発光層の上に位置し、マグネシウムドープ窒化アルミニウムインジウム(Al1-x Inx N)、そのうち0≦x<1、で形成されたp型クラッド層と、
該p型クラッド層の上に位置し、窒化ガリウム(GaN)で形成されたp型コンタクト層と、
該p型コンタクト層の上に位置し、窒化マグネシウム/窒化インジウムガリウム(MgN/Inx Ga1-x N)で形成された短周期超格子バリアバッファ層と、
該バリアバッファ層の上に位置し、ITOで形成された透明コンタクト層と、
該n型窒化ガリウム(GaN)層の上に位置し、Ti/Al或いはCr/Auで形成されたn型電極層と、
を具えたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。 - 請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、短周期超格子バリアバッファ層の材料が窒化マグネシウム/窒化インジウムガリウム(MgN/Inx Ga1-x N)で、且つその構造は、窒化マグネシウムが上で窒化インジウムガリウムが下であるか、或いは窒化マグネシウムが下で窒化インジウムガリウムが上であり、この構造の重複回数が2以上とされ、その厚さがそれぞれ5Åから200Åの間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、短周期超格子バリアバッファ層の成長温度が摂氏500度から1200度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の厚さが5000Å以下とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の成長温度が摂氏100度から600度の間とされたことを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
- 請求項13記載の窒化ガリウム系発光ダイオードにおいて、透明コンタクト層の材料が、n型透明導電酸化物層(TCO)或いはp型透明導電酸化物層(TCO)を包含し、
n型透明導電酸化物層(TCO)は、ITO、CTO、ZnO:Al、ZnGa.sub.2O.sub.4、SnO.sub2:Sb、Ga.sub2O.sub.3:Sn、Ga.sub.2O.sub.3:Sn,AgInO.sub.2:Sn,In.sub.2O.sub.3:Znを包含し、
p型透明導電酸化物層(TCO)は、CuAlO.sub.2、LaCuOS、NiO、CuGaO.sub.2、SrCu.sub.2O.sub.2を包含することを特徴とする、窒化ガリウム系発光ダイオード。
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